[發(fā)明專利]一種單晶棒的生產(chǎn)工藝及設(shè)備在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211541972.2 | 申請(qǐng)日: | 2022-12-02 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115821382A | 公開(kāi)(公告)日: | 2023-03-21 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張向東;章斌;王林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 衢州晶哲電子材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | C30B27/02 | 分類號(hào): | C30B27/02;C30B29/06 |
| 代理公司: | 衢州維創(chuàng)維邦專利代理事務(wù)所(普通合伙) 33282 | 代理人: | 包琳 |
| 地址: | 324022 浙江省*** | 國(guó)省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 單晶棒 生產(chǎn)工藝 設(shè)備 | ||
1.一種單晶棒的生產(chǎn)工藝,其特征在于:包括以下步驟:
步驟S1:將多晶硅的裝料和熔化:將高純多晶硅料粉碎,并在硝酸和氫氟酸的混合溶液中清洗外表面,除去可能的金屬雜質(zhì);將粉碎后的高純多晶硅料放入單晶爐中的石墨坩堝中;將單晶爐抽真空,再充入保護(hù)氣,最后加熱升溫,加熱溫度超過(guò)硅材料的熔點(diǎn)1412℃,使硅材料充分熔化;
步驟S2:引晶:將單晶籽晶固定在籽晶軸上,并和籽晶軸一起旋轉(zhuǎn),將籽晶緩緩下降,距液面10mm處暫停片刻,待籽晶溫度接近熔硅溫度時(shí),將籽晶輕輕浸入熔硅,使頭部首先少量溶解,然后和熔硅形成一個(gè)固液界面;將籽晶逐步上升,與籽晶相連并離開(kāi)固液界面的硅溫度降低,形成單晶硅;
步驟S3:縮頸:快速向上提拉籽晶,使新結(jié)晶的單晶硅的直徑達(dá)到3mm,長(zhǎng)度約為此時(shí)晶體直徑的6~10倍,旋轉(zhuǎn)速度為2~10rpm;石墨坩堝沿晶體相反方向旋轉(zhuǎn),晶體的旋轉(zhuǎn)速度比石墨坩堝快1~3倍;
步驟S4:將晶體控制到所需的目標(biāo)直徑;
步驟S5:等徑生長(zhǎng):石墨坩堝和晶體相互反方向旋轉(zhuǎn),晶體的旋轉(zhuǎn)速度為2.5~20rpm,石墨坩堝的旋轉(zhuǎn)速度為-1.25~-10rpm;根據(jù)熔體和單晶爐的狀況,控制晶體等徑生產(chǎn)所需長(zhǎng)度;
步驟S6:收尾降溫:晶體直徑逐漸縮小,離開(kāi)熔體;降低溫度,逐漸冷卻溫度。
2.一種生產(chǎn)單晶棒的單晶爐,適用于權(quán)利要求1所述的一種單晶棒的生產(chǎn)工藝,其特征在于,包括:
第一爐室(2),所述第一爐室(2)用于將硅料融化成硅液,第一爐室(2)上設(shè)置有第一爐口(3);
第二爐室(4),所述第二爐室(4)包括工作位和卸料位,第二爐室(4)通過(guò)卸料機(jī)構(gòu)(15)在工作位和卸料位之間切換,第二爐室(4)上設(shè)置有第二爐口(5);
隔離組件(7),隔離組件(7)具有隔熱結(jié)構(gòu);
籽晶提拉旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu),所述籽晶提拉旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)設(shè)置在第二爐室(4)上方,籽晶提拉旋轉(zhuǎn)機(jī)構(gòu)包括籽晶夾具(6);
其中,所述籽晶夾具(6)能伸入第一爐室(2)逐步將硅液牽扯成棒狀并提升至第二爐室(4),所述隔離組件(7)設(shè)置在第一爐室(2)和第二爐室(4)之間,隔離組件(7)能使第一爐室(2)和第二爐室(4)內(nèi)腔相互貫通或隔離,單晶爐上還設(shè)置有引導(dǎo)機(jī)構(gòu)(8),所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)(8)用于引導(dǎo)第二爐室(4)復(fù)位至工作位。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種生產(chǎn)單晶棒的單晶爐,其特征在于,第二爐室(4)處于工作位時(shí),第一爐室(2)與第二爐室(4)同軸且內(nèi)腔相互貫通,隔離組件(7)的兩端分別與第二爐口(5)和第一爐口(3)貼合,第二爐室(4)處于卸料位時(shí),第一爐室(2)與第二爐室(4)軸線錯(cuò)開(kāi)且第二爐口(5)遠(yuǎn)離隔離組件(7)并暴露。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種生產(chǎn)單晶棒的單晶爐,其特征在于,所述引導(dǎo)機(jī)構(gòu)(8)包括:
承接件(9),所述承接件(9)在隔離組件(7)殼體上設(shè)置多個(gè);
引導(dǎo)件(11),所述引導(dǎo)件(11)設(shè)置在承接件(9)上;
插接件(12),所述插接件(12)對(duì)應(yīng)承接件(9)設(shè)置在第二爐室(4)上;
其中,引導(dǎo)件(11)用于引導(dǎo)插接件(12)準(zhǔn)確插入承接件(9)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種生產(chǎn)單晶棒的單晶爐,其特征在于,所述引導(dǎo)件(11)包括:
引導(dǎo)塊(13),所述引導(dǎo)塊(13)端部設(shè)有凹槽,凹槽的側(cè)壁上設(shè)有軸,引導(dǎo)塊(13)設(shè)置在承接件(9)上;
引導(dǎo)滾輪(14),所述引導(dǎo)滾輪(14)套設(shè)在凹槽的軸上;
其中,引導(dǎo)塊(13)和引導(dǎo)滾輪(14)至少設(shè)置兩個(gè),引導(dǎo)滾輪(14)外壁之間的距離等于插接件(12)的直徑。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種生產(chǎn)單晶棒的單晶爐,其特征在于,所述插接件(12)設(shè)置在第二爐室(4)的底部,所述插接件(12)遠(yuǎn)離第二爐室(4)的底部呈半圓球型。
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