[發明專利]一種平面密封結構在審
| 申請號： | 202211528858.6 | 申請日： | 2022-11-30 |
| 公開（公告）號： | CN115854027A | 公開（公告）日： | 2023-03-28 |
| 發明（設計）人： | 吳金柱;黃世宏;范建權;陳玨 | 申請（專利權）人： | 東風商用車有限公司 |
| 主分類號： | F16J15/06 | 分類號： | F16J15/06;F16J15/08;F16L23/18;F16L23/20;F16L23/02 |
| 代理公司： | 武漢開元知識產權代理有限公司 42104 | 代理人： | 黃行軍;蔡俊 |
| 地址： | 442000 *** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 平面 密封 結構 | ||
1.一種平面密封結構，包括上平面壓緊結構、下平面壓緊結構和被壓緊于所述上平面壓緊結構與所述下平面壓緊結構之間的墊片(3)，其特征在于：所述墊片(3)為波形墊片，其包括至少一個朝向所述上平面壓緊結構凸起的正向波形(4)，所述上平面壓緊結構的底部開設有與所述正向波形(4)配合的限位槽(5)。
2.如權利要求1所述的平面密封結構，其特征在于：所述墊片(3)還包括至少一個朝向所述下平面壓緊結構凸起的反向波形(6)，所述反向波形(6)位于所述正向波形(4)的外側。
3.如權利要求2所述的平面密封結構，其特征在于：所述反向波形(6)與所述正向波形(4)連續布置。
4.如權利要求3所述的平面密封結構，其特征在于：所述反向波形(6)的波形高度小于所述正向波形(4)的波形高度。
5.如權利要求4所述的平面密封結構，其特征在于：所述反向波形(6)的波形寬度小于所述正向波形(4)的波形寬度。
6.如權利要求1所述的平面密封結構，其特征在于：所述限位槽(5)的槽深不大于所述正向波形(4)的波形高度。
7.如權利要求6所述的平面密封結構，其特征在于：所述限位槽(5)的槽寬不小于所述正向波形(4)的波形寬度。
8.如權利要求1所述的平面密封結構，其特征在于：所述上平面壓緊結構包括上法蘭(1)，所述下平面壓緊結構包括下法蘭(2)。
9.如權利要求8所述的平面密封結構，其特征在于：所述上法蘭(1)和所述下法蘭(2)的外側均開設有螺栓過孔(7)，所述上法蘭(1)與所述下法蘭(2)的內側同軸連接為氣體通道(8)，所述墊片(3)位于所述螺栓過孔(7)與所述氣體通道(8)之間。
10.如權利要求9所述的平面密封結構，其特征在于：所述墊片(3)為環形墊片，其中部開設有與所述氣體通道(8)對應的過孔。
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