[發(fā)明專利]一種高電阻耐腐蝕稀土永磁復(fù)合材料及其制備和應(yīng)用

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211516171.0
• 申請(qǐng)日: 2022-11-29
• 公開（公告）號(hào): CN116130192A
• 公開（公告）日: 2023-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 梁俊才;章瀟慧;柳柏杉;裴中正;王雅倫;楊為三;李要君;陳強(qiáng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中車工業(yè)研究院有限公司
• 主分類號(hào): H01F1/055
• 分類號(hào): H01F1/055;H01F1/057;H01F41/02;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/02;H02K1/27
• 代理公司: 北京路浩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11002
• 代理人: 朱惠惠

1.一種稀土永磁復(fù)合材料，包括永磁體，所述永磁體為杉鈷永磁體或釹鐵硼永磁體；其特征在于，還包括：采用磁控濺射在所述永磁體表面依次沉積的金屬層、耐腐蝕層和電阻層；

所述電阻層的成分為SiO₂、CaF₂和MoS₂中的一種以上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的稀土永磁復(fù)合材料，其特征在于，所述電阻層的厚度為1～5μm。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的稀土永磁復(fù)合材料，其特征在于，所述耐腐蝕層為厚度30～100nm的TiN層和/或CrN層。

4.根據(jù)權(quán)利要求1～3中任一項(xiàng)所述的稀土永磁復(fù)合材料，其特征在于，所述金屬層的成分為Ti和/或Cr，且所述金屬層與所述耐腐蝕層的厚度之比為10～30:30～100。

5.權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的稀土永磁復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，包括：采用磁控濺射工藝且通過切換靶材的方式在所述永磁體的表面依次沉積金屬層、耐腐蝕層和電阻層的步驟。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的稀土永磁復(fù)合材料的制備方法，其特征在于，所述磁控濺射的參數(shù)為：氣氛為氬氣，本底真空度為5.5×10^-3Pa以上，沉積溫度≤200℃，濺射氣壓為0.3～1Pa。

7.權(quán)利要求1～4中任一項(xiàng)所述的稀土永磁復(fù)合材料在電機(jī)轉(zhuǎn)子部件中的應(yīng)用，其特征在于，所述永磁體的厚度為0.5～5mm。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的應(yīng)用，其特征在于，包括：將完成所述電阻層沉積的永磁體進(jìn)行粘結(jié)成形的步驟。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的應(yīng)用，其特征在于，所述粘結(jié)成形包括：在完成所述電阻層沉積的永磁體的表面添加固結(jié)劑，然后進(jìn)行真空燒結(jié)；

優(yōu)選地，所述固結(jié)劑為熱固性樹脂或者聚酰亞胺膠黏劑。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的應(yīng)用，其特征在于，所述真空燒結(jié)是在5.5×10^-3Pa以上的真空度且50℃～200℃的溫度下進(jìn)行。