[發明專利]一種高光譜反射性高紅外發射率粉體、制備方法及應用

在審

• 申請號: 202211515651.5
• 申請日: 2022-11-29
• 公開（公告）號: CN115820024A
• 公開（公告）日: 2023-03-21
• 發明（設計）人: 張杭;張家強;白晶瑩;崔慶新;平托;鄭琰;張東;丁為;張立功;楊鑫;李聰
• 申請（專利權）人: 北京星馳恒動科技發展有限公司
• 主分類號: C09D5/33
• 分類號: C09D5/33
• 代理公司: 北京華夏泰和知識產權代理有限公司 11662
• 代理人: 石鳴宇

1.一種高光譜反射性高紅外發射率粉體的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1，按照摩爾比0.2-0.4:1:1.2-1.4：1-1.5稱取第一空心二氧化硅微球、第二空心二氧化硅微球、第三空心二氧化硅微球和稀土氯化鹽；將第一空心二氧化硅微球、第二空心二氧化硅微球、第三空心二氧化硅微球與去離子水以及分散劑混合均勻，制備得到A組分；將稀土氯化鹽與去離子水混合均勻，制備得到B組分；其中，第一空心二氧化硅微球的粒徑為3-5μm、第二空心二氧化硅微球的粒徑為5-10μm、第三空心二氧化硅微球的粒徑為10-20μm；

S2，在40-60℃的水浴加熱環境下，保持對A組分進行攪拌的同時，將B組分滴加至A組分中，滴加完畢后，繼續攪拌4-8h，得到C組分；

S3，保持對C組分進行回流的同時，向C組分中滴加氨水，調節C組分的Ph值至8.5-9.5，繼續對C組分回流2-4h后，靜置陳化制得D組分；

S4，取出D組分中的沉淀物，將所述沉淀物烘干后，進行燒結處理，得到所述高光譜反射性高紅外發射率粉體。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，A組分中，去離子水的質量是所述第一空心二氧化硅微球、所述第二空心二氧化硅微球以及所述第三空心二氧化硅微球的總質量的10-15倍；A組分中，分散劑的質量是所述第一空心二氧化硅微球、所述第二空心二氧化硅微球以及所述第三空心二氧化硅微球的總質量的0.5-2％；B組分中，去離子水的質量是所述稀土氯化鹽的質量的10-15倍。

3.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述稀土氯化鹽包括氯化鑭、氯化釔、氯化銪、氯化鈰中的至少一種。

4.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述第一空心二氧化硅微球、所述第二空心二氧化硅微球以及所述第三空心二氧化硅微球的壁厚均為0.1-1μm。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述分散劑包括BYK-110、BYK-118、BYK-2055以及BYK-W9010中的至少一種。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S2中，攪拌速度為200-400r/min，B組分的滴加速度為10-20ml/min。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S3中，氨水的滴加速度為5-10ml/min，靜置陳化的時間為16-24h。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，步驟S4中，烘干溫度為100-110℃、烘干時間為16-24h，所述燒結處理的參數包括燒結溫度為500-700℃，升溫速率為5-10℃/min，保溫時間為2-4小時。

9.一種高光譜反射性高紅外發射率粉體，其特征在于，由權利要求1-8任一項所述的方法制備。

10.如權利要求9所述的高光譜反射性高紅外發射率粉體在制備熱控涂層中的應用。