[發明專利]發光元件、發光組件及制作方法在審
| 申請號: | 202211512101.8 | 申請日: | 2022-11-29 | 
| 公開(公告)號: | CN115799294A | 公開(公告)日: | 2023-03-14 | 
| 發明(設計)人: | 葉雪萍;夏德玲;李佳恩 | 申請(專利權)人: | 廈門三安光電有限公司 | 
| 主分類號: | H01L27/15 | 分類號: | H01L27/15;H01L33/36;H01L33/62;H01L33/00 | 
| 代理公司: | 廈門加減專利代理事務所(普通合伙) 35234 | 代理人: | 李強 | 
| 地址: | 361100 福建省廈門*** | 國省代碼: | 福建;35 | 
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發光 元件 組件 制作方法 | ||
1.一種發光元件,其特征在于,所述發光元件包括:
至少兩個相鄰的發光單元;
橋接導電橋,所述橋接導電橋橋接在相鄰的所述發光單元上以形成彼此串聯;
所述發光單元包括外延結構以及介質層;
所述外延結構具有彼此相對的第一表面、第二表面,所述第一表面為出光面;彼此串聯的所述發光單元之間具有由所述第一表面向所述第二表面方向貫穿的溝槽;所述第二表面開設有若干不貫穿外延結構的移除區;
所述介質層覆蓋所述發光單元的所述第二表面并跨過溝槽延伸覆蓋至與之串聯的所述發光單元的所述第二表面;所述橋接導電橋位于所述介質層背離所述外延結構的一側,并通過至少一移除區與外延結構電連接。
2.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:從發光元件的上方向外延結構俯視,若干所述移除區在外延結構上的投影位于所述溝槽在外延結構上的投影范圍之外。
3.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:所述移除區包括位于外延結構內側的第一內部移除區;所述第一內部移除區用于實現外延結構與橋接導電橋的電連接;所述第一內部移除區到溝槽底部的距離H的范圍為0.5~3微米。
4.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:所述橋接導電橋的厚度范圍為0.5~1.5微米,所述橋接導電橋的材料至少包括電介質、金屬、半導體材料中的一種。
5.根據權利要求3所述的發光元件,其特征在于:所述外延結構包括由第一表面向第二表面依次層疊的第一類半導體層、發光層以及第二類半導體層;所述介質層上開設有第一通孔和第二通孔;所述第一通孔貫穿介質層且與所述第一內部移除區相連通;所述第一內部移除區由第二表面向第一表面延伸至裸露出所述發光單元的第一類半導體層;所述第二通孔貫穿介質層并裸露出與所述發光單元彼此串聯的另一發光單元的第二類半導體層;
所述橋接導電橋通過所述第一通孔、第二通孔分別與彼此串聯的兩個所述發光單元的所述第一類半導體層和第二類半導體層電連接。
6.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:所述介質層的厚度范圍是0.5~1.5微米,所述介質層至少包括反射層。
7.根據權利要求5所述的發光元件,其特征在于:所述移除區還包括位于所述外延結構外邊緣的外部移除區;所述外部移除區由所述外延結構的第二表面向第一表面移除至暴露出第一類半導體層;所述介質層延伸覆蓋至外部移除區。
8.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:所述溝槽由所述第一表面向所述第二表面方向的開口逐漸減小。
9.根據權利要求1所述的發光元件,其特征在于:所述溝槽具有連接第一表面和第二表面的溝槽側壁,所述溝槽側壁由至少一平面或至少一弧面或前述組合形成。
10.根據權利要求9所述的發光元件,其特征在于:所述溝槽具有位于所述溝槽側壁與所述第一表面連接處的頂邊以及位于所述溝槽側壁與所述第二表面連接處的底邊;所述頂邊與所述底邊的公垂線與所述第二表面的夾角θ小于90°。
11.根據權利要求10所述的發光元件,其特征在于:所述夾角θ的范圍為大于等于45°且小于70°,或大于等于70°且小于80°,或大于等于80°且小于90°。
12.根據權利要求10所述的發光元件,其特征在于:所述夾角θ的范圍為大于45°且小于75°。
13.根據權利要求9-12任一項所述的發光元件,其特征在于:所述溝槽側壁為一傾斜平面或一傾斜弧面。
14.根據權利要求13所述的發光元件,其特征在于:所述溝槽側壁為傾斜弧面時,所述傾斜弧面的切線與第二表面的夾角β大于30°且小于90°,且夾角β逐漸增大或逐漸減小。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于廈門三安光電有限公司,未經廈門三安光電有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211512101.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內或其上形成的多個半導體或其他固態組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結點的熱電元件的;包括有熱磁組件的





