[發(fā)明專利]一種基于聲學(xué)數(shù)據(jù)的多源信息融合方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211490856.2 | 申請日: | 2022-11-25 |
| 公開(公告)號: | CN115808677A | 公開(公告)日: | 2023-03-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 劉浩;楊靜宇;梁云濤;唐同澤;毛啟明 | 申請(專利權(quán))人: | 中國船舶重工集團(tuán)公司七五0試驗(yàn)場 |
| 主分類號: | G01S7/539 | 分類號: | G01S7/539;G01S15/88 |
| 代理公司: | 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 53115 | 代理人: | 蘇杭 |
| 地址: | 650051 云*** | 國省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 聲學(xué) 數(shù)據(jù) 信息 融合 方法 | ||
1.一種基于聲學(xué)數(shù)據(jù)的多源信息融合方法,其特征在于,用于融合三類聲學(xué)探測設(shè)備輸出數(shù)據(jù):偶數(shù)維的被動聲納探測數(shù)據(jù)集合、偶數(shù)維的矢量探測數(shù)據(jù)集、一維匹配場數(shù)據(jù)集;其包括以下步驟S:
步驟S1:實(shí)時獲取三類聲學(xué)探測數(shù)據(jù)與采樣間隔,同步時間戳后將探測信息存儲至本地服務(wù)器;計(jì)算多源數(shù)據(jù)的最小采樣間隔,當(dāng)采樣數(shù)據(jù)滿足設(shè)定的門限值時,對采樣間隔大于上述最小采樣間隔的多源探測數(shù)據(jù)進(jìn)行插值;
步驟S2:對多類型聲學(xué)探測信息:聲納線列陣探測數(shù)據(jù)、矢量陣探測數(shù)據(jù)、匹配場探測數(shù)據(jù),分別進(jìn)行初始信息預(yù)處理,剔除空值、異常值;
步驟S3:對步驟S2中的各類型數(shù)據(jù)分別逐幀進(jìn)行方位角定位與候選目標(biāo)篩選,得到候選目標(biāo)位置集合;
步驟S4:將步驟S3獲取的聲納線列陣探測數(shù)據(jù)、矢量陣探測數(shù)據(jù)、候選目標(biāo)位置集與匹配場處理后的目標(biāo)方位集合進(jìn)行融合,并逐幀形成關(guān)聯(lián)后點(diǎn)目標(biāo);
步驟S5:在時序維度對融合后的點(diǎn)目標(biāo)進(jìn)行航跡關(guān)聯(lián),并形成水中目標(biāo)融合航跡;
步驟S6:重復(fù)步驟S2-步驟S5,最終獲取關(guān)聯(lián)融合后的探測目標(biāo)航跡。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多源信息融合方法,其特征在于,步驟S1所述的三類聲學(xué)探測數(shù)據(jù)為:
四套被動聲納探測設(shè)備終端PS1、PS2、PS3、PS4所分別對應(yīng)的Sa、Sb、Sc、Sd,以表示聲學(xué)探測數(shù)據(jù)集合,且其維數(shù)為4;
兩套矢量陣探測終端PV1、PV2所分別對應(yīng)的V1、V2,以表示矢量探測數(shù)據(jù)集,且其維數(shù)為2;
一套匹配場PM1探測終端對應(yīng)的M,以表示匹配場處理數(shù)據(jù)集,且其維數(shù)為1;
其中,數(shù)據(jù)融合中心位置為O(0,0);所述維數(shù)表示單類聲學(xué)探測設(shè)備的陣元數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的多源信息融合方法,其特征在于,被動聲納陣探測設(shè)備的采樣間隔為1s,矢量陣探測設(shè)備的數(shù)據(jù)采樣間隔為2s,匹配場探測數(shù)據(jù)的采樣間隔為1s;
三類實(shí)時探測數(shù)據(jù)的采樣間隔分別為:Ts=1s、Tv=2s、Tm=1s,最小時間間隔為min(Ts,Tv,Tm)=1s;
探測數(shù)據(jù)存儲時,使用本地中心服務(wù)器的當(dāng)前時間作為本地時間,以此作為多源數(shù)據(jù)時間戳的同步方式。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的多源信息融合方法,其特征在于,對采樣間隔大于1s的數(shù)據(jù)進(jìn)行插值,對Vi(i=1,2)數(shù)據(jù)集合進(jìn)行插值,被動探測數(shù)據(jù)數(shù)據(jù)結(jié)構(gòu)為:{T,targno,azi}其中:T表示探測時間戳、targno表示當(dāng)前探測陣元探測目標(biāo)號,azi表示目標(biāo)方位角。
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