[發(fā)明專利]一種直噴式薄膜鈮酸鋰脊波導(dǎo)側(cè)壁的拋光方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211481164.1 | 申請日： | 2022-11-24 |
| 公開（公告）號： | CN115716245A | 公開（公告）日： | 2023-02-28 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王智勇;向美華;張旭濤;楊登才 | 申請（專利權(quán)）人： | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | B24C1/08 | 分類號： | B24C1/08;B24C3/22;B24C7/00;B24C5/04;B24C9/00 |
| 代理公司： | 北京思海天達知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人： | 劉萍 |
| 地址： | 100124 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 直噴 薄膜 鈮酸鋰脊 波導(dǎo) 側(cè)壁 拋光 方法 | ||
1.一種直噴式薄膜鈮酸鋰脊波導(dǎo)側(cè)壁的拋光方法，其特征在于：所用系統(tǒng)包括：旋轉(zhuǎn)臺(1)、待拋光薄膜鈮酸鋰芯片(2)、噴嘴(3)、送料管(4)、增壓泵(5)、磨料槽(6)、磨料液(7)；
待拋光的薄膜鈮酸鋰芯片(2)通過石蠟固定在旋轉(zhuǎn)臺(1)上，送料管(4)的一端與噴嘴(3)相連接，送料管(4)的另一端放入到磨料槽(6)中，在送料管(4)的過程中加入增壓泵(5)進行增壓，通過增壓泵(5)增壓從噴嘴(3)中噴出磨料液(7)到芯片脊波導(dǎo)的側(cè)壁上，使之與波導(dǎo)的側(cè)壁進行充分研磨，磨料和一些研磨殘留物重新回流到磨拋槽(6)中。
2.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種直噴式薄膜鈮酸鋰脊波導(dǎo)側(cè)壁的拋光方法，其特征在于：旋轉(zhuǎn)臺(1)或噴嘴(3)都可以靈活調(diào)整噴射角度以達到對側(cè)壁陡直度的修正，磨料粉及拋光液直接噴射更容易進入到微納縫隙結(jié)構(gòu)中完成拋光提高側(cè)壁光滑程度，減少了脊波導(dǎo)側(cè)壁的散射損耗，磨料順著旋轉(zhuǎn)臺回流到磨料槽中，并利用循環(huán)系統(tǒng)進行回收，可做到循環(huán)利用，解決了目前磨料只能一次使用造成的浪費。
3.根據(jù)權(quán)利要求1中所述的一種直噴式薄膜鈮酸鋰脊波導(dǎo)側(cè)壁的拋光方法，其特征在于：此拋光系統(tǒng)也可以和傳統(tǒng)的拋光流程一樣，能夠先進行粗磨，然后細磨和拋光，但是不僅僅限于這些，具體取決于磨料粉和拋光液的配比和增壓泵給予的壓力大小。利用高壓技術(shù)將磨料粉和拋光液加壓到一定壓力，然后再通過內(nèi)孔直徑約為0.15-0.35mm的噴嘴(3)形成高速射流。
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