[發(fā)明專利]基于曲率極大值優(yōu)化的刀具軌跡光順方法和系統(tǒng)在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211474786.1 | 申請(qǐng)日: | 2022-11-23 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115857432A | 公開(公告)日: | 2023-03-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃諾帝;華力;張楊;朱利民 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 上海交通大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G05B19/408 | 分類號(hào): | G05B19/408 |
| 代理公司: | 上海漢聲知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31236 | 代理人: | 胡晶 |
| 地址: | 200240 *** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 曲率 極大值 優(yōu)化 刀具 軌跡 方法 系統(tǒng) | ||
1.一種基于曲率極大值優(yōu)化的刀具軌跡光順方法,其特征在于,包括:
步驟1:計(jì)算組成刀具軌跡的離散點(diǎn)的離散曲率,根據(jù)離散曲率把原軌跡劃分為多條子軌跡;
步驟2:優(yōu)化子軌跡上的離散點(diǎn)位置,降低子軌跡的離散曲率極大值,得到優(yōu)化后的新離散點(diǎn);
步驟3:對(duì)新離散點(diǎn)進(jìn)行弦長(zhǎng)參數(shù)化,求取其對(duì)應(yīng)參數(shù),并從中提取特征點(diǎn),確定節(jié)點(diǎn)矢量,構(gòu)造初始三次B樣條擬合曲線;
步驟4:計(jì)算新離散點(diǎn)的擬合誤差,迭代增加、更新B樣條曲線的控制點(diǎn),直到生成滿足公差要求的B樣條擬合曲線。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于曲率極大值優(yōu)化的刀具軌跡光順方法,其特征在于,所述步驟1包括:
利用二階差商估計(jì)二階微商的方法求取離散點(diǎn)的離散曲率,設(shè)刀具軌跡上兩條相鄰線性段Qj-1Qj和QjQj+1包含三個(gè)離散點(diǎn)Qj-1、Qj、Qj+1,則點(diǎn)Qj的離散曲率為:
其中,αj表示向量和/所成的夾角;
根據(jù)所有離散點(diǎn)的離散曲率,找到所有的離散曲率極大值和極小值,并把極大值和極小值分別按照其對(duì)應(yīng)點(diǎn)的順序排序,在取到離散曲率極小值的點(diǎn)中選擇分割點(diǎn),把刀具軌跡劃分為多條子軌跡,被選中的分割點(diǎn)的曲率κj需滿足以下條件:
其中,為κj的前一個(gè)曲率極大值;/是κj的后一個(gè)曲率極大值,δf是為了避免分割點(diǎn)過密而引入的濾波參數(shù)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于曲率極大值優(yōu)化的刀具軌跡光順方法,其特征在于,所述步驟2包括:
當(dāng)子軌跡包含的離散點(diǎn)的曲率最大值大于所設(shè)閾值時(shí),對(duì)該子軌跡上的離散點(diǎn)進(jìn)行優(yōu)化,對(duì)于由兩分割點(diǎn)Qs和Qe分劃而成的子軌跡,其離散點(diǎn)的優(yōu)化問題由如下優(yōu)化模型描述:
max(κ′j)
s.t.||qs||=0,
||qe||=0,
||qj||≤d,sje
其中,qs、qe為分割點(diǎn)Qs和Qe的變化矢量,優(yōu)化變量qj代表離散點(diǎn)位置的變化矢量;d是qj的上界,代表優(yōu)化后的離散點(diǎn)和原離散點(diǎn)的最大距離,其應(yīng)小于曲線擬合公差;s、j、e為對(duì)應(yīng)位置點(diǎn)的序列號(hào);κ′j表示優(yōu)化后的離散點(diǎn)的離散曲率,通過如下計(jì)算得到:
其中,Q′j是優(yōu)化后的新離散點(diǎn),α′j則是向量與/之間的夾角。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海交通大學(xué),未經(jīng)上海交通大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211474786.1/1.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





