[發(fā)明專利]一種合成孔徑光電探測裝置

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202211449044.3
• 申請日: 2022-11-18
• 公開（公告）號: CN115717934A
• 公開（公告）日: 2023-02-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉怡軒
• 申請（專利權(quán)）人: 北京遙感設(shè)備研究所
• 主分類號: G01J1/04
• 分類號: G01J1/04;G01J1/42;G02B26/08
• 代理公司: 中國航天科工集團(tuán)公司專利中心 11024
• 代理人: 孟慶昊

1.一種合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，包括大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)、光電探測器(3)和成組設(shè)置的子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)；每組子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)構(gòu)成一個(gè)光學(xué)支路，包括第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)，用于折轉(zhuǎn)入射光束，子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)的入射光軸和出射光軸平行，且與大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)光軸平行；每組子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)中第一反射光學(xué)元件(4)的光軸彼此平行，探測同一目標(biāo)；所有子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)出口與大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(6)入口對接，每組子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)的出射光經(jīng)大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)收集后匯聚于同一光電探測器(3)上。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)均為平面反射鏡。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)均為反射棱鏡。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述光電探測器(3)為單像元探測器。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述光電探測器(3)為線陣探測器。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述光電探測器(3)為面陣探測器。

7.根據(jù)權(quán)利要求1～6其中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)傳輸?shù)墓馐鶠閳A形，第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)沿大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)的徑向布置，第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)的反射面平行且相對設(shè)置，相鄰第二反射鏡元件(5)之間的距離在不干涉的情況下取最小值，大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(6)的入口直徑大于等于所有第二反射鏡元件(5)的外切圓直徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述第一反射光學(xué)元件(4)入射光束和第二反射光學(xué)元件(5)的出射光束形狀一致，為圓形、扇形、扇環(huán)形或六邊形。

9.根據(jù)權(quán)利要求1～6其中任意一項(xiàng)權(quán)利要求所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)整體呈圓錐臺狀，錐角相等，側(cè)壁為反射面；所述子孔徑光學(xué)系統(tǒng)(1)與大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)入口對接，所述第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)與大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)同軸布置，第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)的反射面平行且相對設(shè)置，第一反射光學(xué)元件(4)和第二反射光學(xué)元件(5)的大端朝向大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)所在一側(cè)，大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(2)的入口直徑大于等于第二反射鏡元件(5)的大端直徑。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的合成孔徑光電探測裝置，其特征在于，所述大孔徑光學(xué)系統(tǒng)(6)的入口為環(huán)狀。