[發(fā)明專利]基于微流控技術(shù)的高品質(zhì)Micro-LED全彩顯示器件及制備方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211444320.7 | 申請(qǐng)日: | 2022-11-18 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115763518A | 公開(公告)日: | 2023-03-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王樹立;郭文安;吳挺竹;孔學(xué)敏;劉時(shí)彪;郭自泉;陳國(guó)龍;林岳;呂毅軍;陳忠 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 廈門大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L27/15 | 分類號(hào): | H01L27/15;H01L33/50;H01L33/46;H01L33/62 |
| 代理公司: | 廈門市首創(chuàng)君合專利事務(wù)所有限公司 35204 | 代理人: | 陳淑嫻 |
| 地址: | 361000 *** | 國(guó)省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 微流控 技術(shù) 品質(zhì) micro led 全彩 顯示 器件 制備 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于微流控技術(shù)的高品質(zhì)Micro?LED全彩顯示器件及制備方法,于透明基底上形成圖案化金屬層,圖案化金屬層具有陣列排布的透光開口,利用陣列化透光的金屬層作為量子點(diǎn)沉積區(qū)域,并通過微流控芯片技術(shù)對(duì)不同的陣列填充紅色和綠色量子點(diǎn),作為紅色和綠色子像素色轉(zhuǎn)換層,再與藍(lán)光Micro?LED鍵合制備Micro?LED全彩顯示器件,子像素點(diǎn)之間的金屬層為不透光材質(zhì),子像素點(diǎn)之間的紅、綠、藍(lán)光只能從預(yù)設(shè)的陣列區(qū)域透射出來,降低相同顏色和不同顏色子像素點(diǎn)發(fā)射的光之間的竄擾,提升Micro?LED器件的光品質(zhì)。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換顯示技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于微流控技術(shù)的高品質(zhì)Micro-LED全彩顯示器件及制備方法。
背景技術(shù)
Micro-LED顯示是近年來迅速發(fā)展的一項(xiàng)顯示技術(shù),具有功耗低、響應(yīng)快、壽命長(zhǎng)、色域?qū)挼韧怀鎏攸c(diǎn),可應(yīng)用于虛擬/增強(qiáng)現(xiàn)實(shí)、可見光通信、車載顯示、可穿戴器件、液晶顯示器中的背光單元等領(lǐng)域。在顯示應(yīng)用領(lǐng)域主要追求的是全彩化顯示,目前主流的方法主要包括紅綠藍(lán)三基色直顯技術(shù)和利用紫外或藍(lán)色Micro-LED作為激發(fā)光源去激發(fā)色轉(zhuǎn)換層中的量子點(diǎn)陣列來實(shí)現(xiàn)全彩化顯示。
目前制備量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換層的方法主要有:①利用噴墨打印技術(shù)將量子點(diǎn)沉積在預(yù)沉積的圖案化區(qū)域來實(shí)現(xiàn)色轉(zhuǎn)換層的需求,但溶液易出現(xiàn)咖啡環(huán)效應(yīng)影響顯示性能和噴嘴堵塞的現(xiàn)象發(fā)生,且制備速度慢。②光刻法制備色轉(zhuǎn)換層,該種方法在光刻的過程中使用的溶劑包括光刻膠、顯影液和增粘劑等會(huì)對(duì)量子點(diǎn)溶液損害,造成出光效率低、品質(zhì)差、壽命短,且材料成本高。③納米壓印技術(shù)可實(shí)現(xiàn)高分辨的微型LED圖案化,但這種方法存在接觸污染、難以對(duì)準(zhǔn)和納米壓印底漆的剝離困難等缺點(diǎn)。
近幾年,利用微流控制備色轉(zhuǎn)換層的方法目前得到學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的廣泛關(guān)注,其具有制備成本低、材料利用率高等特點(diǎn)。利用微流控技術(shù)制備色轉(zhuǎn)換層的方法,需要在器件表面或基板上制備顏色轉(zhuǎn)換層,顏色轉(zhuǎn)換層中量子點(diǎn)顆粒均勻分布對(duì)陣列激發(fā)光源的光提取效率、量子點(diǎn)的色轉(zhuǎn)換效率等問題對(duì)Micro-LED全彩顯示器件的綜合性能具有重要的影響,其次光激發(fā)量子點(diǎn)圖案同時(shí)發(fā)出紅、綠、藍(lán)三色光,容易出現(xiàn)光竄擾的問題,影響全彩化顯示光品質(zhì),降低對(duì)比度。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)存在的不足,利用陣列化透光的金屬層作為量子點(diǎn)沉積區(qū)域,并通過微流控芯片技術(shù)對(duì)不同的陣列填充紅色和綠色量子點(diǎn),作為紅色和綠色子像素色轉(zhuǎn)換層,再與藍(lán)光Micro-LED鍵合,制備低光竄擾的高品質(zhì)Micro-LED全彩顯示器件。
為了實(shí)現(xiàn)以上目的,本發(fā)明的技術(shù)方案為:
一種基于微流控技術(shù)的高品質(zhì)Micro-LED全彩顯示器件的制備方法,其包括以下步驟:
1)于透明基底上形成圖案化金屬層,所述圖案化金屬層開設(shè)有陣列式間隔排列的若干透光開口;
2)制備微通道器件,所述微通道器件具有間隔設(shè)置的若干微通道,所述微通道具有進(jìn)液口和出液口;
3)將微通道器件與透明基底的圖案化金屬層面鍵合,鍵合后各微通道分別與多個(gè)所述透光開口配合導(dǎo)通;
4)分別將紅色量子點(diǎn)溶液和綠色量子點(diǎn)溶液注入不同微通道直至量子點(diǎn)溶液充滿所述微通道并沉積于相應(yīng)的透光開口中;
5)采用惰性氣體吹掃微通道將多余量子點(diǎn)溶液排出,得到位于透光開口之內(nèi)的量子點(diǎn)圖案;
6)剝離微通道器件,干燥得到嵌設(shè)于圖案化金屬層中的量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換層;
7)沉積覆蓋量子點(diǎn)色轉(zhuǎn)換層所在區(qū)域的DBR層;
8)將透明基底與藍(lán)光Micro-LED芯片陣列鍵合,使Micro-LED芯片陣列的芯片單元與圖案化金屬層的透光開口一一對(duì)應(yīng),得到Micro-LED全彩顯示器件。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的多個(gè)半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的;包括至少有一個(gè)躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對(duì)紅外輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或者表面勢(shì)壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
- 技術(shù)評(píng)價(jià)裝置、技術(shù)評(píng)價(jià)程序、技術(shù)評(píng)價(jià)方法
- 防止技術(shù)開啟的鎖具新技術(shù)
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