[發明專利]閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統及方法

在審

• 申請號: 202211440982.7
• 申請日: 2022-11-17
• 公開（公告）號: CN115856990A
• 公開（公告）日: 2023-03-28
• 發明（設計）人: 王強;丁雨憧;張澤濤;屈菁菁;王明皓;萬前銀;胡吉海;劉軍;李金;甘禹;石自彬;徐揚
• 申請（專利權）人: 中國電子科技集團公司第二十六研究所
• 主分類號: G01T7/00
• 分類號: G01T7/00;G01N23/04
• 代理公司: 重慶博凱知識產權代理有限公司 50212
• 代理人: 李海華

1.一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，包括屏蔽箱體、控制系統、與控制系統通信連接的上位機，在屏蔽箱體側面開設有缺口并在缺口上安裝有艙門；在屏蔽箱體內部分別設有光電二級管陣列探測器和X射線源，其中X射線源位于光電二級管陣列探測器正上方，X射線源用于發射X射線并使X射線進入待測閃爍晶體陣列以發出閃爍光，光電二級管陣列探測器用于接收待測閃爍晶體陣列發出的閃爍光并轉換為電流信號；在X射線源與光電二級管陣列探測器之間設有X射線斬斷裝置，用于快速斬斷X射線；光電二級管陣列探測器的輸出連接有數據讀出系統，用于讀取電流信號，并存儲為數字信號；數據讀出系統的輸出連接有數據采集系統，用于采集數字信號并進行數據處理向控制系統轉發；控制系統用于接收數據采集系統輸入數據并向上位機轉發；

上位機，用于接收控制系統發送的數據，并實時顯示光產額、余輝、一致性數值。

2.根據權利要求1所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，所述X射線快速斬斷裝置包括X射線準直器，用于將X射線源發射的X射線進行準直，使X射線路徑為一條狹縫；在X射線準直器下方橫向設有與狹縫垂直的滑軌，滑軌上滑動設有X射線擋塊并通過電機驅動X射線擋塊快速移動，用于快速斬斷X射線，電機的輸入與控制系統的輸出連接。

3.根據權利要求2所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，X射線擋塊的移動速度大于10m/s,狹縫寬度為10mm。

4.根據權利要求1-3任一項所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，余輝A_t和一致性U計算公式分別為：

式中，P_i為閃爍晶體陣列中第i個像素的光產額值；P_a為閃爍晶體陣列中所有像素P_i的平均值；P_o為無X射線照射時每個像素的光產額本底值；P_t為X射線斬斷t毫秒后的光產額值。

5.根據權利要求1所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，在屏蔽箱體上靠近艙門處設有X射線源保險開關，X射線源保險開關與X射線源主開關串聯于X射線源的工作回路上，當艙門關閉時會觸動X射線源保險開關使之處于開啟狀態。

6.根據權利要求5所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，其特征在于，在屏蔽箱體外部設有報警燈，報警燈的輸入與X射線源保險開關的輸出連接，以控制報警燈開閉。

7.一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試方法，其特征在于，采用權利要求1所述的閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試系統，包括以下步驟：

1)測試閃爍晶體陣列每個像素的光產額本底值P_o；

2)測試閃爍晶體陣列每個像素的光產額值P_i；

3)計算步驟2)中所有晶體的光產額值P_i的平均值P_a，并根據公式計算閃爍晶體陣列的一致性U；/

4)在X射線斬斷預設時間t后測試閃爍晶體陣列中每個閃爍晶體的光產額值P_t，并根據公式計算閃爍晶體陣列中每個閃爍晶體的余輝A_t。

8.根據權利要求7所述的一種閃爍晶體陣列光產額、余輝、一致性測試方法，其特征在于，預設時間t為3～20ms。