[發(fā)明專利]一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備

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• 申請日: 2022-11-16
• 公開（公告）號: CN115722162A
• 公開（公告）日: 2023-03-03
• 發(fā)明（設計）人: 袁天樂;陳占法;張文良
• 申請（專利權(quán)）人: 江西鑫海高分子材料有限公司
• 主分類號: B01J19/00
• 分類號: B01J19/00;B08B7/02;B08B9/087;C07D213/79
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

本發(fā)明涉及吡啶二羧酸技術(shù)領(lǐng)域，且公開了一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備，包括反應罐本體，所述反應罐本體的頂部固定連通有進料管，所述反應罐本體的內(nèi)部設置有清理結(jié)構(gòu)，所述反應罐本體的內(nèi)部設置有振動結(jié)構(gòu)，所述反應罐本體的右側(cè)內(nèi)部固定連通有出料管。該便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備，通過清理結(jié)構(gòu)的設置，啟動轉(zhuǎn)動電機和液壓缸，轉(zhuǎn)動電機通過帶動轉(zhuǎn)動軸使移動板和清理組件進行旋轉(zhuǎn)，同時液壓缸通過液壓桿帶動移動板在限位槽和矩形槽的內(nèi)部這上下往復運動，便于將清理組件進行向外甩出去讓轉(zhuǎn)盤轉(zhuǎn)動的同時使海綿和刷頭對反應罐本體內(nèi)壁的污垢進行快速清理。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及吡啶二羧酸技術(shù)領(lǐng)域，具體為一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備。

背景技術(shù)

吡啶二羧酸，白色棱狀結(jié)晶(水)，加熱時分解，熔點188℃，190-195℃(分解)，溶于水和堿溶液，微溶于乙醇，不溶于乙醚和苯。

現(xiàn)有的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應罐在長時間使用的過程中，反應罐的內(nèi)壁會產(chǎn)生污垢，不便于對反應罐內(nèi)壁的污垢進行清理，因此，我們提出了一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備來解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)的不足，本發(fā)明提供了一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備，解決了現(xiàn)有的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應罐在長時間使用的過程中，反應罐的內(nèi)壁會產(chǎn)生污垢，不便于對反應罐內(nèi)壁的污垢進行清理的問題。

本發(fā)明解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：一種便于清理的吡啶二羧酸生產(chǎn)反應設備，包括反應罐本體，所述反應罐本體的頂部固定連通有進料管，所述反應罐本體的內(nèi)部設置有清理結(jié)構(gòu)，所述反應罐本體的內(nèi)部設置有振動結(jié)構(gòu)，所述反應罐本體的右側(cè)內(nèi)部固定連通有出料管。

進一步的，所述清理結(jié)構(gòu)包括轉(zhuǎn)動電機，所述轉(zhuǎn)動電機的底部固定連接在反應罐本體的頂部，所述轉(zhuǎn)動電機的輸出端固定連接有轉(zhuǎn)動軸，所述轉(zhuǎn)動軸的底端外壁轉(zhuǎn)動連接有軸承，所述轉(zhuǎn)動軸的外壁開設有矩形槽，所述轉(zhuǎn)動軸的內(nèi)部靠近矩形槽的一側(cè)開設有限位槽，所述轉(zhuǎn)動軸的內(nèi)部設置有活動結(jié)構(gòu)，所述轉(zhuǎn)動軸的內(nèi)部靠近限位槽的底部設置有彈性結(jié)構(gòu)。

通過采用上述技術(shù)方案，便于對反應罐本體內(nèi)壁的污垢進行轉(zhuǎn)動清理。

進一步的，所述活動結(jié)構(gòu)包括液壓缸，所述液壓缸的底部固定安裝在轉(zhuǎn)動軸的內(nèi)部，所述液壓缸的內(nèi)部活動連接有液壓桿，所述液壓桿的底部固定連接有移動板，所述移動板的一端外壁固定連接有固定柱，所述移動板的一端外壁設置有清理組件，所述移動板的底部固定連接有插桿。

通過采用上述技術(shù)方案，在移動板和清洗組件轉(zhuǎn)動的同時，可以使清理組件進行上下移動清理。

進一步的，所述清理組件包括活動筒，所述活動筒的內(nèi)部活動連接在移動板的一端外壁，所述活動筒的一側(cè)內(nèi)部開設有矩形孔，所述矩形孔的內(nèi)部固定連接有固定彈簧，所述活動筒的一端固定連接有連接板，所述連接板的內(nèi)部轉(zhuǎn)動連接有轉(zhuǎn)盤，所述轉(zhuǎn)盤的一側(cè)固定連接有海綿，所述轉(zhuǎn)盤的一側(cè)固定連接有刷頭。

通過采用上述技術(shù)方案，刷頭和海綿便于對反應罐本體的內(nèi)壁進行清理污垢。

進一步的，所述彈性結(jié)構(gòu)包括固定槽，所述固定槽的內(nèi)部開設在限位槽的底部，所述固定槽的內(nèi)部活動連接有大氣囊，所述大氣囊的底部固定連接有小氣囊，所述小氣囊的底部活動連接有彈性片，所述彈性片的底部固定連接有支撐彈簧。

通過采用上述技術(shù)方案，大氣囊、小氣囊、彈性片和支撐彈簧便于對插桿進行緩沖。

進一步的，所述振動結(jié)構(gòu)包括滑板，所述滑板的外壁活動連接在反應罐本體的內(nèi)部，所述滑板的內(nèi)部開設有通孔，所述滑板的底部固定安裝有振動電機，所述滑板的左端底部固定連接有支撐腿，所述支撐腿的內(nèi)部開設有緩沖槽，所述緩沖槽的內(nèi)部固定連接有彈簧本體，所述彈簧本體的頂端內(nèi)部固定連接有磁性件一，所述彈簧本體的底端內(nèi)部固定連接有磁性件二，所述磁性件二的底部固定連接有固定桿，所述滑板的右端底部接觸有橢圓氣囊所述橢圓氣囊的底部固定連接有固定座。