[發明專利]一種雙重抗菌聚丙烯無紡布及其制備方法

在審

• 申請號: 202211433907.8
• 申請日: 2022-11-16
• 公開（公告）號: CN115652610A
• 公開（公告）日: 2023-01-31
• 發明（設計）人: 羅磊;盧道坤;楊柱華;張如全;沙莎
• 申請（專利權）人: 武漢紡織大學
• 主分類號: D06M10/02
• 分類號: D06M10/02;D06M10/08;D06M10/10;D06M13/188;D06M13/207;D06M13/352;D06M15/03;D06M13/325;D06M101/20
• 代理公司: 北京睿智保誠專利代理事務所(普通合伙) 11732
• 代理人: 馬歡歡

本發明屬于抗菌材料技術領域，公開了一種雙重抗菌聚丙烯無紡布及其制備方法。首先利用低溫等離子體表面改性的方法在聚丙烯無紡布表面接入羧基等活性基團，隨后分別通過酰胺化反應和酯化反應手段，將含有氨基結構的光敏劑和含有羥基的殼聚糖固定到改性后的無紡布上，獲得一種雙重抗菌聚丙烯無紡布。該雙重抗菌無紡布在太陽光或室內弱光照射下均能夠持續釋放大量活性氧簇，能夠持續滅活留存在無紡布表面的各種致病性細菌，同時利用殼聚糖自身的抗菌特性，實現無紡布在黑暗/光照下雙重抗菌功效。本發明的制備方法操作簡單、處理速度快、對樣品無損壞、反應條件較溫和、適合大規模工業化生產。

技術領域

本發明涉及抗菌材料技術領域，尤其涉及一種雙重抗菌聚丙烯無紡布及其制備方法。

背景技術

近年來，社會各界人士的衛生防護意識大大增強，安全、穩定、有效的抗菌防護材料迅速成為醫衛領域的研究熱點。而目前市場上存在的防護材料大多只有簡單的“物理阻隔”過濾防護功能，普遍缺乏自殺菌、自清潔能力，大部分病菌存留于材料表面，非常有利于微生物的附著和繁殖，容易引起二次污染和傷害，極大影響了人們的生命健康與工作效率。

光動力抗菌是一種結合光敏劑、氧氣、底物，使光產生活性氧，從而破壞菌膜中活性物質的抗菌方法。它不易使細菌產生耐藥性，且可控性高、入侵性小、抗菌迅速高效，因而在抗菌領域受到了廣泛關注。光敏劑是光動力抗菌的物質基礎，其中卟啉類、酚噻嗪類、酞菁類等光敏劑對多數細菌都有著良好的抗菌光動力活性。廖佩姿等通過接枝改性將4-甲基丙烯酰胺二苯甲酮(MABP)與纖維素無紡布結合得到光敏抗菌織物；王清清等將亞甲基藍等光敏劑與腈綸(PAN)結合制備有著良好抗菌性能的新型織物；張權等以卟啉鋅作為光敏劑配置具有光敏抗菌性能的紡絲液進行靜電紡絲得到光敏抗菌纖維膜。但在已公開的研究文獻及專利中，針對聚丙烯無紡布表面實現光敏抗菌的實例較為罕見。

由于聚丙烯無紡布表面無活性基團，難以與光敏劑直接結合。盡管此前有運用涂層工藝，如專利CN112941909A提出一種利用光敏劑和粘著劑制備光動力抗菌非織造材料的制備方法，但此方法使織物表面厚重，透氣性能差。

因此，如何制備一種抗菌效果優異、適合多種應用場景的抗菌聚丙烯無紡布對抗菌防護材料的發展具有重要意義。

發明內容

本發明的目的在于提供一種雙重抗菌聚丙烯無紡布及其制備方法，解決現有技術提供的抗菌防護材料存在的上述問題。

為了實現上述發明目的，本發明提供以下技術方案：

本發明提供了一種雙重抗菌聚丙烯無紡布的制備方法，包括以下步驟：

(1)將聚丙烯無紡布進行低溫等離子體改性，得到改性聚丙烯無紡布；

(2)將改性聚丙烯無紡布浸泡于溶劑中，加入二環己基碳二亞胺和1-羥基苯并三唑，在室溫下活化，然后加入含氨基的光敏劑，在室溫下反應，得到抗菌聚丙烯無紡布；

(3)將抗菌聚丙烯無紡布浸泡于整理液中，得到雙重抗菌聚丙烯無紡布。

優選的，在上述一種雙重抗菌聚丙烯無紡布的制備方法中，所述步驟(1)中聚丙烯無紡布為熔噴聚丙烯無紡布或紡粘聚丙烯無紡布。

優選的，在上述一種雙重抗菌聚丙烯無紡布的制備方法中，所述步驟(1)中低溫等離子體改性的參數為：功率為300～400W，氧氣流量為300～400Pa·m³/s，改性的時間為120～240s。

優選的，在上述一種雙重抗菌聚丙烯無紡布的制備方法中，所述步驟(2)中溶劑為N,N-二甲基甲酰胺；改性聚丙烯無紡布和溶劑的質量體積比為1g：30～80mL；含氨基的光敏劑在溶劑中的濃度為0.05～10mM。