[發明專利]一種鎂銀合金和鐿金屬清洗劑及清洗方法

在審

• 申請號: 202211431747.3
• 申請日: 2022-11-16
• 公開（公告）號: CN115710707A
• 公開（公告）日: 2023-02-24
• 發明（設計）人: 劉小勇;鄭月川;房龍翔;葉鑫煌;肖小江;劉文生
• 申請（專利權）人: 福建省佑達環保材料有限公司
• 主分類號: C23G1/06
• 分類號: C23G1/06;C23G1/08;C23F1/30
• 代理公司: 福州元創專利商標代理有限公司 35100
• 代理人: 俞舟舟;蔡學俊

本發明公開了一種鎂銀合金和鐿金屬清洗劑及清洗方法，開發了一款在較低的成本下，可以高效的溶解Mask、坩堝上殘留的鎂銀合金、鐿等金屬，同時不對Mask等基底產生損失，且減少沉淀產生的金屬清洗劑。該清洗劑由2?10%的氧化劑，3?12%的氧化物溶解劑，3?15%的pH調節劑，0.1?1%的緩蝕劑，0.1?1%的金屬螯合劑組成，其余為水。本發明提供的鎂銀合金、鐿金屬清洗劑可在較低的成本下，高效的溶解Mask、坩堝上殘留的鎂銀合金、鐿等金屬，同時不對Mask等基底產生損失，且減少沉淀產生。

技術領域

本發明屬于清洗劑技術領域，具體涉及一種用于有機發光二極管(OLED)蒸鍍工藝中坩堝、金屬掩膜版以及蒸鍍腔擋板上沉積的陰極材料用的鎂銀合金和鐿金屬清洗劑，以及采用該金屬清洗劑對坩堝、金屬掩膜版以及蒸鍍腔擋板的清洗方法。

背景技術

目前采用蒸鍍工藝制作的有源矩陣有機發光二極體或主動矩陣有機發光二極體(AMOLED)屏幕，其陰極為鎂銀合金以及少量的金屬鐿。蒸鍍完成后坩堝、金屬掩膜版以及蒸鍍腔擋板上會殘留一定厚度的鎂銀合金以及鐿，需要去除后才能再次使用。

目前大量采用的方法是人工手動用滾輪對殘留的金屬進行物理剝離，往往無法完全清除干凈，會在金屬掩膜版開口蒸鍍角處、擋板縫隙等位置殘留，形成毛刺現象；此外，滾輪清除過程中極易使掩膜版Mask發生形變，以上均極大的影響良率。

隨著全球對OLED屏幕需求的激增及國內OLED產業的壯大，鎂銀清洗劑具有很大的增長空間。

CN113881944A公開了一種鎂銀合金清洗劑及清洗方法，目的是能快速溶解鎂銀合金，并且不對金屬掩膜版產生損傷。該清洗劑主要包含了雙氧水與羧酸類銨鹽。該發明提供的鎂銀合金清洗劑成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷。但是該清洗劑為中性清洗劑，對金屬鐿溶解能力較差，導致了金屬鐿在金屬掩膜版等基底上殘留，且溶解過量鎂時，會產生沉淀，污染器件。

CN109881204A公開了一種鎂銀合金清洗劑及清洗方法，目的是成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷的清洗劑。該鎂銀合金清洗劑包括3-10wt％的主氧化劑、5-15wt％的輔助氧化劑、1-10wt％的pH緩沖劑、0.3-1.0wt％的防腐劑和余量的水；所述主氧化劑選自硝酸、過氧化氫、高氯酸中的一種或多種；所述輔助氧化劑選自磷酸、硫酸中的一種或多種；所述防腐劑選自蔗糖、山梨糖醇、糊精、聯吡啶中的一種或多種。該發明提供的鎂銀合金清洗劑成本低廉、能高效、徹底的溶解清洗鎂銀合金但不對金屬基底產生損傷。但是該發明所提供的清洗劑配方使用強酸，不可避免的會傷害材質為鐵合金的Mask。

隨著全球對OLED屏幕需求的激增及國內OLED產業的壯大，鎂銀合金、鐿金屬清洗劑具有很大的增長空間。因此，本領域亟待開發一種能簡單、快速、有效去除金屬掩膜板表面鎂銀合金同時能去除金屬鐿的方法，且不會使Mask發生形變和損傷，提高產品良率。

發明內容

針對現有技術的不足，本發明的目的之一在于提供一種能夠去除蒸鍍工藝中沉積的鎂銀合金以及金屬鐿的清洗劑與清洗方法。所述方法能夠快速、有效的去除金屬鎂銀合金與金屬鐿，且不會使金屬掩膜板發生形變。

為了解決上述技術問題，本發明采取的技術方案如下：

一種鎂銀合金和鐿金屬清洗劑，其原料按質量百分數計包括：2-10％的氧化劑，3-12％的氧化物溶解劑，3-15％的pH調節劑，0.1-1％的緩蝕劑，0.1-1％的金屬螯合劑，其余為水；所述氧化劑為雙氧水，其濃度為2-10wt％；所述氧化物溶解劑為乙酸、檸檬酸、甲酸、草酸、丙二酸、酒石酸中的一種或多種；

所述pH調節劑為乙酸鈉、乙酸銨、檸檬酸鈉、檸檬酸銨、甲酸鈉、甲酸銨、草酸鈉、草酸銨、酒石酸鈉中的一種或多種；所述金屬螯合劑選自乙二胺四乙酸、乙二胺四乙酸二鈉、氨基三乙酸、次氨基三乙酸二鈉、三聚磷酸鈉、葡萄糖中的一種或多種。