[發(fā)明專利]光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)

在審

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• 申請日: 2022-11-14
• 公開（公告）號: CN116100468A
• 公開（公告）日: 2023-05-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李弋舟;李珍;鄧輝
• 申請（專利權(quán)）人: 長沙韶光芯材科技有限公司;湖南智信微電子科技有限公司
• 主分類號: B24B53/02
• 分類號: B24B53/02;B24B53/017;B24B53/12
• 代理公司: 長沙三七知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 43287
• 代理人: 段紅玉

本發(fā)明公開了一種光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)，包括中心定位套、兩個修平主體、定位組件、定位板、反射件和平衡板，所述中心定位套與修平主體之間設(shè)置活動缸，所述定位板位于中心定位套的球面槽內(nèi)部，平衡板與定位板連接，所述修平主體包括修平板、接觸板和定位套，所述接觸板與定位套活動連接，接觸板內(nèi)部的感應(yīng)板的位置與平衡板的位置對應(yīng)，接觸板的上端還設(shè)置若干接觸桿，本發(fā)明中的光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)可固定于拋光磨盤上，對拋光磨盤自動進行修平操作，并在修平過程中進行平面度檢測，保證拋光磨盤的平面度，同時可實現(xiàn)了拋光面與拋光磨盤轉(zhuǎn)軸的垂直定位。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光掩膜版生產(chǎn)輔助設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)。

背景技術(shù)

石英玻璃以其高純、高的光透過和低的熱膨脹等一系列優(yōu)良的理化性能而成為一種重要的基礎(chǔ)材料。光掩膜版即由玻璃基板、鉻層和光刻膠層構(gòu)成。光掩膜版的玻璃基板需要后續(xù)覆膜光刻，因此對其表面的平整度要求較高。

光掩膜基板在制作過程中，需用通過拋光設(shè)備對玻璃基材的表面進行拋光，得到表面平整光滑的玻璃基材表面。拋光設(shè)備的拋光磨盤在使用過程中，其拋光磨盤的工作面會因長期使用而出現(xiàn)不平整的現(xiàn)象，此時需要對拋光磨盤進行修平處理，保證拋光磨盤高效穩(wěn)定的工作。

在進行拋光磨盤修平處理時，一般是通過平面度達標的修平板對拋光磨盤進行打磨，在通過其他平面度檢測裝置進行測量，獲得平整度合格的拋光磨盤面，過程較為繁瑣，加工效率低。且此平整度僅可保證拋光磨盤本身的平整度，不考慮拋光磨盤是否與轉(zhuǎn)軸垂直的情況，而偏心運動不利于拋光設(shè)備整體形成對玻璃基片的長期穩(wěn)定的平面加工。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是為了提高現(xiàn)有技術(shù)中車間對光掩膜基板平面拋光設(shè)備磨盤進行修平工作的效率，而提出的一種光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)，用于提高修平效率，同時實現(xiàn)拋光磨盤與磨盤轉(zhuǎn)軸垂直，有助于拋光設(shè)備整體形成對光掩膜基板長期穩(wěn)定的平面加工。

為了實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明采用了如下技術(shù)方案：

光掩膜基板拋光磨盤檢測修平系統(tǒng)包括中心定位套、兩個修平主體、定位組件、定位板、反射件和平衡板。中心定位套和兩個修平主體位定位組件上，所述中心定位套與修平主體之間通過活動缸連接。

進一步的，所述中心定位套內(nèi)部設(shè)置球面槽，所述定位板位于所述球面槽內(nèi)部，定位板的側(cè)面與球面槽活動連接。修平主體內(nèi)部設(shè)置平衡板，平衡板的底部通過調(diào)整缸與修平主體連接。所述定位板固定連接第一延伸桿，所述平衡板固定連接第二延伸桿，所述第一延伸桿包括與定位板平行的橫向桿部和與第二延伸桿平行的縱向桿部，所述第二延伸桿的下端與所述第一延伸桿的橫向桿部滑動連接。

進一步的，所述定位板上設(shè)置三個共圓、不共線的感應(yīng)件，所述反射件包括兩個第一反射點和第二反射點，所述反射件安裝于拋光磨盤轉(zhuǎn)軸并保持所述反射點位于拋光磨盤轉(zhuǎn)軸的中心軸線上，所述感應(yīng)件用于發(fā)射激光和接受激光，反射點用于反射激光。

在進行平衡板的定位時，首先定位板的三個感應(yīng)件發(fā)出激光，反射件的反射點反射激光，當每個感應(yīng)件接收第一反射點反射激光的時間相同，以及每個感應(yīng)件接收第二反射點反射激光的時間相同時，則表示定位板與拋光磨盤轉(zhuǎn)軸垂直。本處通過調(diào)整缸對平衡板的位置狀態(tài)進行調(diào)節(jié)，平衡板通過兩個延伸帶動定位板同步位移，以定位板為基準實現(xiàn)平衡板相對拋光磨盤轉(zhuǎn)軸垂直。

進一步的，所述修平主體包括修平板、接觸板和定位套，所述修平板固定連接于接觸板的上方，所述接觸板的側(cè)面與定位套的內(nèi)壁滑動連接，所述定位套的內(nèi)壁為圓弧面，接觸板可相對定位套活動，用于調(diào)節(jié)接觸板的位置，定位套設(shè)置用于接觸板的定位件。

進一步的，所述平衡板位于所述接觸板的下方，接觸板的內(nèi)部設(shè)置感應(yīng)板，感應(yīng)板為電極板，感應(yīng)板的位置與平衡板的位置對應(yīng)。優(yōu)選的，所述平衡板包括金屬板、玻璃板和電極板，所述金屬板與接觸板相對，所述感應(yīng)板和電極板帶相反電荷。