[發明專利]一種基體表面鍍層的制備方法

在審

• 申請號: 202211399660.2
• 申請日: 2022-11-09
• 公開（公告）號: CN115532569A
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 朱太榮;龐愛鎖;林佳繼;張武
• 申請（專利權）人: 深圳市拉普拉斯能源技術有限公司
• 主分類號: B05D7/24
• 分類號: B05D7/24;B05D5/00;B05D3/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 潘登

1.一種基體表面鍍層的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

(1)將二氧化硅、金屬氧化物和溶劑混合配制成漿料，再將漿料涂覆在基體表面，形成漿料層；

(2)將步驟(1)涂覆漿料層的基體進行固化處理，得到含有表面鍍層的基體。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述二氧化硅和金屬氧化物均為粉末狀顆粒，其粒徑獨立地為0.01～50μm；

所述金屬氧化物包括氧化鋁、氧化鋯、氧化釔、氧化鈣、氧化鈉或氧化鉀中任意一種或至少兩種的組合；

所述溶劑包括水和/或乙醇。

3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述漿料包括固相組分和液相組分，所述固相組分的質量分數為20～80wt％；

所述固相組分中二氧化硅的質量分數為35～70wt％，金屬氧化物的質量分數為30～65wt％。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述基體包括石英基體、碳化硅基體、石墨基體或金屬基體中任意一種或至少兩種的組合；

所述基體的表面為平面或弧面，所述弧面包括圓柱形側面。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(1)所述涂覆的方式包括噴涂或粉刷；

所述漿料涂覆后烘干，得到漿料層，所述漿料層的厚度為0.03～500μm。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述固化處理包括燒制、烘烤或干燥中任意一種；

所述燒制的方式包括采用燒制爐進行燒制；

所述烘烤的方式包括采用火焰槍進行烘烤。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述燒制的溫度為700～1350℃，時間為5～120min；

所述烘烤的溫度為1000～1700℃，時間為1～20min；

所述干燥的溫度為25～200℃，時間為8～12h。

8.根據權利要求4所述的制備方法，其特征在于，所述基體的表面為弧面時，固化時基體進行旋轉。

9.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，步驟(2)所述固化后降溫，重復涂覆、固化步驟至少一次，在上一層鍍層的基礎上再形成一層鍍層；

所述固化后形成的單層鍍層的厚度獨立地為0.01～1000μm。

10.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括以下步驟：

(1)將二氧化硅、金屬氧化物和溶劑混合配制成漿料，所述二氧化硅和金屬氧化物均為粉末狀顆粒，其粒徑獨立地為0.01～50μm，所述金屬氧化物包括氧化鋁、氧化鋯、氧化釔、氧化鈣或氧化鉀中任意一種或至少兩種的組合，所述溶劑包括水和/或乙醇，所述漿料的固相組分中二氧化硅的質量分數為35～70wt％，金屬氧化物的質量分數為30～65wt％，固相組分占漿料的質量分數為20～80wt％，再將漿料涂覆在基體表面，所述基體包括石英基體、碳化硅基體、石墨基體或金屬基體中任意一種或至少兩種的組合，所述涂覆的方式包括噴涂或粉刷，所述漿料涂覆后烘干，形成漿料層，所述漿料層的厚度為0.03～500μm；

(2)將步驟(1)涂覆漿料層的基體進行固化處理，所述固化處理包括燒制、烘烤或干燥中任意一種，所述燒制的溫度為700～1350℃，時間為5～120min；

所述烘烤的溫度為1000～1700℃，時間為1～20min；所述干燥的溫度為25～200℃，時間為8～12h，所述固化后降溫，重復進行涂覆、固化步驟至少一次，在上一層鍍層的基礎上再形成一層鍍層，單層鍍層的厚度獨立地為0.01～1000μm，得到含有表面鍍層的基體。