[發(fā)明專利]一種精準磨漿機及其磨漿方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211373923.2 | 申請日: | 2022-11-04 |
| 公開(公告)號: | CN115679738A | 公開(公告)日: | 2023-02-03 |
| 發(fā)明(設計)人: | 雷利榮 | 申請(專利權)人: | 華南理工大學 |
| 主分類號: | D21D1/20 | 分類號: | D21D1/20;D21D1/22;D21D1/30 |
| 代理公司: | 廣州市華學知識產(chǎn)權代理有限公司 44245 | 代理人: | 鄭秋松 |
| 地址: | 510640 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 精準 磨漿機 及其 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種精準磨漿機及其磨漿方法,該磨漿機設有第一磨漿元件和第二磨漿元件;第一磨漿元件通過支架與主軸固定連接,第二磨漿元件與磨室外殼固定連接,第一磨漿元件和第二磨漿元件設有相同的旋轉中軸線;第一磨漿元件和第二磨漿元件上均設有磨漿表面,兩者的磨漿表面之間設有磨漿空間,第一磨漿表面上和第二磨漿表面上的任一開孔在磨漿等距面上的正投影不互相重疊;第一漿槽通過第一磨漿表面的開孔與磨漿空間連通,第二漿槽通過第二磨漿表面的開孔與磨漿空間連通;進漿口將待磨纖維漿料輸送至磨漿空間,出漿口將磨漿后的纖維漿料排出。本發(fā)明將待磨纖維漿料高效、穩(wěn)定地導入和導出磨漿空間、且磨漿過程中待磨纖維漿料在磨漿空間經(jīng)受均勻的磨漿處理作用。
技術領域
本發(fā)明涉及纖維材料精磨的技術領域,具體涉及一種精準磨漿機及其磨漿方法。
背景技術
用于對纖維漿料進行磨漿的磨漿機一般包括兩個或兩個以上的磨漿元件,每個磨漿元件均設置有磨漿表面。這些磨漿元件被彼此相對地設置在磨室內,相對設置的磨漿元件的表面之間構成磨漿空間,纖維漿料在磨漿空間經(jīng)受磨漿處理的作用。在磨漿狀態(tài)下,待磨纖維漿料通過磨漿機進料口持續(xù)輸送到磨漿空間,在彼此相對設置的磨漿元件表面的相對移動作用下經(jīng)受磨漿處理的作用。然后,經(jīng)過磨漿處理的纖維漿料離開磨漿空間,通過出料口排出磨漿機。
現(xiàn)有技術公開了一種具有貫穿磨漿元件表面開孔的磨漿機,待磨纖維漿料通過磨漿元件表面上的貫穿開孔供給到磨漿空間,已經(jīng)過磨漿的纖維漿料通過另一個磨漿元件表面上的開孔離開磨漿空間,排出磨漿機,但該磨漿機存在以下缺陷:
1、通過調節(jié)供給區(qū)和供給通道容積來調控進入磨漿空間的纖維漿料容積,因而實際上供給到磨漿空間的待磨纖維漿料在磨漿空間的分布并不均勻;
2、導入的纖維漿料在磨漿空間的運動路徑是不可控、不確定的,因而在磨漿過程中待磨纖維漿料在磨漿空間無法經(jīng)受均勻的磨漿處理作用,且有部分纖維漿料未經(jīng)磨漿處理就排出磨漿空間。
而在磨漿過程中,將待磨纖維漿料高效地導入磨漿空間、以及將已充分磨漿的纖維漿料高效地導出磨漿空間并排出磨漿機是提高磨漿效率的關鍵因素之一;同時,使導入磨漿空間的纖維漿料分布均勻、且在磨漿空間移動相同的路徑,將能夠使纖維漿料經(jīng)受均勻的磨漿處理作用,對于增強纖維漿料及紙張性能至關重要,是提高磨漿效率的另一個關鍵因素。
發(fā)明內容
為了克服現(xiàn)有技術存在的缺陷與不足,本發(fā)明提供一種精準磨漿機及其磨漿方法,本發(fā)明采用了在磨漿元件內部設置與進漿口和磨漿表面貫穿開孔直接連通的供漿槽實現(xiàn)待磨纖維漿料高效地導入磨漿空間;通過在相對的另一個磨漿元件內部設置與出漿口和磨漿表面貫穿開孔直接連通的排漿槽實現(xiàn)磨漿空間中已經(jīng)充分磨漿處理的纖維漿料高效導出磨漿空間,使得纖維漿料高效、穩(wěn)定地導入和導出磨漿空間、且磨漿過程中待磨纖維漿料在磨漿空間經(jīng)受均勻的磨漿處理作用,解決了纖維漿料在磨漿空間高效、穩(wěn)定地導入和導出、及均勻磨漿的技術問題,達到了大幅提高磨漿效率和質量的技術效果。
為了達到上述目的,本發(fā)明采用以下技術方案:
本發(fā)明提供一種精準磨漿機,包括:第一磨漿元件、支架、主軸、第二磨漿元件、磨室外殼、進漿口和出漿口;
所述第一磨漿元件通過支架與主軸固定連接,所述第二磨漿元件與磨室外殼固定連接,所述第一磨漿元件和第二磨漿元件設有相同的旋轉中軸線,所述旋轉中軸線與主軸的中心軸重合;
第一磨漿元件上設有第一磨漿表面,第二磨漿元件上設有第二磨漿表面,所述第一磨漿表面和第二磨漿表面相對設置,所述第一磨漿表面和第二磨漿表面之間設有磨漿空間;
第一磨漿表面和第二磨漿表面均設有開孔,在磨漿狀態(tài)下,第一磨漿表面上的任一開孔和第二磨漿表面上的任一開孔在磨漿等距面上的正投影不互相重疊,所述磨漿等距面為位于磨漿空間且到第一磨漿表面和第二磨漿表面距離均相等的面;
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