[發(fā)明專利]移液點(diǎn)樣工作站

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211370405.5
• 申請(qǐng)日: 2022-11-03
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN115753762A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-03-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 周夫之;王羿;何萍萍;陳浩;施德盛;葉明漢
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 上海睿度光電科技有限公司
• 主分類號(hào): G01N21/84
• 分類號(hào): G01N21/84;G01N21/01;B01L3/00;B08B3/02
• 代理公司: 北京林達(dá)劉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會(huì)華

1.一種移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，包括：

基板(11)；

運(yùn)動(dòng)模塊(2)，所述運(yùn)動(dòng)模塊(2)安裝于所述基板(11)，所述運(yùn)動(dòng)模塊(2)包括導(dǎo)軌與滑塊，所述滑塊能夠?qū)崿F(xiàn)在相互垂直的X、Y、Z三個(gè)方向上移動(dòng)；

液滴模塊(3)，所述液滴模塊(3)包括針頭(334)，所述針頭(334)連通于外界環(huán)境，所述液滴模塊(3)被設(shè)置成通過(guò)控制氣壓而控制所述針頭(334)吸入及噴出液體；以及

檢測(cè)模塊(4)，所述檢測(cè)模塊(4)與所述液滴模塊(3)連接于所述運(yùn)動(dòng)模塊(2)中的同一所述滑塊而使得所述液滴模塊(3)與所述檢測(cè)模塊(4)能夠同步運(yùn)動(dòng)，所述檢測(cè)模塊(4)包括檢測(cè)相機(jī)(41)和補(bǔ)光設(shè)備(42)，所述檢測(cè)相機(jī)(41)能夠?qū)λ鲠橆^(334)噴出的液體進(jìn)行拍照，在水平方向中，所述針頭(334)位于所述檢測(cè)相機(jī)(41)和所述補(bǔ)光設(shè)備(42)之間。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述針頭(334)包括流道壁(3343)和位于所述流道壁(3343)中的流路(3344)，在沿著所述針頭(334)的軸線(L2)的截面中，所述流道壁(3343)的腰線(L1)與所述軸線(L2)的夾角為α，滿足：α≤30°，所述流路(3344)的橫截面為圓形。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，α≤10°。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述流路(3344)的直徑為R1，所述流道壁(3343)的端面的直徑為R2，滿足：

130μm≤R1≤250μm；

350μm≤R2≤700μm。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述液滴模塊還包括：

殼體結(jié)構(gòu)(335)，所述殼體結(jié)構(gòu)中設(shè)置有流道，所述流道的一端通斷可控地連接于所述針頭(334)；以及

流道控制結(jié)構(gòu)(336)，所述流道控制結(jié)構(gòu)(336)包括密封塞(3361)，所述流道控制結(jié)構(gòu)(336)通過(guò)控制所述密封塞(3361)堵塞或不堵塞所述針頭(334)與所述流道的連接位置而控制所述流道與所述針頭(334)的通斷。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，還包括清洗模塊(7)，所述清洗模塊(7)包括清洗區(qū)(71)，

所述清洗區(qū)(71)包括：

清洗槽(711)，所述清洗槽(711)的底部設(shè)置有用于排出液體的排出口(7111)；

清洗柱(712)，所述清洗柱(712)設(shè)置在所述清洗槽(711)中，所述清洗柱(712)中設(shè)置有一個(gè)或多個(gè)清洗孔(7121)，所述清洗孔(7121)中能夠豎直向上地噴出清洗液，且所述清洗液的噴出高度大于所述清洗柱(712)的最高點(diǎn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述清洗柱(712)的頂面包括傾斜程度不同的兩個(gè)面，所述傾斜程度不同的兩個(gè)面之間為轉(zhuǎn)折部(7122)，所述轉(zhuǎn)折部(7122)穿過(guò)所述清洗孔(7121)的圓心。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述傾斜程度不同的兩個(gè)面包括水平面(7123)和斜面(7124)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述斜面(7124)的高度隨著遠(yuǎn)離所述轉(zhuǎn)折部(7122)而逐漸降低，在水平方向上，所述斜面(7124)比所述水平面(7123)更靠近所述排出口(7111)。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的移液點(diǎn)樣工作站，其特征在于，所述清洗模塊(7)包括干燥區(qū)(72)，所述干燥區(qū)(72)包括干燥塊(721)、底座(722)和導(dǎo)軌(723)，所述底座(722)滑動(dòng)安裝于所述導(dǎo)軌(723)，所述干燥塊(721)連接于所述底座(722)，所述干燥塊(721)抵靠于所述清洗槽(711)。