[發明專利]一種鍍鐵溶液、及其制備方法和電鍍工藝與應用

在審

• 申請號: 202211355454.1
• 申請日: 2022-11-01
• 公開（公告）號: CN115679395A
• 公開（公告）日: 2023-02-03
• 發明（設計）人: 葉宏煜;潘秉鎖;孫文文
• 申請（專利權）人: 武漢鼎龍匯達材料科技有限公司
• 主分類號: C25D3/20
• 分類號: C25D3/20;C25D7/00;C25D15/00;B24B53/017
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，包括：三價鐵離子的草酸配合物，pH緩沖劑，氯化鹽類輔助試劑，去應力劑，潤濕劑；所述鍍鐵溶液的pH為3.0-3.8。

2.如權利要求1所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，所述鍍鐵溶液中的含鐵濃度為0.3-0.5mol/L；

所述pH緩沖劑的濃度為0.4-0.7mol/L；

所述氯化鹽類輔助試劑的濃度為0.2-0.7mol/L；

所述去應力劑的濃度為0.01-0.025mol/L；

所述潤濕劑的濃度為0.35-1.4mmol/L。

3.如權利要求1所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，所述三價鐵離子的草酸配合物為草酸高鐵銨形成的配合物、可溶性三價鐵鹽和草酸銨形成的配合物中的一種或多種。

4.如權利要求3所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，所述可溶性三價鐵鹽為氯化鐵、硫酸鐵、氨基磺酸鐵中的一種或多種。

5.如權利要求3或4所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，所述草酸銨與所述可溶性三價鐵鹽的摩爾比例至少為3.1:1。

6.如權利要求1所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液，其特征在于，所述pH緩沖劑為硼酸；

所述氯化鹽類輔助試劑為氯化銨、氯化錳、氯化鈉中的一種或多種；

所述去應力劑為鄰苯甲酰磺酰亞胺鈉、對甲苯磺酰胺鈉、對甲苯亞磺酸鈉中的一種或多種；

所述潤濕劑為十二烷基硫酸鈉、亞甲基雙萘磺酸鈉的一種或多種。

7.如權利要求1～6任一項所述的用于制造拋光墊修整器的鍍鐵溶液的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1、將pH緩沖劑和氯化鹽類輔助試劑加入去離子水中，加熱至60-80℃，攪拌至完全溶解后，調節pH至3，得第一溶液；

S2、將三價鐵離子的草酸配合物加入第一溶液中，攪拌至完全溶解，得第二溶液；

S3、將去應力劑和潤濕劑加入第二溶液中，然后補充去離子水至預設體積，調節pH值范圍至3.0-3.8，得鍍鐵溶液；

步驟S1中加入的去離子水的體積為預設體積的2/3。

8.如權利要求1～6任一項所述的鍍鐵溶液或如權利要求7所述的制備方法制備得到的鍍鐵溶液的電鍍工藝，其特征在于，包括以下步驟：以修整器的基體作為陰極，純鐵板作為陽極，電鍍溫度30-40℃，鍍鐵溶液pH為3.0-3.8，電流密度0.5-2.0A/dm²。

9.如權利要求8所述的電鍍工藝，其特征在于，電流波形可以為直流、單脈沖電流或雙脈沖電流中的一種；

當采用脈沖電鍍時，脈沖電流的占空比為5％-50％，峰值電流1.0-4.0A/dm²。

10.一種拋光墊修整器，其如權利要求8所述的電鍍工藝制備得到，所述修整器鍍層的粗糙度Ra為0.3-0.5μm。