[發明專利]發聲裝置和電子設備在審
| 申請號: | 202211347856.7 | 申請日: | 2022-10-31 |
| 公開(公告)號: | CN115460523A | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發明(設計)人: | 蔡曉東;劉松 | 申請(專利權)人: | 歌爾股份有限公司 |
| 主分類號: | H04R9/06 | 分類號: | H04R9/06;H04R9/02 |
| 代理公司: | 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287 | 代理人: | 楊培權 |
| 地址: | 261031 山東省濰*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 發聲 裝置 電子設備 | ||
1.一種發聲裝置,其特征在于,所述發聲裝置包括:
殼體,所述殼體為金屬件,所述殼體具有容腔,所述殼體還設有位于所述容腔內的支撐臂;
磁路系統,所述磁路系統連接于所述殼體,并位于所述容腔內,所述磁路系統設有磁間隙,所述支撐臂位于所述磁間隙的外側;及
振動系統,所述振動系統包括振膜和音圈,所述振膜連接于所述殼體,并與所述磁路系統相對且間隔,所述音圈的一端與所述振膜連接,另一端懸設于所述磁間隙內,所述音圈具有引線,所述引線從所述磁間隙內引出至所述支撐臂,并支撐于所述支撐臂。
2.根據權利要求1所述的發聲裝置,其特征在于,所述殼體包括平直壁和豎直壁,所述豎直壁由所述平直壁彎折延伸形成,所述平直壁和所述豎直壁圍合形成容腔,所述支撐臂由所述豎直壁朝向所述容腔內彎折延伸形成,并所述平直壁相對且間隔;
所述磁路系統具有位于所述容腔內的豎直部,所述豎直部位于所述豎直壁內側,并與所述豎直壁間隔以配合形成走線腔,所述支撐臂位于所述走線腔內;
其中,所述引線從所述磁間隙內引出至所述走線腔內,并支撐于所述支撐臂。
3.根據權利要求2所述的發聲裝置,其特征在于,所述支撐臂包括相連接的平臺部和傾斜部,所述平臺部與所述豎直壁連接,所述傾斜部由所述平臺部朝向所述走線腔內傾斜延伸;
所述發聲裝置還包括導電件,所述導電件設于所述平臺部,所述引線經由所述傾斜部引導至所述平臺部,并與所述導電件連接。
4.根據權利要求3所述的發聲裝置,其特征在于,所述傾斜部至所述平直壁的距離從鄰近所述平臺部的一端至遠離所述平臺部的一端逐漸減??;
且/或,所述引線鄰近所述導電件的一端通過膠層與所述傾斜部連接,所述膠層為阻尼膠;
且/或,所述導電件為FPCB。
5.根據權利要求2所述的發聲裝置,其特征在于,所述音圈具有首尾相連的長軸邊和短軸邊;
所述引線包括兩個,每一所述引線對應一所述長軸邊設置;
所述豎直壁對應每一所述長軸邊彎折延伸形成一所述支撐臂,且所述豎直部和所述豎直壁對應每一所述長軸邊形成一所述走線腔;
其中,每一所述引線從所述磁間隙內引出至一所述走線腔內,并支撐于一所述支撐臂。
6.根據權利要求5所述的發聲裝置,其特征在于,所述磁路系統包括:
導磁軛,所述導磁軛包括底部和設于所述底部周緣的所述豎直部,所述豎直部與所述底部圍合形成容置槽;和
中心磁路部分,所述中心磁路部分設于所述容置槽內,并與所述豎直部間隔,以形成所述磁間隙。
7.根據權利要求6所述的發聲裝置,其特征在于,所述豎直部包括多個,多個所述豎直部沿所述底部周緣間隔設置,相鄰兩個所述豎直部形成連通缺口,所述走線腔通過所述連通缺口與所述磁間隙連通。
8.根據權利要求6所述的發聲裝置,其特征在于,所述導磁軛還包括定位部,所述定位部由所述豎直部對應所述短軸邊的一側朝向背離所述容置槽彎折延伸形成,所述定位部與所述豎直壁抵接限位。
9.根據權利要求8所述的發聲裝置,其特征在于,所述豎直壁對應所述短軸邊還設有定位缺口,所述定位部對應所述定位缺口凸設有定位凸起,所述定位凸起容納并限位于所述定位缺口內;
且/或,所述平直壁對應所述短軸邊的一側朝向所述容腔內彎折延伸形成定位臺,所述定位臺與所述定位部抵接定位。
10.根據權利要求6所述的發聲裝置,其特征在于,所述導磁軛還包括遮蓋部,所述遮蓋部由所述豎直部對應所述長軸邊的一側彎折延伸形成,所述遮蓋部與所述平直壁相對且間隔,以使所述平直壁、所述豎直壁、所述遮蓋部及所述豎直部配合形成所述走線腔,所述支撐臂位于所述平直壁和所述遮蓋部之間。
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