[發(fā)明專利]磁體系統(tǒng)、濺射設(shè)備和方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211330782.6
• 申請(qǐng)日: 2022-10-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN116130328A
• 公開(kāi)（公告）日: 2023-05-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: K·施耐德;G·格羅斯;T·桑德;R·豪斯瓦爾德
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 馮·阿登納資產(chǎn)股份有限公司
• 主分類號(hào): H01J37/34
• 分類號(hào): H01J37/34;C23C14/35
• 代理公司: 北京市鑄成律師事務(wù)所 11313
• 代理人: 王珺;李文穎

1.一種用于濺射設(shè)備(300)的磁體系統(tǒng)(100)，所述磁體系統(tǒng)(100)包括：

·殼體(406g)，所述殼體具有殼體內(nèi)部空間(406h)；

·磁體載體(102)，所述磁體載體設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且借助于所述殼體(406g)支撐，優(yōu)選地以相對(duì)于所述殼體位置固定的方式支撐；

·除濕設(shè)備，所述除濕設(shè)備鄰接于所述殼體內(nèi)部空間(406h)或設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間中，用于對(duì)所述殼體內(nèi)部空間(406h)進(jìn)行除濕。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁體系統(tǒng)(100)，其中所述除濕設(shè)備具有冷卻阱(408)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的磁體系統(tǒng)(100)，還包括：

·流體接口，所述流體接口與所述冷卻阱(408)耦聯(lián)，用于對(duì)所述冷卻阱(408)供應(yīng)冷卻流體。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或3所述的磁體系統(tǒng)(100)，其中所述除濕設(shè)備具有吸濕材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4中任一項(xiàng)所述的磁體系統(tǒng)(100)，其中所述除濕設(shè)備具有兩個(gè)流體接口，所述流體接口借助于所述殼體內(nèi)部空間(406h)以彼此引導(dǎo)流體的方式連接。

6.一種用于濺射設(shè)備(300)的磁體系統(tǒng)(100)，所述磁體系統(tǒng)(100)包括：

·殼體(406g)，所述殼體具有殼體內(nèi)部空間(406h)；

·磁體載體(102)，所述磁體載體設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且借助于所述殼體(406g)支撐，優(yōu)選地以相對(duì)于所述殼體位置固定的方式支撐；

·貧水流體，所述貧水流體設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且所述磁體載體(102)至少部分地嵌入所述貧水流體中；

·其中所述貧水流體具有小于1％的水物質(zhì)百分比。

7.一種用于濺射設(shè)備(300)的磁體系統(tǒng)(100)，所述磁體系統(tǒng)(100)包括：

·殼體(406g)，所述殼體具有殼體內(nèi)部空間(406h)；

·磁體載體(102)，所述磁體載體設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且借助于所述殼體(406g)支撐，優(yōu)選地以相對(duì)于所述殼體位置固定的方式支撐；

·電路，所述電路設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且以水密封方式封裝。

8.一種用于濺射設(shè)備(300)的磁體系統(tǒng)(100)，所述磁體系統(tǒng)(100)包括：

·殼體(406g)，所述殼體具有殼體內(nèi)部空間(406h)；

·磁體載體(102)，所述磁體載體設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中并且借助于所述殼體(406g)支撐；

·濕度傳感器，所述濕度傳感器鄰接于所述殼體內(nèi)部空間(406h)或設(shè)置在所述殼體內(nèi)部空間中，用于檢測(cè)所述殼體內(nèi)部空間(406h)的化學(xué)組分。

9.根據(jù)權(quán)利要求1至8中任一項(xiàng)所述的磁體系統(tǒng)(100)，還包括：

·多個(gè)磁體，所述磁體借助于磁體支架保持在所述殼體內(nèi)部空間(406h)中。

10.一種用于對(duì)根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的磁體系統(tǒng)(100)進(jìn)行除濕的方法，包括：

·從殼體內(nèi)部引出第一流體，所述殼體內(nèi)部由所述第一流體填充和/或所述磁體載體(102)嵌入所述第一流體中；

·將第二流體引入所述殼體內(nèi)部中，所述殼體內(nèi)部由所述第二流體填充和/或所述磁體載體(102)嵌入所述第二流體中；

·其中所述第二流體具有比所述第一流體的氣態(tài)水物質(zhì)百分比更低的氣態(tài)水物質(zhì)百分比和/或比所述第一流體的液態(tài)水物質(zhì)百分比更高的液態(tài)水物質(zhì)百分比。

11.一種濺射設(shè)備(300)，包括：

·支承設(shè)備，優(yōu)選具有一個(gè)或多個(gè)端塊，所述支承設(shè)備用于能轉(zhuǎn)動(dòng)地支承濺射靶；

·根據(jù)權(quán)利要求1至9中任一項(xiàng)所述的磁體系統(tǒng)(100)，所述磁體系統(tǒng)借助于所述支承設(shè)備以相對(duì)于所述支承設(shè)備位置固定的方式支承在所述濺射靶內(nèi)。