[發明專利]一種書法篆刻藝術教學系統

在審

• 申請號: 202211327690.2
• 申請日: 2022-10-27
• 公開（公告）號: CN115547145A
• 公開（公告）日: 2022-12-30
• 發明（設計）人: 趙瑩超
• 申請（專利權）人: 鄭州航空工業管理學院
• 主分類號: G09B11/00
• 分類號: G09B11/00;B44B1/00;B44B1/06;B44B3/00;B44B3/06
• 代理公司: 北京東方盛凡知識產權代理有限公司 11562
• 代理人: 張鸞

本發明公開了一種書法篆刻藝術教學系統，包括：教學模塊，用于檢索目標漢字，并展示所述目標漢字的基礎知識和書寫過程；臨摹模塊，用于對所述目標漢字進行臨摹，并對生成的臨摹書寫圖像進行糾錯，直至滿足臨摹條件；篆刻模塊，用于采用搭載光學追蹤傳感器的篆刻刀對滿足臨摹條件的臨摹書寫圖像進行篆刻，生成篆刻作品圖像；監測模塊，用于對篆刻刀在篆刻過程中生成的運動軌跡、運動速度進行實時監測；分析模塊，用于對監測結果進行綜合分析，生成學習目標達成度；顯示模塊，用于顯示所述臨摹書寫圖像、篆刻作品圖像和學習目標達成度。本發明提出的教學系統充分發揮了用戶的主觀能動性，提高了教學效果和教學效率。

技術領域

本發明屬于教學技術領域，特別是涉及一種書法篆刻藝術教學系統。

背景技術

書法篆刻學是是一門綜合性很強的藝術，直溯文字淵源，旁通書、畫之理，又兼涉鐫刻技藝，內含人品性格和文學修養，從里到外都散發著強烈的藝術感染力，對提高學生的審美理念和藝術品位有著重要的意義。然而，由于書法篆刻藝術的學科教育發展相對較晚，教材建設還不夠完善，相關的教學輔助資料亦很匱乏，多媒體教學系統尚未建立，教學體系與結構的不合理性等，書法篆刻藝術的教學越來越引起專家的重視。但是目前的教學系統將書法與篆刻割裂開來分別授課，造成用戶消化理解的時間短，實際效果不佳的問題，因此，提出一種書法與篆刻相結合的教學系統具有重要的意義。

發明內容

本發明的目的是提供一種書法篆刻藝術教學系統，以解決上述現有技術存在的問題。

為實現上述目的，本發明提供了一種書法篆刻藝術教學系統，包括：

教學模塊，用于檢索目標漢字，并展示所述目標漢字的基礎知識和書寫過程；

臨摹模塊，與所述教學模塊連接，用于對所述目標漢字進行臨摹，并對生成的臨摹書寫圖像進行糾錯，直至滿足臨摹條件；

篆刻模塊，與所述臨摹模塊連接，用于采用搭載光學追蹤傳感器的篆刻刀對滿足臨摹條件的臨摹書寫圖像進行篆刻，生成篆刻作品圖像；

監測模塊，與所述篆刻模塊連接，用于對篆刻刀在篆刻過程中生成的運動軌跡、運動速度和印石反作用力數據進行實時監測；

分析模塊，與所述監測模塊連接，用于對監測結果進行綜合分析，生成學習目標達成度；

顯示模塊，與所述分析模塊連接，用于顯示所述臨摹書寫圖像、篆刻作品圖像和學習目標達成度。

可選的，所述教學模塊包括：

檢索單元，用于接收用戶的檢索請求，并在字體庫中搜索目標檢索漢字；

第一教學單元，用于展示目標檢索漢字的基礎知識和演變過程；

第二教學單元，用于展示目標檢索漢字的筆畫特征和空間特征；

第三教學單元，用于展示目標檢索漢字的正確書寫順序和用筆方式。

可選的，所述臨摹模塊包括：

臨摹單元，用于基于臨摹桌上方的高拍儀采集用戶的臨摹書寫圖像，并實時傳遞給顯示模塊進行顯示；

糾錯單元，用于基于所述臨摹書寫圖像，對錯誤的筆畫特征、空間特征、書寫順序和用筆方式進行糾錯并繼續進行臨摹，直至獲得滿足臨摹條件的目標漢字。

可選的，所述篆刻模塊包括：

篆刻教學單元，用于展示并示范篆刻技法和篆刻步驟；

照射定位單元，用于基于所述目標文字對篆刻刀的落點進行定位指示，并利用目標篆刻刀進行篆刻。

可選的，所述目標篆刻刀包括置于目標篆刻刀尾部的光學追蹤傳感器、若干個光學標記球；