[發明專利]一種多方位角照射系統及其應用方法

有效

• 申請號: 202211292657.0
• 申請日: 2022-10-21
• 公開（公告）號: CN115531743B
• 公開（公告）日: 2023-06-20
• 發明（設計）人: 張金泉;楊建成;夏佳文;詹文龍;阮爽;鄭亞軍;盛麗娜
• 申請（專利權）人: 中國科學院近代物理研究所
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 謝斌

1.一種多方位角照射系統，其特征在于，包括配送段和多方位角照射段；

其中，所述配送段適于對來自前級加速器的束流進行橫向調制包絡后導入所述多方位角照射段；

所述多方位角照射段適于根據要求對束流實施不同的方位角調制后導入位于照射野內的設定位置；

所述多方位角照射段包括順次布置的第一導向磁鐵、第二導向磁鐵、第三導向磁鐵和雙向掃描磁鐵組，其中所述第一導向磁鐵被構造為等腰梯形，所述第二導向磁鐵被構造為矩形，所述第三導向磁鐵被構造為弧形，所述第三導向磁鐵的外弧朝向所述第二導向磁鐵，且所述第一導向磁鐵、第二導向磁鐵和第三導向磁鐵的對稱中心同軸布置；所述雙向掃描磁鐵組布置在所述第三導向磁鐵的下游，且所述雙向掃描磁鐵組被構造為可沿所述第三導向磁鐵的內弧方向移動；

來自配送段的束流進入所述多方位角照射段后，首先由所述第一導向磁鐵將束流切入指定方位角的軌道后導入所述第二導向磁鐵，所述第二導向磁鐵再將束流切入相應的平行軌道后導入所述第三導向磁鐵，最后通過所述第三導向磁鐵把該平行軌道內的束流導入照射野，同時位于所述第三導向磁鐵下游的所述雙向掃描磁鐵組隨著不同入射的方位角變化進行位置的同步移動，使束流始終圍繞其橫向位置的中心點切入至照射野內的設定位置。

2.根據權利要求1所述的多方位角照射系統，其特征在于，所述配送段包括第一四極透鏡組和第二四極透鏡組，所述第一四極透鏡組和第二四極透鏡組均為由1臺水平聚焦四極透鏡和1臺水平散焦四極透鏡組成FODO結構。

3.根據權利要求1所述的多方位角照射系統，其特征在于，所述多方位角照射段分為常溫和超導兩種模式，即所述第一導向磁鐵、第二導向磁鐵和第三導向磁鐵為3臺常溫或超導二極磁鐵，常溫模式下其導向磁鐵的最高磁場為1.8T，超導模式下其導向磁鐵的最高磁場為3.0T以上。

4.根據權利要求1所述的多方位角照射系統，其特征在于，所述第三導向磁鐵與所述雙向掃描磁鐵組之間采用20-100mm的空氣段隔斷。

5.根據權利要求4所述的多方位角照射系統，其特征在于，所述空氣段兩側的真空室分別采用鈦合金真空窗密封。