[發(fā)明專利]一種具有吸收光柵功能的X射線熒光屏及其制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211288827.8 | 申請日： | 2022-10-20 |
| 公開（公告）號： | CN115762844A | 公開（公告）日： | 2023-03-07 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 雷耀虎;馮承銘;李冀;黃建衡;劉鑫 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳大學(xué) |
| 主分類號： | G21K4/00 | 分類號： | G21K4/00 |
| 代理公司： | 深圳市瑞方達(dá)知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44314 | 代理人： | 張秋紅 |
| 地址： | 518060 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 具有 吸收 光柵 功能 射線 熒光屏 及其 制作方法 | ||
1.一種具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1、光柵微結(jié)構(gòu)制作：在基底(100)上的一表面制作光柵槽(1)或光柵孔，光柵槽(1)或光柵孔排列形成光柵槽陣列或光柵孔陣列；
S2、X射線強(qiáng)吸收重金屬(2)填充：向光柵槽(1)或光柵孔內(nèi)填充X射線強(qiáng)吸收重金屬(2)；
S3、清洗干燥：對基底(100)上相對于所述光柵微結(jié)構(gòu)的另一表面進(jìn)行清洗，除去表面殘留的重金屬，然后干燥；
S4、沉積蒸鍍預(yù)處理：將基底(100)放置于真空爐內(nèi)，將基底(100)相對光柵微結(jié)構(gòu)的另一表面朝下，下方放有X射線熒光材料，將基底(100)進(jìn)行預(yù)熱處理；
S5、沉積蒸鍍：將X射線熒光材料進(jìn)行加熱，使X射線熒光材料受熱蒸發(fā)，均勻沉積于基底(100)表面，基底(100)形成熒光層(3)，結(jié)束蒸鍍，冷卻至室溫，得到具有吸收光柵功能的X射線熒光屏。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在步驟S1中，所述基底(100)選用硅基底(100)、塑料基底(100)或金剛石基底(100)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，步驟S1之后還包括S11、清洗干燥：采用有機(jī)溶劑、水清洗所述光柵微結(jié)構(gòu)，然后干燥；所述有機(jī)溶劑選用乙醇或丙酮，所述清洗為超聲清洗或振蕩清洗。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，步驟S2中，所述X射線強(qiáng)吸收重金屬選用鉍、金錫合金、鎢、金、銥或鉛，向光柵槽(1)或光柵孔內(nèi)填充X射線強(qiáng)吸收重金屬(2)的方法包括微鑄造法、金屬顆粒填充法、電鍍法以及原子層沉積法。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在S2步驟之前還包括S20、基底(100)表面改性：對基底(100)表面的光柵槽(1)或光柵孔內(nèi)壁面進(jìn)行表面改性處理，得到一層改性薄膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在S3步驟中，所述清洗包括使用有機(jī)溶劑進(jìn)行超聲清洗并使用與所述X射線強(qiáng)吸收重金屬(2)反應(yīng)的溶液以除去殘留重金屬，所述有機(jī)溶劑為丙酮或酒精。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在步驟S4中，所述X射線熒光材料為針柱狀結(jié)構(gòu)的CsI(Tl)、硫氧化釓、鈣鈦礦X射線熒光材料中的至少一種；所述基底(100)的預(yù)熱溫度為100-300℃。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在步驟S5中，X射線熒光材料的加熱溫度高于200℃。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法，其特征在于，在步驟S5中，得到熒光層(3)后還包括S51、熒光層(3)封裝：將基底(100)置于干燥環(huán)境下，對熒光層(3)進(jìn)行封裝，使熒光層(3)表面覆蓋一層薄膜保護(hù)層(4)，所述薄膜保護(hù)層(4)材料選自PMMA或PET。
10.一種具有吸收光柵功能的X射線熒光屏，采用權(quán)利要求1-9任意一項的具有吸收光柵功能的X射線熒光屏的制作方法獲取，包括基底(100)，其特征在于，所述基底(100)的一表面設(shè)有光柵槽(1)或光柵孔，光柵槽(1)或光柵孔排列形成光柵槽(1)陣列或光柵孔陣列，所述光柵槽(1)或光柵孔中填充有X射線強(qiáng)吸收重金屬(2)；所述基底(100)相對于光柵槽(1)或所述光柵孔的另一表面設(shè)有熒光層(3)，所述熒光層(3)由X射線熒光材料蒸鍍沉積形成。
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