[發(fā)明專利]一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法、裝置及計算機(jī)設(shè)備

在審

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• 申請日: 2022-10-20
• 公開（公告）號: CN116051669A
• 公開（公告）日: 2023-05-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 高世嘉
• 申請（專利權(quán)）人: 東方晶源微電子科技(北京)有限公司
• 主分類號: G06T11/20
• 分類號: G06T11/20;G06T5/00;G06T7/13
• 代理公司: 深圳市智享知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44361
• 代理人: 馮彬彬

本發(fā)明涉及光刻技術(shù)領(lǐng)域，其特別涉及一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法、裝置及計算機(jī)設(shè)備，本發(fā)明提供的一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法，包括以下步驟：基于預(yù)處理圖像的像素點提取輪廓點并基于輪廓點建立貝塞爾曲線的數(shù)學(xué)曲線模型；基于數(shù)學(xué)曲線模型對預(yù)處理圖像進(jìn)行預(yù)處理獲得數(shù)字信號圖像；對數(shù)字信號圖像依次進(jìn)行卷積處理和降采樣處理以生成數(shù)字圖像。本發(fā)明還提供一種裝置及計算機(jī)設(shè)備。解決了現(xiàn)有技術(shù)生成數(shù)字圖像效率低，清晰度差問題。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及計算光刻技術(shù)領(lǐng)域，其特別涉及一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法、裝置及計算機(jī)設(shè)備。

背景技術(shù)

集成電路的物理設(shè)計是以性能、功耗和面積為考量指標(biāo)，設(shè)計可用于制造的掩模版圖文件面積與標(biāo)準(zhǔn)單元的層次化設(shè)計，為電子設(shè)計自動化提供了良好的環(huán)境。

目前的曲線掩模版圖，包括基于光學(xué)和極紫外線光刻技術(shù)的掩模主要由的微小特征組成。鑒于曲線輪廓特性，目前標(biāo)準(zhǔn)單元的圖像設(shè)計系統(tǒng)主要以像素化形式展現(xiàn)曲線掩模輪廓版圖。現(xiàn)有技術(shù)通過將像素化后的像素點進(jìn)行擬合獲得曲線掩膜的輪廓，擬合過程中，像素點的數(shù)據(jù)量大需要耗費大量算力，因此渲染生成數(shù)字圖像需要花費大量時間，同時擬合獲得的曲線掩膜輪廓清晰度差導(dǎo)致最終渲染生成的數(shù)字圖像容易出現(xiàn)清晰度差的問題。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決現(xiàn)有技術(shù)中生成數(shù)字圖像效率低，清晰度差問題，本發(fā)明提供一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法、裝置及計算機(jī)設(shè)備。

本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題，提供如下的技術(shù)方案：一種曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法，包括以下步驟：

獲取預(yù)處理圖像；

基于預(yù)處理圖像的像素點提取輪廓點并基于輪廓點建立貝塞爾曲線的數(shù)學(xué)曲線模型；

基于數(shù)學(xué)曲線模型對預(yù)處理圖像進(jìn)行預(yù)處理獲得數(shù)字信號圖像；

對數(shù)字信號圖像依次進(jìn)行卷積處理和降采樣處理以生成數(shù)字圖像。

優(yōu)選地，獲取預(yù)處理圖像包括如下步驟：

通過視覺識別的方式獲取掩膜上的初始圖像；

將初始圖像進(jìn)行像素化以獲得初始圖像像素點；

采用預(yù)設(shè)算法對像素點進(jìn)行降噪處理以獲得預(yù)處理圖像。

優(yōu)選地，其特征在于：所述預(yù)設(shè)算法為高斯平滑，所述高斯平滑的公式為：

；

其中x為像素點的橫軸坐標(biāo)值，y像素點的縱軸坐標(biāo)值，為置信區(qū)間。

優(yōu)選地，基于數(shù)學(xué)曲線模型對預(yù)處理圖像進(jìn)行預(yù)處理獲得數(shù)字信號圖像包括如下步驟：

識別預(yù)處理圖像上所有的像素點；

基于數(shù)學(xué)曲線模型對預(yù)處理圖像進(jìn)行二值化處理以對像素點進(jìn)行第一賦值或第二賦值以生成數(shù)字信號圖像。

優(yōu)選地，基于數(shù)學(xué)曲線模型對預(yù)處理圖像進(jìn)行二值化處理包括如下步驟：

界定數(shù)學(xué)曲線模型為邊界并采用射線法判斷像素點是否在邊界內(nèi)；

若像素點處于邊界內(nèi)，對像素點進(jìn)行第一賦值；若像素點處于邊界外，對像素點進(jìn)行第二賦值。

優(yōu)選地，所述對數(shù)字信號圖像依次進(jìn)行卷積處理包括如下步驟：采用SINC函數(shù)對數(shù)字信號圖像進(jìn)行處理；所述SINC函數(shù)為：

；

其中x為像素點坐標(biāo)值。

優(yōu)選地，采用輪廓提取法或邊界跟蹤法基于預(yù)處理圖形的像素點提取輪廓點。

本發(fā)明為解決上述技術(shù)問題，提供又一技術(shù)方案如下：一種裝置，應(yīng)用于上述曲線掩膜的數(shù)字圖像生成方法，所述裝置包括：

識別模塊：用于獲取預(yù)處理圖像的像素點；

提取模塊：用于基于預(yù)處理圖像的像素點提取輪廓點；