[發明專利]光柵結構及系統在審
| 申請號： | 202211280023.3 | 申請日： | 2022-10-19 |
| 公開（公告）號： | CN115561849A | 公開（公告）日： | 2023-01-03 |
| 發明（設計）人： | 郝磊;羅群 | 申請（專利權）人： | 嘉興微瑞光學有限公司 |
| 主分類號： | G02B5/18 | 分類號： | G02B5/18;G02B1/11 |
| 代理公司： | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人： | 何世磊 |
| 地址： | 314011 浙江省嘉興市秀洲區*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光柵 結構 系統 | ||
1.一種光柵結構，其特征在于，包括基底層以及光柵層：
所述基底層包括至少一基底結構，所述基底結構遠離所述光柵層的一側表面為平面；
所述光柵層為周期結構，所述光柵層包括多個間隔設置的單周期結構，所述單周期結構設于所述基底層的一側，且各所述單周期結構的占空比相同。
2.根據權利要求1所述的光柵結構，其特征在于，所述單周期結構為梯形結構、且所述單周期結構為對稱結構，所述單周期結構與所述基底層的雙側傾斜角為銳角。
3.根據權利要求1或2所述的光柵結構，其特征在于，所述基底層包括兩基底結構，兩所述基底結構分設于所述光柵層的兩端、且與所述光柵層形成三明治結構，當所述基底結構與所述光柵層封裝時，所述光柵層處于密封狀態。
4.根據權利要求1所述的光柵結構，其特征在于，所述光柵層中的介質為空氣和光學透明介質或兩種不同的光學透明介質。
5.根據權利要求3所述的光柵結構，其特征在于，在所述基底結構遠離所述光柵層的一側表面上鍍有減反射膜。
6.根據權利要求3所述的光柵結構，其特征在于，所述光柵結構還包括殘膠層，所述殘膠層設于所述單周期結構與所述基底結構之間。
7.根據權利要求3所述的光柵結構，其特征在于，所述基底結構的材質采用均勻光學透明介質。
8.根據權利要求3所述的光柵結構，其特征在于，所述單周期結構的線密度為800～1200線/mm，所述單周期結構的調制深度為1.5～4.6μm，所述單周期結構的占空比為0.45～0.85，所述單周期結構的雙側傾斜角為0～5°。
9.根據權利要求3所述的光柵結構，其特征在于，所述光柵結構為非偏振光柵。
10.一種光學設備，其特征在于，包括上述權利要求1至9任一項所述的光柵結構。
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