[發(fā)明專利]異物檢查方法、異物檢查裝置以及物品的制造方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202211269716.2
• 申請日: 2022-10-18
• 公開（公告）號: CN116008298A
• 公開（公告）日: 2023-04-25
• 發(fā)明（設計）人: 鳥波祐記;中島大輔;薄井克俊;巖﨑泰久;堀籠翔太;宮本一輝
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G01N21/94
• 分類號: G01N21/94;G01N21/01
• 代理公司: 中國貿(mào)促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種異物檢查方法，進行在載置臺上配置物體并一邊使所述載置臺以及對所述物體投射檢查光的投光部中的至少一方驅(qū)動一邊檢查所述物體的檢查區(qū)域上的異物的異物檢查，其特征在于，包括：

第1檢查工序，檢查所述檢查區(qū)域中的所述異物；

清潔工序，對所述檢查區(qū)域進行清潔；以及

第2檢查工序，檢查在所述清潔工序中清潔后的所述檢查區(qū)域中的所述異物，

在所述第2檢查工序中，在所述檢查區(qū)域中的在所述第1檢查工序中檢測到所述異物的第1區(qū)域中，所述載置臺和所述投光部的相對速度被設定為第1速度，在所述檢查區(qū)域中的在所述第1檢查工序中未檢測到所述異物的第2區(qū)域中，所述相對速度被設定為比所述第1速度快的第2速度。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第2檢查工序中，僅在所述第1區(qū)域中進行異物檢查。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第1檢查工序中，所述相對速度為所述第1速度以下。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第1檢查工序以及所述第2檢查工序中，根據(jù)對所述物體投射的所述檢查光被所述異物散射后的散射光的光量，檢查有無所述異物。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第1檢查工序以及所述第2檢查工序中的至少一方中，在檢測到所述異物的情況下，不檢查所述檢查區(qū)域中的未進行所述異物檢查的區(qū)域而結(jié)束所述異物檢查。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

還具有將與所述異物檢查有關的信息顯示于顯示部的顯示工序，

在所述顯示工序中，顯示表示在所述第1檢查工序中所述檢查區(qū)域中的檢測到所述異物的位置的信息。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

還具有輸入與所述異物檢查有關的信息的輸入工序，

通過在輸入部中設定執(zhí)行異物檢查的區(qū)域，確定所述檢查區(qū)域。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的異物檢查方法，其特征在于，

所述第2速度是所述第1速度的2倍以上的速度。

9.一種異物檢查方法，進行在載置臺上配置物體并使所述載置臺以及對所述物體投射檢查光的投光部中的至少一方驅(qū)動來檢測所述物體的檢查區(qū)域上有無異物的異物檢查，其特征在于，包括：

第1檢查工序，檢查所述檢查區(qū)域中的所述異物；

清潔工序，對所述檢查區(qū)域進行清潔；以及

第2檢查工序，檢查在所述清潔工序中清潔后的所述檢查區(qū)域中的所述異物，

在所述第2檢查工序中，省略在所述第1檢查工序中未檢測到所述異物的區(qū)域的檢查，

在所述第1檢查工序以及所述第2檢查工序中，根據(jù)對所述物體投射的所述檢查光被所述異物散射后的散射光的光量，檢查有無所述異物。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第1檢查工序以及所述第2檢查工序中，一邊使所述載置臺以及所述投光部中的至少一方驅(qū)動，一邊進行所述異物檢查。

11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的異物檢查方法，其特征在于，

在所述第1檢查工序以及所述第2檢查工序中，使所述載置臺以及所述投光部中的至少一方驅(qū)動到檢查位置，在所述載置臺和所述投光部的相對速度為零的狀態(tài)下進行所述異物檢查。