[發明專利]一種清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝在審
| 申請號: | 202211257433.6 | 申請日: | 2022-10-14 |
| 公開(公告)號: | CN115548163A | 公開(公告)日: | 2022-12-30 |
| 發明(設計)人: | 陸銀川;穆亞琦 | 申請(專利權)人: | 常州阿普智能科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/673;B08B13/00 |
| 代理公司: | 蘇州曼博專利代理事務所(普通合伙) 32436 | 代理人: | 宋俊華 |
| 地址: | 213001 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 清洗 生產 石墨 反應 離子 刻蝕 工藝 | ||
1.一種清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,對內置有石墨舟的工藝腔體輸入工藝氣體,通過放電用射頻電源使工藝腔體內的工藝氣體形成等離子體,通過偏壓電源驅動等離子體轟擊石墨舟,實現清除石墨舟上沉積的薄膜。
2.根據權利要求1所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述工藝腔體中設有:用于放置石墨舟的絕緣板,以及位于絕緣板正上方的上電極板;
所述石墨舟放置在絕緣板上,以使得石墨舟與工藝腔體保持絕緣;且上電極板懸空于石墨舟正上方,上電極板通過射頻匹配器與射頻電源連接;
所述工藝氣體經供氣管路輸入工藝腔體;工藝腔體通過供氣管路與供氣系統連接,工藝氣體由供氣系統供應;供氣管路上還設有氣體流量控制器;
所述工藝腔體還配有真空抽氣系統、氮氣回填系統、壓力控制系統、中央控制系統和尾氣處理系統。
3.根據權利要求2所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述放電用射頻電源為13.56MHZ的射頻電源。
4.根據權利要求2所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述上電極板還包括:插入石墨舟的石墨舟片間隙中的延伸部;且石墨舟與上電極板及其延伸部都保持絕緣。
5.根據權利要求2所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述偏壓電源直接作用在石墨舟電極孔上。
6.根據權利要求5所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述直接作用在石墨舟電極孔上的偏壓電源,為直流偏壓電源。
7.根據權利要求2所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述工藝腔體中還設有:位于上電極板正下方的下電極板;
所述石墨舟位于下電極板正上方,且石墨舟與下電極板保持絕緣;下電極板與偏壓電源連接;且與下電極板連接的偏壓電源,為偏壓用射頻電源。
8.根據權利要求7所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述偏壓用射頻電源為13.56MHZ的射頻電源。
9.根據權利要求2至8中任一項所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,包括如下具體步驟:
1)通過自動化設備將石墨舟送入工藝腔體內,然后封閉工藝腔體,此時工藝腔體內部為常溫常壓;
2)然后通過真空抽氣系統對工藝腔體抽真空,直至真空壓力到達預定壓力,并保持一定時間;若壓力能保持住,則判斷工藝腔體無漏點,并進行后續步驟;若壓力不能保持住,則判斷工藝腔體需要檢漏,不進行后續步驟;
3)然后啟動供氣系統向工藝腔體供應工藝氣體,并啟動壓力控制系統,使工藝腔體內壓力保持在穩定的工藝壓力,且開啟放電用射頻電源和偏壓電源,產生輝光,根據石墨舟上要刻蝕清除的薄膜厚度調整輝光時間,直至石墨舟表面的薄膜被清除;
4)然后關閉放電用射頻電源和偏壓電源,工藝腔體維持抽真空一定時間,然后向工藝腔體回填氮氣,直至工藝腔體恢復常壓狀態;然后通過自動化設備將石墨舟從工藝腔體中拖出;且從工藝腔體中抽出的尾氣送入尾氣處理系統進行處理。
10.根據權利要求9所述的清洗光伏生產用石墨舟的反應離子刻蝕工藝,其特征在于,所述工藝氣體采用含氟氣體或含氟氣體與氧氣的混合氣體;所述含氟氣體選自CF4、CHF3、SF6、NF3、C2F6中的一種或幾種。
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H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





