[發明專利]圓角矩形面形數據的處理方法在審
| 申請號: | 202211253092.5 | 申請日: | 2022-10-13 |
| 公開(公告)號: | CN115631255A | 公開(公告)日: | 2023-01-20 |
| 發明(設計)人: | 谷茜茜;李曉波;白曉泉;楊勛;姜禹希;班章 | 申請(專利權)人: | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號: | G06T11/20 | 分類號: | G06T11/20 |
| 代理公司: | 長春中科長光知識產權代理事務所(普通合伙) 22218 | 代理人: | 郭婷 |
| 地址: | 130033 吉林省長春*** | 國省代碼: | 吉林;22 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 矩形 形數 處理 方法 | ||
本發明涉及光學檢測領域,基于編程和矩陣布爾運算具體提供一種便于快速調整mask區域大小的圓角矩形面形數據的處理方法,具體步驟如下:S1、獲取原始數據的有效數據矩陣;S2、基于圓角矩形面形數據進行分區域mask矩陣建模;S3、進行各矩陣間的布爾運算;S4、將有效數據矩陣與總mask矩陣取交集,獲得mask建模后的圓角矩形面形數據?,F有技術中手繪的mask區域存在不確定性高、誤差大以及多次繪制時的一致性低等缺點,而本發明是基于編程和矩陣布爾運算提出的,便于快速調整mask區域大小,并且避免了手動繪制mask區域的誤差,提高了繪制精度和多次繪制時的一致性。
技術領域
本發明涉及光學檢測領域,具體提供一種便于快速調整mask區域大小的圓角矩形面形數據的處理方法。
背景技術
現有技術中,對于高精密光學面形檢測通常使用干涉測量的方法,為保證面形數據加載到光學系統中的準確性,需要對原始的面形數據進行mask,去除周圍衍射。測量過程的大部分工作鏡為圓形口徑,并且圓形口徑的工作鏡在對數據進行mask時直接畫圓,再將mask圓的半徑減小,再和原始面形數據取交集。
對于矩形口徑的工作鏡而言,出于安全考慮將矩形口徑的工作鏡的四個角一般加工成圓角,對面形數據進行mask不僅僅是畫矩形。例如用Metropro軟件中的“Mask Data”編輯器中的“curve”和“polygon”等進行masks處理時,需要手動繪制mask區域,但存在不確定性,誤差較大,多次繪制很難保證一致性且比較浪費時間。
發明內容
本發明為解決上述問題,基于編程和矩陣布爾運算提供了一種便于快速調整mask區域大小的圓角矩形面形數據的處理方法,規避了手動繪制mask區域的不確定性,且誤差較小。
本發明提供的圓角矩形面形數據的處理方法,包括以下步驟:
S1、獲取原始數據的有效數據矩陣;
S2、基于圓角矩形面形數據進行分區域mask矩陣建模;
對圓角矩形面形的4個圓角進行圓形mask矩陣建模;
對圓角矩形面形的橫向進行矩形mask矩陣建模;
對圓角矩形面形的縱向進行矩形mask矩陣建模;
S3、對4個圓形mask矩陣和2個矩形mask矩陣取并集,獲得總mask矩陣;
S4、將有效數據矩陣與總mask矩陣取交集,獲得mask建模后的圓角矩形面形數據。
優選的,圓形mask矩陣的半徑和圓心根據有效數據矩陣確定。
優選的,圓形mask矩陣和矩形mask矩陣規定區域內的數據賦值為1;圓形mask矩陣和矩形mask矩陣外的數據賦值為0。
優選的,圓形mask矩陣和矩形mask矩陣的大小與有效數據矩陣的大小相等。
優選的,S2在mask處理過程中,還包括依據有效數據矩陣設定待去掉的點數,即cut;圓形mask矩陣和矩形mask矩陣的大小可以根據cut調整,cut為整數,且大于或等于零小于未mask建模的圓角的對應圓的半徑。
優選的,總mask矩陣規定區域內的數據賦值為1;總mask矩陣規定區域外的數據賦值為0。
與現有技術相比,本發明能夠取得如下有益效果:
本發明基于編程和矩陣布爾運算可快速調整mask區域大小,同時避免了現有技術中手動繪制mask區域的不確定性,減小了mask區域的不確定誤差。
本發明代替了手動繪制mask區域,且劃定mask區域速度快、誤差小,可避免每次調整mask區域都需要重新手繪的不便。
附圖說明
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