[發(fā)明專利]彩色液晶顯示器及顯示器背光在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211246948.6 | 申請日: | 2018-04-19 |
| 公開(公告)號: | CN115629497A | 公開(公告)日: | 2023-01-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李依群;袁湘龍 | 申請(專利權(quán))人: | 英特曼帝克司公司 |
| 主分類號: | G02F1/13357 | 分類號: | G02F1/13357 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 王允方 |
| 地址: | 美國加利*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 彩色 液晶顯示器 顯示器 背光 | ||
1.一種顯示器背光,其包括:
激發(fā)源,用于產(chǎn)生具有445nm到465nm的波長范圍內(nèi)的峰值發(fā)射波長的藍色激發(fā)光;以及
波長轉(zhuǎn)換組件,其包括由以下層組成的膜:
光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層;以及
光漫射層;
其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層包括:具有530nm到545nm的波長范圍內(nèi)的峰值發(fā)射且具有50nm或更小的半峰全寬強度的窄帶發(fā)綠光的磷光體材料的粒子和具有600nm到650nm的波長范圍內(nèi)的峰值發(fā)射的發(fā)紅光的磷光體材料的粒子;及
其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層直接沉積在所述光漫射層上;或
其中光漫射層直接沉積在所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層和所述光漫射層被制造為單獨膜且所述單獨膜施加于彼此。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層包括光散射材料的粒子,其選自由以下各者組成的群組:氧化鋅(ZnO)、二氧化硅(SiO2)、二氧化鈦(TiO2)、氧化鎂(MgO)、硫酸鋇(BaSO4)、氧化鋁(Al2O3),及其組合。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的背光,其中所述光散射材料粒子具有200nm或更小的平均直徑或具有100nm至150nm的平均直徑。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其中所述窄帶發(fā)綠光的磷光體材料的所述粒子包括SrGa2S4:Eu或β-SiAlON。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層經(jīng)安置成相鄰于增亮膜。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層與所述增亮膜直接接觸。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其進一步包括光導(dǎo),其中所述激發(fā)源經(jīng)配置以將激發(fā)光耦合到所述光導(dǎo)的至少一個邊緣中,且其中所述波長轉(zhuǎn)換組件經(jīng)安置成相鄰于所述光導(dǎo)的面。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的背光,其進一步包括增亮膜,其中所述波長轉(zhuǎn)換組件經(jīng)安置于所述光導(dǎo)的所述面與所述增亮膜之間。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的背光,進一步包括光反射表面,其中所述波長轉(zhuǎn)換組件經(jīng)安置于所述光反射表面與所述光導(dǎo)的所述面之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層或所述光漫射層與所述光導(dǎo)的所述面直接接觸。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的背光,其中所述光致發(fā)光波長轉(zhuǎn)換層或所述光漫射層與所述光反射表面直接接觸。
13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的背光,其中所述窄帶發(fā)綠光的磷光體材料的所述粒子和所述發(fā)紅光的磷光體材料的所述粒子作為混合物并入透光粘合劑中,且使用網(wǎng)版印刷或狹縫擠壓式涂覆來將所述混合物作為均勻?qū)映练e于透光襯底上。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的背光,其中所述發(fā)紅光的磷光體材料的所述粒子包括以下各者中的至少一者:K2SiF6:Mn4+、K2TiF6:Mn4+和MSe1-xSx,其中M=鎂(Mg)、鈣(Ca)、鍶(Sr)和/或鋇(Ba)。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





