[發(fā)明專利]一種清洗藥液配置系統(tǒng)及監(jiān)控方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211246172.8 | 申請(qǐng)日: | 2022-10-12 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN115463594A | 公開(kāi)(公告)日: | 2022-12-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 袁祥龍;劉園;吳雪強(qiáng);武衛(wèi);劉建偉;祝斌;劉姣龍;裴坤羽;孫晨光;王彥君;張宏杰;由佰玲;常雪巖;楊春雪;謝艷;劉秒;呂瑩;徐榮清 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 天津中環(huán)領(lǐng)先材料技術(shù)有限公司;中環(huán)領(lǐng)先半導(dǎo)體材料有限公司 |
| 主分類號(hào): | B01F33/80 | 分類號(hào): | B01F33/80;B01F35/21;B01F35/221;B01F35/71;B01F35/80;H01L21/67 |
| 代理公司: | 天津諾德知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 12213 | 代理人: | 欒志超 |
| 地址: | 300384 天津市濱海*** | 國(guó)省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 清洗 藥液 配置 系統(tǒng) 監(jiān)控 方法 | ||
本發(fā)明提供一種清洗藥液配置系統(tǒng),包括:原液部:其設(shè)有原液槽;配液部:其設(shè)有配液槽;清洗部,其配置有清洗槽;每個(gè)所述原液槽至少與一個(gè)所述配液槽連通;其中一個(gè)所述原液槽,與所有所述配液槽連通,且至少與其中一個(gè)所述清洗槽連通;每個(gè)所述清洗槽至少與一個(gè)所述配液槽連通。本發(fā)明一種清洗藥液配置系統(tǒng),可自動(dòng)對(duì)多組藥液進(jìn)行配置,且可保證所有藥液常用常新,尤其是適用于持續(xù)性的硅片清洗所用的藥液,并可對(duì)每個(gè)槽內(nèi)的藥液進(jìn)行監(jiān)控,做到現(xiàn)用現(xiàn)配、先配先用,不僅可自動(dòng)補(bǔ)液而且還可保證藥液的鮮活性,提高硅片清洗效果。本發(fā)明還提出一種采用該配置系統(tǒng)的監(jiān)控方法。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于硅片清洗用藥液的配置技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種清洗藥液配置系統(tǒng)及監(jiān)控方法。
背景技術(shù)
現(xiàn)有硅片所用的藥液都是半自動(dòng)化配置,先人工將原液的劑量統(tǒng)計(jì)好,再人工將其混合,再將混合后的藥液放到中轉(zhuǎn)槽中晃動(dòng)混合,再?gòu)闹修D(zhuǎn)槽中向清洗機(jī)中輸送。當(dāng)中轉(zhuǎn)槽中出現(xiàn)報(bào)警時(shí),再人工將混合后的藥液倒入中轉(zhuǎn)槽中進(jìn)行補(bǔ)液。這種方式不僅配置比例無(wú)法把控,而且有些藥液對(duì)身體有傷害,也容易污染環(huán)境。同時(shí),中轉(zhuǎn)槽采用晃動(dòng)的方法進(jìn)行混合,容易使藥液飛濺出來(lái),也不易監(jiān)控中轉(zhuǎn)槽中的液面位置高度,給藥液監(jiān)控帶來(lái)極大麻煩。人工監(jiān)控補(bǔ)液更無(wú)法保證藥液使用持續(xù)性和穩(wěn)定性,由于人員需要提前將藥液配置好,也無(wú)法保證藥液混合的實(shí)效性,會(huì)導(dǎo)致藥液中的濃度被稀釋,其清洗效果就會(huì)減弱,從而會(huì)導(dǎo)致批量硅片表面清洗不合格。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供一種清洗藥液配置系統(tǒng)及監(jiān)控方法,尤其是適用于大尺寸硅片的逐片清洗,解決了現(xiàn)有藥液配制中無(wú)法自動(dòng)補(bǔ)液的技術(shù)問(wèn)題。
為解決上述技術(shù)問(wèn)題,本發(fā)明采用的技術(shù)方案是:
一種清洗藥液配置系統(tǒng),包括:
原液部:其設(shè)有原液槽;
配液部:其設(shè)有配液槽;
清洗部,其配置有清洗槽;
每個(gè)所述原液槽至少與一個(gè)所述配液槽連通;
其中一個(gè)所述原液槽,與所有所述配液槽連通,且至少與其中一個(gè)所述清洗槽連通;
每個(gè)所述清洗槽至少與一個(gè)所述配液槽連通。
進(jìn)一步的,每個(gè)所述配液槽中設(shè)有用于監(jiān)控液位高度的測(cè)位儀及用于監(jiān)控溫度的測(cè)溫儀。
進(jìn)一步的,每個(gè)所述配液槽至少設(shè)有兩個(gè)輸出管,其中一個(gè)所述輸出管的藥液流至所述清洗槽中,另一個(gè)所述輸出管的藥液回流至其所在的所述配液槽中。
進(jìn)一步的,與所述清洗槽連通的所述輸出管上還設(shè)有供給泵;所有所述原液槽的輸出管以及所有所述配液槽的輸出管上均設(shè)有單向控制閥。
進(jìn)一步的,還包括回收部,其設(shè)有回收槽,每個(gè)所述配液槽與其中一個(gè)所述回收槽連通。
進(jìn)一步的,還設(shè)有處理部,其設(shè)有處理池,所有所述清洗槽與所述處理池連通;
所有所述回收槽的輸出管,與所述處理池連通或者與其相對(duì)應(yīng)的所述配液槽連通。
進(jìn)一步的,還包括監(jiān)控部,其設(shè)有控制器,所述控制器分別與所述原液部、所述配液部、所述清洗部、所述回收部、以及所述處理部電連接。
一種清洗藥液配置監(jiān)控方法,用于監(jiān)控如上任一項(xiàng)所述的配置系統(tǒng),步驟包括:
獲取所述配液槽中液位的位置;
判斷所述配液槽中液位的位置是否在標(biāo)準(zhǔn)范圍之內(nèi);
若是,繼續(xù)向所述清洗槽中輸出配置好的藥液;
若不是,向所述配液槽中補(bǔ)充藥液或排出多余的藥液;
在整個(gè)清洗過(guò)程中,所述配液槽中的其中一個(gè)輸出管自循環(huán)流通。
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