[發(fā)明專利]半導(dǎo)體器件的蜂窩布局在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211220523.8 | 申請日: | 2015-06-24 |
| 公開(公告)號: | CN115663014A | 公開(公告)日: | 2023-01-31 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | A.V.博羅特尼科夫;P.A.羅西 | 申請(專利權(quán))人: | 通用電氣公司 |
| 主分類號: | H01L29/06 | 分類號: | H01L29/06 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 付曼;陳嵐 |
| 地址: | 美國*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體器件 蜂窩 布局 | ||
1.一種系統(tǒng),包括:
半導(dǎo)體器件單元,設(shè)置在碳化硅(SiC)半導(dǎo)體層的表面,其中所述半導(dǎo)體器件單元包括:
漂移區(qū),具有第一導(dǎo)電類型;
阱區(qū),具有第二導(dǎo)電類型,設(shè)置成與所述漂移區(qū)相鄰;
源區(qū),具有所述第一導(dǎo)電類型,設(shè)置成與所述阱區(qū)相鄰;
溝道區(qū),具有所述第二導(dǎo)電類型,設(shè)置成包圍所述源區(qū)并且接近所述表面;以及
體接觸件區(qū),具有所述第二導(dǎo)電類型,設(shè)置在所述阱區(qū)的一部分之上,其中所述體接觸件區(qū)沒有在所述半導(dǎo)體器件單元中居中;以及
分段源和體接觸件(SSBC),設(shè)置在所述表面的一部分之上,其中所述SSBC包括:
體接觸件部分,設(shè)置在所述體接觸件區(qū)之上;以及
源接觸件部分,設(shè)置成與所述體接觸件區(qū)相鄰并且在所述源區(qū)的一部分之上,其中所述源接觸件部分沿所述SSBC的所述體接觸件部分的僅一側(cè)或僅兩側(cè)設(shè)置。
2.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述SSBC具有少于與所述表面垂直的對稱的兩個不同鏡平面。
3.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述源接觸件部分的第一節(jié)段和第二節(jié)段設(shè)置在所述體接觸件部分的相對側(cè)上。
4.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述SSBC的所述體接觸件部分的至少一側(cè)設(shè)置成接近沒有設(shè)置在所述SSBC之下的所述源區(qū)的一部分。
5.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述體接觸件區(qū)基本上是菱形形狀。
6.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述體接觸件區(qū)基本上是方形形狀。
7.如權(quán)利要求1所述的系統(tǒng),其中,所述半導(dǎo)體器件單元包括場晶體管、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)、絕緣基MOS控制晶閘管(IBMCT)、結(jié)型場效應(yīng)晶體管(JFET)或者金屬半導(dǎo)體場效應(yīng)晶體管(MESFET)。
8.一種系統(tǒng),包括:
蜂窩半導(dǎo)體器件布局,包括設(shè)置在碳化硅(SiC)半導(dǎo)體層的表面的多個半導(dǎo)體器件單元,其中所述多個蜂窩半導(dǎo)體器件單元各包括:
漂移區(qū),具有第一導(dǎo)電類型;
阱區(qū),具有第二導(dǎo)電類型,設(shè)置成與所述漂移區(qū)相鄰,其中所述阱區(qū)包括設(shè)置成接近所述表面的體接觸件區(qū);
源區(qū),具有所述第一導(dǎo)電類型,設(shè)置成與所述阱區(qū)相鄰,其中所述源區(qū)包括設(shè)置成接近所述表面并且接近所述體接觸件區(qū)的源接觸件區(qū);
溝道區(qū),具有所述第二導(dǎo)電類型,設(shè)置成包圍所述源區(qū)并且接近所述表面;以及
不對稱分段源和體接觸件(SSBC),設(shè)置在所述表面的一部分之上,其中所述不對稱SSBC包括:
體接觸件部分,設(shè)置在所述半導(dǎo)體器件單元的所述體接觸件區(qū)之上;以及
源接觸件部分,設(shè)置成與所述體接觸件部分相鄰并且在所述半導(dǎo)體器件單元的所述源接觸件區(qū)之上,其中所述不對稱SSBC的所述源接觸件部分沿所述不對稱SSBC的所述體接觸件部分的僅一側(cè)或僅兩側(cè)設(shè)置。
9.如權(quán)利要求8所述的系統(tǒng),其中,所述蜂窩半導(dǎo)體器件布局配置成使得(2Lch-to-ohm+Wohm)大于(2Lch+WJFET)或者使得(2Lch+2Lch-to-ohm+Wohm)大于WJFET或者使得(2Lch-to-ohm+Wohm)大于(2Lch+WJFET)并且(2Lch+2Lch-to-ohm+Wohm)大于WJFET,其中Lch是溝道長度,Lch-to-ohm是歐姆區(qū)的長度,Wohm是所述歐姆區(qū)的寬度,以及WJFET是所述多個蜂窩半導(dǎo)體器件單元的JFET區(qū)的寬度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于通用電氣公司,未經(jīng)通用電氣公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202211220523.8/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導(dǎo)體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導(dǎo)體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導(dǎo)體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導(dǎo)體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進(jìn)行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





