[發(fā)明專利]基于白光顯微干涉的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置及方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211210646.3 | 申請(qǐng)日: | 2022-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115598147A | 公開(公告)日: | 2023-01-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 郭仁慧;劉楊;宗毅;薛亮;蔣金威;錢宇;李建欣;陳磊 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 南京理工大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/952 | 分類號(hào): | G01N21/952;G01N21/954;G01N21/01 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 朱沉雁 |
| 地址: | 210094 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 基于 白光 顯微 干涉 內(nèi)外 表面 缺陷 檢測(cè) 裝置 方法 | ||
1.一種基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:包括白光光源(1)、第一準(zhǔn)直透鏡(2)、光闌(3)、第二準(zhǔn)直透鏡(4)、第一偏振片(5)、光程匹配模塊和顯微干涉模塊,光程匹配模塊包括第一偏振分光棱鏡(6)、第一1/4波片(7)、第一平面反射鏡(8)、三維微位移平臺(tái)(9)、第二1/4波片(10)、第二平面反射鏡(11)、PZT移相器(12),顯微干涉模塊包括第二偏振分光棱鏡(13)、第三1/4波片(14)、第一顯微物鏡(15)、第四1/4波片(17)、第二顯微物鏡(18)、球面反射鏡(19)、第二偏振片(20)、管鏡(21)、CMOS相機(jī)(22);
白光光源(1)發(fā)出的光經(jīng)第一準(zhǔn)直物鏡(2)匯聚至光闌(3)中心,后經(jīng)第二準(zhǔn)直物鏡(4)變?yōu)槠叫泄猓ㄟ^第一偏振片(5)變?yōu)榫€偏振光進(jìn)入光程匹配模塊,線偏振光以與第一偏振分光棱鏡(6)的分光面呈45°角入射至第一偏振分光棱鏡(6),在其分光面分成偏振方向相互垂直的P光與S光,其中透射P光作為測(cè)試光通過第一1/4波片(10)變?yōu)閳A偏振光入射至第一平面反射鏡(11),經(jīng)第一平面反射鏡(11)反射的光再次通過第一1/4波片(10)變?yōu)榫€偏振S光后經(jīng)第一偏振分光棱鏡(6)反射后進(jìn)入顯微干涉模塊;第一偏振分光棱鏡(6)反射的S光作為參考光通過第二1/4波片(7)變?yōu)閳A偏振光入射至第二平面反射鏡(8),經(jīng)第二平面反射鏡(8)反射的光再次通過第二1/4波片(7)變?yōu)榫€偏振P光后經(jīng)第一偏振分光棱鏡(6)透射后進(jìn)入顯微干涉模塊;
偏振方向相互正交的線偏振P光與線偏振S光入射至第二偏振分光棱鏡(13),且與第二偏振分光棱鏡(13)的分光面呈45°角入射,線偏振P光作為測(cè)試光,線偏振S光作為參考光,線偏振P光經(jīng)第二偏振分光棱鏡(13)透射后通過第四1/4波片(17)變?yōu)閳A偏振光,然后經(jīng)過第二顯微物鏡(18)到達(dá)球面反射鏡(19)表面,經(jīng)球面反射鏡(19)反射后再經(jīng)過第二顯微物鏡(18)、第四1/4波片(17)變?yōu)榈诙€偏振S光入射至第二偏振分光棱鏡(13),經(jīng)第二分光棱鏡(13)的分光面反射后依次經(jīng)過第二偏振片(20)、管鏡(21)到達(dá)CMOS相機(jī)(22)的靶面;線偏振S光經(jīng)第二偏振分光棱鏡(13)反射后通過第三1/4波片(14)變?yōu)閳A偏振光,然后經(jīng)過第一顯微物鏡(15)到達(dá)中空的被測(cè)微球)表面,經(jīng)被測(cè)微球)反射后再經(jīng)過第一顯微物鏡(15)、第三1/4波片(14)變?yōu)榈诙€偏振P入射至第二偏振分光棱鏡(13),經(jīng)第二分光棱鏡(13)的分光面透射后依次經(jīng)過第二偏振片(20)、管鏡(21)到達(dá)CMOS相機(jī)(22)的靶面,并與第二線偏振S光發(fā)生干涉。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:通過三維微位移平臺(tái)(9)的調(diào)整實(shí)現(xiàn)參考臂與測(cè)試臂中被測(cè)微球)的內(nèi)、外表面以及不同直徑微球的光程匹配。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第一1/4波片(7)、第二1/4波片(10)、第三1/4波片(14)、第四1/4波片(17)的快軸分別與水平方向呈45°夾角,使得通過其兩次的線偏振光出射為偏振方向改變90°的線偏振光。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:通過調(diào)整CMOS相機(jī)(22)的軸向位置,實(shí)現(xiàn)在其靶面分別對(duì)不同直徑微球的內(nèi)外表面成像。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述第一偏振分光棱鏡(6)的分光面與第二偏振分光棱鏡(13)的分光面呈90°夾角。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于白光顯微干涉技術(shù)的微球內(nèi)外表面缺陷檢測(cè)裝置,其特征在于:所述球面反射鏡(19)為標(biāo)準(zhǔn)球面反射鏡,用以實(shí)現(xiàn)微球的大視場(chǎng)測(cè)量,當(dāng)被測(cè)微球)直徑變化時(shí),球面反射鏡(19)無需更換。
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G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





