[發(fā)明專利]加熱裝置和制造加熱裝置的方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211205545.7 | 申請(qǐng)日: | 2022-09-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN115942521A | 公開(公告)日: | 2023-04-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | M·曼德爾;M·塔弗納;V·布洛克;M·施米德;H·科布里奇;R·穆爾尼克爾;A·蘇斯;S·埃格爾 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | E.G.O.電氣設(shè)備制造股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H05B3/06 | 分類號(hào): | H05B3/06;H05B3/16;H05B3/40;H05B3/46 |
| 代理公司: | 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 萬宇;吳強(qiáng) |
| 地址: | 德國(guó)奧*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 加熱 裝置 制造 方法 | ||
1.一種加熱裝置,包括:
-?管狀載體,其具有外側(cè)和內(nèi)側(cè),
-?絕緣層,其在所述載體的外側(cè)上,
-?所述絕緣層上的加熱導(dǎo)體、導(dǎo)體軌道和接觸區(qū),
-?連接裝置,其用于所述加熱裝置的電連接,
所述連接裝置具有多個(gè)金屬接觸腳,
所述連接裝置以所述接觸腳布置或附接在所述接觸區(qū)處并且電連接到其上,
其中,在所述連接裝置和所述載體的外側(cè)之間提供附加的電絕緣體。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其中,所述附加的電絕緣體與所述載體牢固地連接或牢固地布置在所述載體上。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的加熱裝置,其中,所述載體具有沿其縱向方向并橫向于所述載體的圓周方向延伸的焊縫或連接縫,其中所述連接裝置布置在所述焊縫上方并距其以一定距離橫跨所述焊縫。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置,其中,所述連接裝置布置在所述焊縫的上方,并距其以0.3mm至5mm的距離橫跨所述焊縫。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的加熱裝置,其中,加熱導(dǎo)體、導(dǎo)體軌道和接觸區(qū)專門地布置在所述焊縫或連接縫旁邊而不覆蓋所述焊縫或連接縫。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的加熱裝置,其中,所述加熱導(dǎo)體、所述導(dǎo)體軌道和所述接觸區(qū)距其以至少1mm的距離專門地布置在所述焊縫或連接縫旁邊。
7.根據(jù)權(quán)利要求2所述的加熱裝置,其中,所述附加的電絕緣體是所述絕緣層的區(qū)域,其中所述電絕緣層包括在所述載體的外側(cè)上的多個(gè)單獨(dú)絕緣層,其中至少一個(gè)單獨(dú)絕緣層設(shè)置為直接在所述載體的外側(cè)和所述連接裝置之間的附加的電絕緣體,其中直接在所述載體的外側(cè)和所述連接裝置之間設(shè)置有少于相互疊加提供的單獨(dú)絕緣層的總數(shù)的至少一個(gè)單獨(dú)絕緣層。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置,其中,在所述載體的外側(cè)與所述連接裝置之間直接設(shè)置有少于單獨(dú)絕緣層的總數(shù)的剛好一個(gè)單獨(dú)絕緣層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的加熱裝置,其中,所述單獨(dú)絕緣層在所述載體的圓周方向上并非一直封閉,且在沿所述圓周方向定向的其端部處或在它們之間彼此相距一定距離。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的加熱裝置,其中,所述單獨(dú)絕緣層的端部處彼此的距離在1mm至30mm之間。
11.根據(jù)權(quán)利要求9所述的加熱裝置,其中,在兩個(gè)單獨(dú)絕緣層直接相互疊加放置的情況下,沿相同圓周方向定向的其端部以偏移的方式重疊或偏移布置,使得單獨(dú)絕緣層的兩個(gè)端部之間的距離與另一絕緣層的兩個(gè)端部之間的距離不重疊,其中,在所述載體的外側(cè)上沿圓周方向各處設(shè)置有至少一個(gè)單個(gè)絕緣層。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的加熱裝置,其中,三個(gè)單獨(dú)絕緣層直接相互疊置提供,其中最下面的單獨(dú)絕緣層的兩個(gè)端部位于最上面的單獨(dú)絕緣層的兩個(gè)端部下方或兩個(gè)端部相互重疊,并且兩個(gè)端部之間的相應(yīng)距離也在每種情況下重疊,其中中間居中單獨(dú)絕緣層的兩個(gè)端部和這兩個(gè)端部之間的距離由最下面的單獨(dú)絕緣層的連續(xù)區(qū)域和最上面的單獨(dú)絕緣層的連續(xù)區(qū)域覆蓋。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的加熱裝置,其中,所述載體的外側(cè)全部由一層、兩層或三層單獨(dú)絕緣層覆蓋。
14.根據(jù)權(quán)利要求9所述的加熱裝置,其中,所述載體具有沿其縱向方向并橫向于所述載體的圓周方向延伸的焊縫或連接縫,其中所述連接裝置布置在所述焊縫上方并距其以一定距離橫跨所述焊縫并且其中至少一個(gè)單獨(dú)絕緣層在所述焊縫上方延伸。
15.根據(jù)權(quán)利要求14所述的加熱裝置,其中,少于在所述載體的外側(cè)和加熱導(dǎo)體之間的一個(gè)單獨(dú)絕緣層在所述焊縫上方延伸。
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