[發明專利]供料裝置及制造設備

在審

• 申請號: 202211204025.4
• 申請日: 2022-09-29
• 公開（公告）號: CN115520628A
• 公開（公告）日: 2022-12-27
• 發明（設計）人: 董萌;陳旭;許德;張樂怡;胡永嵐
• 申請（專利權）人: 固安翌光科技有限公司
• 主分類號: B65G47/82
• 分類號: B65G47/82;B65G47/74;B65G47/248
• 代理公司: 河北國維致遠知識產權代理有限公司 13137
• 代理人: 王詩琪

1.一種供料裝置，其特征在于，包括：

基板和間隔疊設于所述基板上方的加料盤，所述加料盤以豎向軸線為軸心與所述基板轉動配合，所述加料盤上開設有多個繞所述豎向軸線分布的加料孔，所述基板上設有與其中一個或多個所述加料孔對應的下料孔；

定義所述加料孔中推動顆粒物移動的一側壁為作用平面，定義以所述豎向軸線上的點為圓心的圓弧線為參考弧線，定義所述參考弧線與所述作用平面的交點為作用點，所述作用平面相對于所述作用點的法平面傾斜設置。

2.如權利要求1所述的供料裝置，其特征在于，所述作用平面垂直于所述基板的板面。

3.如權利要求2所述的供料裝置，其特征在于，定義所述加料盤的旋向為正旋向，與所述正旋向相反的旋向為反旋向；

在遠離所述豎向軸線的方向上，所述作用平面沿所述反旋向傾斜。

4.如權利要求2所述的供料裝置，其特征在于，定義所述加料盤的旋向為正旋向；

在遠離所述豎向軸線的方向上，所述作用平面沿所述正旋向傾斜。

5.如權利要求1-4中任意一項所述的供料裝置，其特征在于，所述作用平面相對于所述基板的板面傾斜設置。

6.如權利要求5所述的供料裝置，其特征在于，所述作用平面的上側向與所述加料盤旋向相反的方向傾斜。

7.如權利要求1所述的供料裝置，其特征在于，所述加料盤的下表面形成有凹槽，所述凹槽與所述加料孔錯位分布。

8.如權利要求7所述的供料裝置，其特征在于，所述凹槽為環繞所述豎向軸線設置的環形槽。

9.如權利要求7所述的供料裝置，其特征在于，所述凹槽的水平截面面積從上到下逐漸增大。

10.一種制造設備，其特征在于，包括如權利要求1-9中任意一項所述的供料裝置。