[發明專利]流量測量裝置

在審

• 申請號: 202211182751.0
• 申請日: 2022-09-27
• 公開（公告）號: CN115900860A
• 公開（公告）日: 2023-04-04
• 發明（設計）人: 長谷部亙;鈴木圭;松永晉輔
• 申請（專利權）人: 阿自倍爾株式會社
• 主分類號: G01F1/76
• 分類號: G01F1/76;G01F15/00;G01F15/06;G05D7/06
• 代理公司: 上海華誠知識產權代理有限公司 31300
• 代理人: 肖華

本發明的流量測量裝置具備：顯示部(11)、操作部(12)、實現作為質量流量控制器的基本功能的基本功能部(13)、在顯示部(11)上顯示與來自操作者的方向的指令對應的朝向的畫面的顯示控制部(16)、根據顯示部(11)的顯示的上下方向來設定操作部(12)的功能分配的上下方向的分配方向設定部(17)、對指定顯示部(11)的顯示的方向或操作部(12)的功能分配的方向的指令進行獲取的方向指令獲取部(18)。

技術領域

本發明涉及流量傳感器或質量流量控制器等具有流量測量功能的裝置。

背景技術

在半導體制造裝置中，為了將材料氣體等以一定流量導入真空室內，而采用流量傳感器或質量流量控制器等流量測量裝置或流量控制裝置(參照專利文獻1)。圖8是表示質量流量控制器10的構成的剖面圖。

在圖8中，1是主體模塊，2是傳感器封裝，3是傳感器封裝2的頭部，4是流量測量部(流量傳感器)，5是閥，6是在主體模塊1的內部形成的流路，7是流路6的入口側的開口，8是流路6的出口側的開口。

流體從開口7流入流路6，通過閥5并從開口8排出。此時，流量測量部4測量流體的流量。流量測量部4搭載在傳感器封裝2的頭部3上，以暴露在測量對象的流體中的方式安裝在主體模塊1上。質量流量控制器10的未圖示的控制裝置對由流量測量部4得到的流量測量值和流量設定值進行比較，根據該比較結果向閥5輸出驅動電流。因此，通過驅動閥5，流體的流速被控制為與流量設定值一致。

圖9是表示在半導體制造裝置中使用的真空裝置(例如等離子體蝕刻裝置)的構成的剖面圖。這樣的真空裝置例如在專利文獻2、專利文獻3、專利文獻4中公開。在圖9中，100是真空室，101是設置在真空室100的底部的排氣管，102是作為上部電極發揮功能的噴頭，103是作為下部電極發揮功能的載置臺，104是與噴頭102的氣體導入口連接的氣體供給管，105是設置在真空室100內的壓力傳感器，106是高頻電源。在氣體供給管104上設有在圖8中說明的質量流量控制器10。

在圖9的真空裝置的例子中，從排氣管101排出真空室100的內部氣氛，抽真空至規定的真空度，通過氣體供給管104將處理氣體導入噴頭102。處理氣體通過設置在噴頭102上的多個噴出孔(未圖示)均勻地噴出到載置在載置臺103上的晶片107上，將真空室100內的壓力維持在規定的值。在該狀態下，從高頻電源106向載置臺103施加高頻電力。由此，在作為下部電極的載置臺103和作為上部電極的噴頭102之間產生高頻電場，處理氣體離解而等離子體化。通過該等離子體對晶片107實施蝕刻處理。

另一方面，在半導體制造裝置以外的工業爐等中也要求高精度的流量控制的情況下，利用流量傳感器或質量流量控制器。在這些利用領域中，在不利用通信功能的情況下，有時操作者經由流量傳感器或質量流量控制器所具備的HMI(Human?Machine?Interface)進行流量的確認等作業。在這種情況下，由于需要在設置于工業爐后實施最終決定顯示部的顯示內容的操作等，因此需要具有操作性優異的HMI的流量傳感器或質量流量控制器。

圖10表示具有顯示部11和操作部12的多功能類型的質量流量控制器的外觀圖。如上所述，5是閥，7是流路的入口側的開口，8是流路的出口側的開口。

近年來的流量傳感器或質量流量控制器是除了具有測量功能和控制功能之外還具有警報功能等的多功能設備，例如是在設置于工業爐后需要進行顯示內容等的操作的設備。另一方面，流量傳感器或質量流量控制器是直接設置在作為流量測量控制對象的流體(氣體或液體)流過的配管上的設備。因此，流量傳感器或質量流量控制器雖然需要操作，但并不一定優先設置操作的便利性。即，也會發生操作的便利性受損的狀況，因此要求改善。

現有技術文獻

專利文獻

[專利文獻1]日本特開2008-039588號公報。

[專利文獻2]日本特開平11-233507號公報。

[專利文獻3]日本特開2014-207353號公報。