[發(fā)明專利]處理液供給裝置和處理液供給方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202211181509.1
• 申請日: 2022-09-27
• 公開（公告）號: CN115945313A
• 公開（公告）日: 2023-04-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 緒方誠;橋本克也;三坂晉一朗;今村真人;田尻卓也
• 申請（專利權(quán)）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: B05B12/08
• 分類號: B05B12/08;B05B15/40;H01L21/027;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳;劉芃茜

本發(fā)明提供處理液供給裝置和處理液供給方法，抑制對向基片釋放處理液的釋放部供給的處理液的消耗量，并且提高該處理液的清潔度。處理液供給裝置包括：與釋放部連接的供給管路；供給管路中的向釋放部壓送處理液的第一泵，其同時進行處理液的吸入和送出；供給管路中的第一泵上游側(cè)的第一開閉閥；供給管路中的過濾器；供給管路中的第一泵下游側(cè)的第二開閉閥；返回管路，其一端從供給管路中的第一泵及過濾器與第二開閉閥之間分支，另一端連接于供給管路中的第一開閉閥的下游側(cè)且第一泵和過濾器的上游側(cè)；返回管路中的向返回管路的一端壓送處理液的第二泵；返回管路中的一端與第二泵之間的第三開閉閥；和返回管路中的另一端與第二泵之間的第四開閉閥。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及處理液供給裝置和處理液供給方法。

背景技術(shù)

在專利文獻1中公開了一種抗蝕劑液供給裝置，其包括：貯存抗蝕劑液的處理液容器；向晶片釋放抗蝕劑液的噴嘴；和抗蝕劑液供給管路，其由將處理液容器與噴嘴連接的配管構(gòu)成。在抗蝕劑液供給管路，從上游側(cè)起依次設(shè)置有暫時貯存來自處理液容器的抗蝕劑液的緩沖罐、用于對抗蝕劑液進行過濾而除去異物的過濾器、泵、流量調(diào)節(jié)部、操作閥和回吸閥。抗蝕劑液的釋放是這樣的進行的：通過打開氣動閥并且使泵工作，從處理液容器輸送來的緩沖罐內(nèi)的抗蝕劑液通過抗蝕劑液供給管路移動到下游側(cè)。因此，例如以由流量調(diào)節(jié)部設(shè)定的流量從噴嘴釋放抗蝕劑液。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2016-139665號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明要解決的技術(shù)問題

本發(fā)明所涉及的技術(shù)能夠抑制對向基片釋放處理液的釋放部供給的處理液的消耗量，并且提高該處理液的清潔度。

用于解決技術(shù)問題的技術(shù)方案

本發(fā)明的一個方式是對向基片釋放處理液的釋放部供給上述處理液的處理液供給裝置，其包括：與上述釋放部連接的供給管路；第一泵，其插設(shè)于上述供給管路，能夠同時進行上述處理液的吸入和送出，向上述釋放部壓送上述處理液；第一開閉閥，其插設(shè)于上述供給管路中的上述第一泵的上游側(cè)；過濾器，其插設(shè)于上述供給管路，對上述處理液進行過濾；第二開閉閥，其插設(shè)于上述供給管路中的上述第一泵的下游側(cè)；返回管路，其一端從上述供給管路中的上述第一泵及上述過濾器與上述第二開閉閥之間分支，另一端連接于上述供給管路中的上述第一開閉閥的下游側(cè)且上述第一泵和上述過濾器的上游側(cè)；第二泵，其插設(shè)于上述返回管路，能夠向上述返回管路的上述一端壓送上述處理液；第三開閉閥，其插設(shè)于上述返回管路中的上述一端與上述第二泵之間；和第四開閉閥，其插設(shè)于上述返回管路中的上述另一端與上述第二泵之間。

發(fā)明效果

依照本發(fā)明，能夠抑制對向基片釋放處理液的釋放部供給的處理液的消耗量，并且提高該處理液的清潔度。

附圖說明

圖1是表示本實施方式的處理液供給裝置的概略結(jié)構(gòu)的說明圖。

圖2是表示循環(huán)釋放工作時的處理液供給裝置的狀態(tài)的圖。

圖3是表示釋放工作時的處理液供給裝置的狀態(tài)的圖。

圖4是表示補充工作時的處理液供給裝置的狀態(tài)的圖。

附圖標記說明

1(1a～1d)??????????噴嘴

100????????????????處理液供給裝置

102????????????????第一泵

103????????????????過濾器

105????????????????第二泵