[發明專利]一種汞源爐及其補充汞液的方法有效
| 申請號: | 202211137323.6 | 申請日: | 2022-09-19 |
| 公開(公告)號: | CN115386960B | 公開(公告)日: | 2023-09-05 |
| 發明(設計)人: | 龔欣;陳峰武;魏唯;陳長平;肖慧;寧澍 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第四十八研究所 |
| 主分類號: | C30B29/48 | 分類號: | C30B29/48;C30B23/02 |
| 代理公司: | 湖南兆弘專利事務所(普通合伙) 43008 | 代理人: | 徐好 |
| 地址: | 410111 湖南*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 汞源爐 及其 補充 方法 | ||
1.一種汞源爐,其特征在于:包括位于真空腔室(5)外部的料罐(11)、閥控組件(2)、輸送管道(3)、以及位于真空腔室(5)內部的噴射管(4),所述料罐(11)、所述輸送管道(3)和所述噴射管(4)依次連通,所述料罐(11)上設有真空閥(13)、注液閥(14)和排液閥(15),所述閥控組件(2)設于所述輸送管道(3)上,閥控組件(2)包括并聯的截止閥(21)和計量閥(22),所述截止閥(21)的流導大于所述計量閥(22)的流導。
2.根據權利要求1所述的汞源爐,其特征在于:所述料罐(11)、所述閥控組件(2)、所述輸送管道(3)和所述噴射管(4)沿汞蒸氣輸送方向溫度逐漸升高。
3.根據權利要求2所述的汞源爐,其特征在于:所述料罐(11)的溫度為180℃至190℃,所述閥控組件(2)的溫度為190℃至200℃,所述輸送管道(3)的溫度為200℃至210℃,所述噴射管(4)的溫度為350℃至400℃。
4.根據權利要求3所述的汞源爐,其特征在于:所述料罐(11)配設有料罐加熱器(12),所述閥控組件(2)配設有閥門加熱器(23)或與所述料罐(11)共用加熱器,所述噴射管(4)配設有噴射管加熱器(42)。
5.根據權利要求1所述的汞源爐,其特征在于:所述料罐(11)上還設有液位傳感器。
6.根據權利要求1至5中任一項所述的汞源爐,其特征在于:所述截止閥(21)為全金屬角閥。
7.根據權利要求1至5中任一項所述的汞源爐,其特征在于:所述計量閥(22)為針閥。
8.根據權利要求1至5中任一項所述的汞源爐,其特征在于:所述輸送管道(3)靠近所述噴射管(4)的一端為波紋管,并配設有波紋管加熱套。
9.根據權利要求1至5中任一項所述的汞源爐,其特征在于:所述閥控組件(2)設于所述輸送管道(3)靠近所述料罐(11)的一端。
10.一種權利要求1至9中任一項所述的汞源爐補充汞液的方法,其特征在于:包括以下步驟:
S1、關閉所述截止閥(21)和所述計量閥(22),打開所述真空閥(13)外接氮氣管路進行充氣操作;
S2、待所述料罐(11)恢復常壓狀態后,打開所述注液閥(14)完成汞液補充操作,然后關閉所述注液閥(14);
S3、通過所述真空閥(13)外接粗抽泵進行預抽真空操作,待所述料罐(11)達到設計真空度后,關閉所述真空閥(13),再打開所述截止閥(21),通過真空腔室(5)內的泵組將所述料罐(11)抽至高真空狀態,關閉所述截止閥(21)。
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