[發明專利]一種基于明暗場的晶圓缺陷檢測方法

在審

• 申請號: 202211089685.2
• 申請日: 2022-09-07
• 公開（公告）號: CN116297468A
• 公開（公告）日: 2023-06-23
• 發明（設計）人: 劉建明;劉莊;張彥鵬
• 申請（專利權）人: 江蘇維普光電科技有限公司
• 主分類號: G01N21/88
• 分類號: G01N21/88;G01N21/95
• 代理公司: 常州興瑞專利代理事務所(普通合伙) 32308
• 代理人: 肖興坤

1.一種基于明暗場的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，方法的步驟中含有：

將一目標晶圓置于檢測光路中，通過檢測光路利用明場光源對目標晶圓采集目標明場圖像，通過檢測光路利用暗場光源對目標晶圓采集目標暗場圖像；通過檢測光路利用明場光源對標準晶圓采集標準明場圖像，并指定標準明場圖像中的無缺陷區域作為配準檢測區域；其中，明場光源和暗場光源的波長不同；

對目標明場圖像進行處理，并根據標準明場圖像對目標明場圖像進行配準操作，得到目標明場圖像對應配準檢測區域的明場檢測區域與配準檢測區域的位置偏差；

根據得到的位置偏差索引到目標暗場圖像的暗場檢測區域；

對暗場檢測區域內的圖像進行缺陷檢測。

2.根據權利要求1所述的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，

所述明場光源為LED光源。

3.根據權利要求1所述的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，

所述暗場光源為激光或環形LED。

4.根據權利要求1所述的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，

所述檢測光路包括兩個相機，其中一相機接收明場信號，得到目標晶圓對應的目標明場圖像或標準晶圓對應的標準明場圖像；另外一相機接收暗場信號，得到目標晶圓對應的目標暗場圖像。

5.根據權利要求1所述的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，

所述檢測光路包括光源控制器和相機，相機通過脈沖觸發的方式使光源控制器控制明場光源和暗場光源進行明暗場交替，相機分時接收明場信號和暗場信號，通過分離明場信號和暗場信號分別得到目標晶圓對應的目標明場圖像和目標暗場圖像。

6.根據權利要求1所述的晶圓缺陷檢測方法，其特征在于，

對暗場檢測區域內的圖像進行缺陷檢測具體包括：

設定缺陷灰度閾值和缺陷顆粒大小；

對暗場檢測區域內的圖像按照灰度進行分割，分割的區域中的灰度大于缺陷灰度閾值的，則認為疑似缺陷區域；

然后通過缺陷顆粒大小進行疑似缺陷區域的過濾，篩選出缺陷區域。