[發(fā)明專利]蝕刻設備及玻璃板生產系統(tǒng)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202211088681.2
• 申請日: 2022-09-07
• 公開（公告）號: CN115745413A
• 公開（公告）日: 2023-03-07
• 發(fā)明（設計）人: 李青;李赫然;楊忠樑;任書明;劉曉東;王德勝;米小龍;孫超;王浩;李哲;黃云;范紅鈞;袁皎龍
• 申請（專利權）人: 四川旭虹光電科技有限公司;北京遠大信達科技有限公司
• 主分類號: C03C15/00
• 分類號: C03C15/00
• 代理公司: 北京鼎佳達知識產權代理事務所(普通合伙) 11348
• 代理人: 趙洋;劉鐵生

1.一種蝕刻設備(1)，其特征在于，包括：

設備本體(2)；

蝕刻槽(3)，所述蝕刻槽(3)設置于所述設備本體(2)內，用于容納蝕刻液；

若干傳送輥(4)，所述若干傳送輥(4)沿第一方向(a)并排設置于所述蝕刻槽(3)內，且所述傳送輥(4)能夠繞第二方向(b)轉動以傳送待蝕刻玻璃板(21)；所述第一方向(a)為所述蝕刻槽(3)的長度或寬度方向，所述第二方向(b)為垂直所述第一方向(a)的所述蝕刻槽(3)的寬度或長度方向；

其中，所述傳送輥(4)外表面包覆有吸水層(41)，所述吸水層(41)具有指定彈性。

2.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

所述蝕刻槽(3)內蝕刻液的高度至少浸潤所述傳送輥(4)和所述吸水層(41)沿蝕刻槽(3)深度方向尺寸之和的2/3。

3.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

還包括擋水板(5)和溢流管(6)；

兩所述擋水板(5)沿所述第一方向(a)延伸，以分別對應所述若干傳送輥(4)沿所述第二方向(b)的兩端部，所述擋水板(5)具有指定高度；

所述溢流管(6)與所述設備本體(2)相連通；

其中，當所述蝕刻槽(3)內的蝕刻液溢出所述擋水板(5)時，所述溢流管(6)外排蝕刻液。

4.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

還包括排風組件(7)；

所述排風組件(7)包括排風裝置(71)及氣體處理塔；

所述排風裝置(71)與所述設備本體(2)、所述氣體處理塔相連通，以將所述設備本體(2)內蝕刻液的揮發(fā)氣體集中至所述氣體處理塔。

5.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

還包括密封蓋(20)；

所述密封蓋(20)設置于所述設備本體(2)上方。

6.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

還包括第一過渡段(8)和第二過渡段(9)；

所述設備本體(2)沿所述第一方向(a)的兩端分別設有進口和出口；

所述第一過渡段(8)和所述第二過渡段(9)分別與所述設備本體(2)的進口和出口相連通；

所述第一過渡段(8)和所述第二過渡段(9)內均設有傳送組件(81)、吹風組件(82)和排風組件(7)；

所述吹風組件(82)的出風口朝向所述傳送組件(81)設置，以向位于所述傳送組件(81)的待蝕刻玻璃板(21)吹風；

所述排風組件(7)設置于所述第一過渡段(8)和當所述第二過渡段(9)上方，以向外排風。

7.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

所述吸水層(41)為耐酸堿發(fā)泡海綿。

8.根據權利要求1所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

還包括儲液箱(10)和溢流存液箱(11)，所述儲液箱(10)用于存儲蝕刻液，所述儲液箱(10)與所述蝕刻槽(3)相連通，以向所述蝕刻槽(3)內供液；所述溢流存液箱(11)與所述設備本體(2)相連通，以容納所述設備本體(2)溢流出的蝕刻液，

其中，所述溢流儲液箱(11)內設有磁力過濾泵(101)，以向所述蝕刻槽(3)循環(huán)供給過濾后的蝕刻液。

9.根據權利要求8所述的蝕刻設備(1)，其特征在于：

所述溢流存液箱(11)內設有液溫調整裝置(111)，將過濾后的蝕刻液調整至最佳反應溫度。

10.一種玻璃板生產系統(tǒng)(13)，其特征在于，其包括：

權利要求1-9任一所述的蝕刻設備(1)、入料段(14)、純水浸泡段(15)、純水刷洗段(16)、去離子水水洗段(17)、風刀吹干段(18)以及出料段(19)；

所述入料段(14)與所述蝕刻設備(1)的入口相連通；

所述純水浸泡段(15)、純水刷洗段(16)、去離子水水洗段(17)、風刀吹干段(18)以及出料段(19)于所述蝕刻設備(1)的出口端依次連通設置。