[發(fā)明專利]一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202211088564.6 | 申請日: | 2022-09-07 |
| 公開(公告)號: | CN116159327A | 公開(公告)日: | 2023-05-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉澤民;宋一鳴 | 申請(專利權(quán))人: | 西北大學(xué) |
| 主分類號: | B01D3/12 | 分類號: | B01D3/12;B01D3/42 |
| 代理公司: | 西安方諾專利代理事務(wù)所(普通合伙) 61285 | 代理人: | 李思瓊 |
| 地址: | 710069 陜西省西安市碑*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 厚度 調(diào)諧 分子 蒸餾 裝置 | ||
1.一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,包括刮膜器(1)、轉(zhuǎn)軸(6)和蒸發(fā)器(7),其特征是:所述刮膜器(1)與所述轉(zhuǎn)軸(6)之間設(shè)置有限制液膜厚度的調(diào)整機構(gòu),所述調(diào)整機構(gòu)的末端連接所述刮膜器(1)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述調(diào)整機構(gòu)包括連桿(3)與調(diào)節(jié)所述蒸發(fā)器(7)與所述刮膜器(1)表面之間距離并限制液膜厚度的調(diào)節(jié)部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述調(diào)節(jié)部件為連接在所述連桿(3)尾端的蝸輪蝸桿結(jié)構(gòu)(4)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述刮膜器(1)的徑向后方設(shè)有捕捉霧沫或飛沫的防霧沫夾帶結(jié)構(gòu)(2)。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述防霧沫夾帶結(jié)構(gòu)(2)包括板式框架和絲網(wǎng)元件,所述絲網(wǎng)元件設(shè)于所述板式框架的內(nèi)部。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述防霧沫夾帶結(jié)構(gòu)(2)正面為方形且中間部分凹進去,俯視為“凹”字形狀。
7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述防霧沫夾帶結(jié)構(gòu)(2)的前緣為“J”形內(nèi)扣導(dǎo)流槽結(jié)構(gòu)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述刮膜器(1)表面設(shè)有傾斜角凹槽。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置,其特征是:所述刮膜器(1)表面與所述蒸發(fā)器(7)表面相平行。
10.如權(quán)利要求1-9任一項所述的一種液膜厚度限域調(diào)諧分子蒸餾刮膜裝置的操作方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:計算或估算運行時所需的液膜厚度;
S2:將蝸輪蝸桿結(jié)構(gòu)(4)調(diào)至最大軌程,再根據(jù)理論數(shù)據(jù)精確調(diào)節(jié)刮膜器(1)與蒸發(fā)器(7)表面間的距離;
S3:距離調(diào)節(jié)好之后將蝸輪蝸桿結(jié)構(gòu)(4)進行鎖死;
S4:開始蒸餾,蒸餾過程中刮膜器(1)表面的傾斜角凹槽增加了蒸發(fā)面積,也增加了完整液膜所占比例,蒸餾的同時防霧沫夾帶結(jié)構(gòu)(2)會收集過程中產(chǎn)生的霧沫或飛沫。
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