[發明專利]一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置

在審

• 申請號: 202211087656.2
• 申請日: 2022-09-07
• 公開（公告）號: CN115447756A
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 杜玉環;梁思佳;馬博文;張浩;楊雅琳;于濤;于洋
• 申請（專利權）人: 重慶交通大學;重慶交通大學綠色航空技術研究院
• 主分類號: B64C3/36
• 分類號: B64C3/36;B64C23/04
• 代理公司: 成都九鼎天元知識產權代理有限公司 51214
• 代理人: 蔣易

1.一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于，包括殼體(10)，所述殼體(10)的內部至少設有一組主腔室(20)，每組所述主腔室(20)的內部至少設有一個第一等離子體激勵器(25)，每組所述主腔室(20)均包括：

第一腔室(21)，所述第一腔室(21)的頂端通過至少一個第一進氣口(23)與外部環境連通；

第二腔室(22)，所述第二腔室(22)設于所述第一腔室(21)的正下方并與所述第一腔室(21)連通，所述第二腔室(22)的底端設有至少一個第一排氣口(26)。

2.如權利要求1所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：所述第一腔室(21)和第二腔室(22)均為容積可變腔室。

3.如權利要求1所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：所述第一腔室(21)的橫截面積由上至下依次減小，所述第二腔室(22)由上至下依次包括擴張段和收縮段，所述第一排氣口(26)設于所述第二腔室(22)的底端。

4.如權利要求3所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：所述第一進氣口(23)于所述殼體(10)的頂面設有多個，且所述殼體在每個第一進氣口(23)的內側均設有引流部件(30)，所述引流部件(30)包括外擴段(31)和內縮段(32)，所述外擴段(31)的底端和內縮段(32)的底端分別朝向靠近和遠離所述殼體(10)的側壁方向延伸。

5.如權利要求1所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：還包括至少一個輔助腔室(50)，所述輔助腔室(50)內均設有至少一個第二等離子體激勵器(54)，所述輔助腔室(50)設于所述殼體內部且所述輔助腔室(50)的頂端和底端分別設有第二進氣口和第二排氣口。

6.如權利要求1所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：還包括至少一個輔助腔室(50)，所述輔助腔室(50)內均設有至少一個第二等離子體激勵器(54)，所述輔助腔室(50)設于所述殼體內部且所述輔助腔室(50)的頂端和底端分別設有第二進氣口和第二排氣口。

7.如權利要求6所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：所述輔助腔室(50)設有多個且均設于所述主腔室(20)的外側，且所述輔助腔室(50)均為容積可變腔室。

8.如權利要求7所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：還包括容積調節機構，所述容積調節機構用于調節所述主腔室(20)和/或輔助腔室(50)的容積。

9.如權利要求8所述的一種用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置，其特征在于：所述容積調節機構包括至少一組驅振單元(40)，每組所述驅振單元(40)均包括用于分隔所述主腔室(20)與輔助腔室(50)的彈性振動膜(41)以及設于所述彈性振動膜(41)上的驅振組件(42)。

10.如權利要求1-9任意一項所述的用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置的應用，其特征在于：所述用于減阻的等離子體合成射流吸氣裝置可安裝于行駛裝置或飛行裝置的外表面或內部。