[發(fā)明專利]照明光學(xué)系統(tǒng)和激光加工裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202211082532.5 | 申請(qǐng)日: | 2022-09-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN116060797A | 公開(公告)日: | 2023-05-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 山賀勝;鷲山裕之 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社ORC制作所 |
| 主分類號(hào): | B23K26/70 | 分類號(hào): | B23K26/70;B23K26/00 |
| 代理公司: | 北京三友知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 楊俊波;于靖帥 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 照明 光學(xué)系統(tǒng) 激光 加工 裝置 | ||
本發(fā)明提供照明光學(xué)系統(tǒng)和激光加工裝置。能夠防止光學(xué)元件成為高溫,并且能夠防止光路長(zhǎng)度變長(zhǎng)、裝置大型化。一種照明光學(xué)系統(tǒng),其將激光向照射面引導(dǎo),其中,所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有光量均勻化部,該光量均勻化部使激光均勻,光量均勻化部具有沿著光軸依次排列的第1透鏡陣列、第2透鏡陣列以及第3透鏡陣列,在比第1透鏡陣列的焦點(diǎn)靠后的位置設(shè)置有第2透鏡陣列,使得在第2透鏡陣列之后,在到照射面之間的光路上不存在會(huì)聚點(diǎn),第1透鏡陣列和第3透鏡陣列具有正光焦度,第2透鏡陣列具有負(fù)光焦度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及用于向光掩模照射線狀的激光的照明光學(xué)系統(tǒng)以及具有照明光學(xué)系統(tǒng)的激光加工裝置。
背景技術(shù)
已知有如下的技術(shù):通過(guò)透過(guò)光掩模后的激光對(duì)樹脂、硅等非金屬材料的被加工物(工件,例如印刷板的樹脂層)進(jìn)行掃描,從而將被加工物燒蝕加工(ablation:基于熔化、蒸發(fā)的去除加工)成光掩模的圖案的形狀(例如過(guò)孔)。在需要精密加工的情況下,使用準(zhǔn)分子激光(KrF激光,波長(zhǎng)為248nm)進(jìn)行基于燒蝕的加工。
利用準(zhǔn)分子激光的燒蝕加工需要向被加工對(duì)象物照射非常高的能量的光,高通量的光束通過(guò)照明光學(xué)系統(tǒng)。因此,透鏡等光學(xué)元件的玻璃材料和涂膜等因熱而受到損傷成為問(wèn)題。此外,當(dāng)為了光學(xué)元件不成為高溫而采用不使會(huì)聚點(diǎn)形成在光學(xué)元件上的配置時(shí),會(huì)避開會(huì)聚點(diǎn)來(lái)配置光學(xué)元件,存在光路長(zhǎng)度變長(zhǎng)即裝置大型化這樣的課題。
例如專利文獻(xiàn)1所記載的照明光學(xué)系統(tǒng)是沿著光軸依次排列有全息元件12、柱面透鏡陣列13a以及柱面透鏡陣列13b的結(jié)構(gòu)。
在專利文獻(xiàn)2中記載了能夠使照射區(qū)域長(zhǎng)條化并且細(xì)線化的光束均化器。在專利文獻(xiàn)2的結(jié)構(gòu)中,采用了將柱面透鏡陣列1A、2B、1B沿著光軸依次排列的結(jié)構(gòu),在柱面透鏡陣列1B之后具有會(huì)聚部。
專利文獻(xiàn)1:日本特開2003-090959號(hào)公報(bào)
專利文獻(xiàn)2:日本特開平10-153746號(hào)公報(bào)
在專利文獻(xiàn)1的照明光學(xué)系統(tǒng)中,由于在柱面透鏡陣列13b的透鏡面附近存在會(huì)聚部,因此存在柱面透鏡陣列13b發(fā)熱的問(wèn)題。并且,在專利文獻(xiàn)2的結(jié)構(gòu)中,雖然在光學(xué)元件上沒有會(huì)聚部,但光學(xué)元件的配置受限,光路變長(zhǎng),裝置大型化。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明的目的在于,提供在光學(xué)元件上不存在會(huì)聚部并且能夠防止光路變長(zhǎng)的照明光學(xué)系統(tǒng)和激光加工裝置。
本發(fā)明是一種照明光學(xué)系統(tǒng),其將激光向照射面引導(dǎo),其中,所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有光量均勻化部,該光量均勻化部使激光均勻化,光量均勻化部具有沿著光軸依次排列的第1透鏡陣列、第2透鏡陣列以及第3透鏡陣列,在比第1透鏡陣列的焦點(diǎn)靠后的位置設(shè)置有第2透鏡陣列,使得在第2透鏡陣列之后,在到照射面之間的光路上不存在會(huì)聚點(diǎn),第1透鏡陣列和第3透鏡陣列具有正光焦度,第2透鏡陣列具有負(fù)光焦度。
并且,本發(fā)明是一種照明光學(xué)系統(tǒng),其將激光向照射面引導(dǎo),其中,所述照明光學(xué)系統(tǒng)具有光量均勻化部,該光量均勻化部使激光均勻化,將z軸設(shè)為光軸方向,將與z軸和y軸垂直的方向設(shè)為x軸,將與z軸和x軸垂直的方向設(shè)為y軸,光量均勻化部為沿著z軸依次排列有第1透鏡陣列部和第2透鏡陣列部的結(jié)構(gòu),該第1透鏡陣列部在x軸方向和y軸方向中的一個(gè)方向上具有透鏡作用,該第2透鏡陣列部在x軸方向和y軸方向中的另一個(gè)方向上具有透鏡作用,第1透鏡陣列部具有沿著光軸依次排列的第1柱面透鏡陣列、第2柱面透鏡陣列以及第3柱面透鏡陣列,在比第1柱面透鏡陣列的焦點(diǎn)靠后的位置設(shè)置有第2柱面透鏡陣列,使得在第2柱面透鏡陣列之后,在到照射面之間的光路上不存在會(huì)聚點(diǎn),第1柱面透鏡陣列和第3柱面透鏡陣列具有正光焦度,第2柱面透鏡陣列具有負(fù)光焦度。
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- 專利分類
B23K 釬焊或脫焊;焊接;用釬焊或焊接方法包覆或鍍敷;局部加熱切割,如火焰切割;用激光束加工
B23K26-00 用激光束加工,例如焊接,切割,打孔
B23K26-02 .工件的定位和觀測(cè),如相對(duì)于沖擊點(diǎn),激光束的對(duì)正,瞄準(zhǔn)或聚焦
B23K26-08 .激光束與工件具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)的裝置
B23K26-12 .在一特殊氣氛中,例如在罩中
B23K26-14 .利用流體,如氣體的射流,與激光束相結(jié)合
B23K26-16 .排除副產(chǎn)物,例如對(duì)工件處理時(shí)產(chǎn)生的微粒或蒸氣





