[發明專利]一種可調溫防冷凝培養裝置及濕式培養的流量控制方法

在審

• 申請號: 202211076823.3
• 申請日: 2022-09-02
• 公開（公告）號: CN115418318A
• 公開（公告）日: 2022-12-02
• 發明（設計）人: 李婷;勵紅峰;史振志;湯超龍
• 申請（專利權）人: 廣州市華粵行醫療科技有限公司
• 主分類號: C12M3/00
• 分類號: C12M3/00;C12M1/02;C12M1/04;C12M1/38;C12M1/22;C12M1/36;C12Q3/00
• 代理公司: 廣州三環專利商標代理有限公司 44202
• 代理人: 吳松濱

本發明公開了一種可調溫防冷凝培養裝置及濕式培養的流量控制方法，所述裝置包括：上殼體、下殼體、密封金屬凹槽、培養轉盤組件和加濕模塊；下殼體的外側面設置有進氣口與加濕模塊連接，內表面對應位置設置有分流接口與密封金屬凹槽連接；密封金屬凹槽沿下殼體的內壁環繞；培養轉盤組件位于下殼體的內部，由上至下依次為用于放置若干培養皿的培養轉盤、第一加熱片和均溫板；培養轉盤、第一加熱片和均溫板貼合。本申請方案可以在保證培養裝置內部的氣體濃度和濕度的均一性的情況下對培養裝置進行大容量、全方位的濕式培養。

技術領域

本發明涉及輔助生殖設備技術領域，特別是涉及一種可調溫防冷凝培養裝置及濕式培養的流量控制方法。

背景技術

目前在輔助生殖領域，胚胎的體外培養通過大型的箱式培養裝置或桌面培養裝置對胚胎進行體外培養，提供胚胎培養所需的溫度、濕度和氣體濃度的培養環境，在不破壞胚胎的培養環境情況下對胚胎進行顯微觀察成像。市面上現有的延時培養裝置根據對培養裝置內氣體是否進行加濕處理分為干式培養和濕式培養。該類培養裝置可以為胚胎體外培養提供良好的溫度和氣體環境，但操作者如醫生需要對胚胎進行顯微觀察時，需要將培養裝置內的胚胎轉移到顯微鏡底下觀察對胚胎發育情況進行判斷。在該顯微觀察操作中，胚胎會暴露到外界環境中，胚胎所在培養液的溫度會大幅降低，外界的氣體溶度與培養裝置內的差異較大，會導致培養液的PH值也隨之發生改變，從而對胚胎的發育造成影響。目前大部分的干式培養裝置通過進氣管路進行氣體控制，而不對培養裝置內部環境進行加濕處理。而濕式培養裝置則對培養裝置的內部環境進行加濕處理，一般通過在培養裝置內放置水盤，通過水盤內的水自動蒸發來提高培養裝置內部的環境濕度。

目前市面上的延時培養裝置普遍存在容量較小問題，僅可以對單個倉室進行單獨加濕，難以滿足大容量濕式培養方式。濕式培養方式一般通過增大水盤中水的蒸發面積或提升培養裝置內部的溫度來提高培養裝置內部的整體濕度，但上述方法不僅難以達到90％RH以上，更難達到90％RH以上，還容易使培養裝置內部產生冷凝水，增大細菌滋生的風險。

發明內容

本申請提供了一種可調溫防冷凝培養裝置及濕式培養的流量控制方法，可以在保證培養裝置內部的氣體濃度和濕度的均一性的情況下對培養裝置進行大容量、全方位的濕式培養。

第一方面，本申請提供了一種可調溫防冷凝培養裝置，包括：上殼體、下殼體、密封金屬凹槽、培養轉盤組件和加濕模塊，具體為：

所述下殼體的側邊外表面設置有進氣口與外部器件連接；

所述加濕模塊包括加濕水瓶、用于放置所述加濕水瓶的加濕抽屜和與所述加濕抽屜嵌套的加濕箱；其中，所述加濕箱上設置有密封插件與所述進氣口連接；

所述下殼體的側邊內表面對應所述進氣口的位置設置有分流接口與所述密封金屬凹槽連接；其中，所述密封金屬凹槽沿所述下殼體的內壁環繞一周；

所述密封金屬凹槽的表面以所述分流接口為起點，設置有若干出氣口；其中，所述出氣口的尺寸沿所述培養裝置的艙門方向依序增大；

所述培養轉盤組件位于所述下殼體的內部，由上至下依次為用于放置若干培養皿的培養轉盤、第一加熱片和均溫板；其中，所述培養轉盤、第一加熱片和所述均溫板直接貼合；

所述下殼體的底部內表面與所述均溫板緊密貼合；其中，所述下殼體的底部外表面設置有第二加熱片；

所述下殼體的上表面與所述上殼體剛性連接。