[發(fā)明專利]一種頭戴設(shè)備的瞳距測量方法、裝置及設(shè)備

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• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202211055277.5
• 申請(qǐng)日: 2022-08-31
• 公開（公告）號(hào): CN115307878A
• 公開（公告）日: 2022-11-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 任航;張興鑫;胡銳;譚樹海;杜慧;孫凱;徐博;金玲
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 青島歌爾聲學(xué)科技有限公司
• 主分類號(hào): G01M11/02
• 分類號(hào): G01M11/02;G01B11/14
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 王學(xué)強(qiáng)

1.一種頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，包括：

通過微距圖像采集設(shè)備獲取待測頭戴設(shè)備的第一光學(xué)模組的輪廓圖像；

控制所述待測頭戴設(shè)備移動(dòng)預(yù)設(shè)距離，并通過所述微距圖像采集設(shè)備獲取所述待測頭戴設(shè)備的第二光學(xué)模組的輪廓圖像；

基于所述預(yù)設(shè)距離、所述第一光學(xué)模組的輪廓圖像和所述第二光學(xué)模組的輪廓圖像，得到與預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的實(shí)際瞳距；所述預(yù)設(shè)位置為距離調(diào)節(jié)端所處的位置；所述距離調(diào)節(jié)端用于調(diào)節(jié)所述第一光學(xué)模組和所述第二光學(xué)模組之間的相對(duì)位置。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，所述基于所述預(yù)設(shè)距離、所述第一光學(xué)模組的輪廓圖像和所述第二光學(xué)模組的輪廓圖像，得到與預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的實(shí)際瞳距，包括：

基于所述第一光學(xué)模組的輪廓圖像，計(jì)算出第一質(zhì)心坐標(biāo)；

基于所述第二光學(xué)模組的輪廓圖像，計(jì)算出第二質(zhì)心坐標(biāo)；

基于所述第一質(zhì)心坐標(biāo)、第二質(zhì)心坐標(biāo)，計(jì)算出第一光學(xué)模組輪廓與第二光學(xué)模組輪廓的質(zhì)心像素差；

根據(jù)所述質(zhì)心像素差得到距離差值；

根據(jù)所述預(yù)設(shè)距離、所述距離差值及預(yù)設(shè)計(jì)算關(guān)系，得到與所述預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的實(shí)際瞳距。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，在所述預(yù)設(shè)位置為最大IPD位置的情況下，所述預(yù)設(shè)計(jì)算關(guān)系為：

IPD_MAX＝D+ΔD-(l*2)，其中，IPD_MAX表示最大IPD位置處的實(shí)際瞳距，D表示預(yù)設(shè)距離，ΔD表示距離差值，l表示光學(xué)模組輪廓質(zhì)心到光心在IPD移動(dòng)方向上的相對(duì)距離；

在所述預(yù)設(shè)位置為最小IPD位置的情況下，所述預(yù)設(shè)計(jì)算關(guān)系為：

IPD_MAX＝D-ΔD-(l*2)，其中，IPD_MAX表示最大IPD位置處的實(shí)際瞳距，D表示預(yù)設(shè)距離，ΔD表示距離差值。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，還包括：

獲取與所述預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的理論瞳距；

將所述實(shí)際瞳距與所述理論瞳距進(jìn)行比較，當(dāng)所述實(shí)際瞳距與所述理論瞳距不一致時(shí)，生成反饋結(jié)果。

5.根據(jù)權(quán)利要求1至4任意一項(xiàng)所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，還包括：

獲取所述待測頭戴設(shè)備在所述預(yù)設(shè)IPD位置處時(shí)對(duì)應(yīng)的IPD傳感器值；

將所述IPD傳感器值、所述預(yù)設(shè)位置、所述實(shí)際瞳距對(duì)應(yīng)存儲(chǔ)。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，還包括：

預(yù)先對(duì)所述微距圖像采集設(shè)備進(jìn)行光軸校準(zhǔn)。

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的頭戴設(shè)備的瞳距測量方法，其特征在于，還包括：

預(yù)先將所述待測頭戴設(shè)備放置于產(chǎn)品工裝上，所述產(chǎn)品工裝設(shè)置于驅(qū)動(dòng)模組上；

所述控制所述待測頭戴設(shè)備移動(dòng)預(yù)設(shè)距離，包括：

控制所述驅(qū)動(dòng)模組驅(qū)動(dòng)所述待測頭戴設(shè)備移動(dòng)預(yù)設(shè)距離。

8.一種頭戴設(shè)備的瞳距測量裝置，其特征在于，包括：

采集模塊，用于通過微距圖像采集設(shè)備獲取待測頭戴設(shè)備的第一光學(xué)模組的輪廓圖像；

控制模塊，用于控制所述待測頭戴設(shè)備移動(dòng)預(yù)設(shè)距離，并通過所述微距圖像采集設(shè)備獲取所述待測頭戴設(shè)備的第二光學(xué)模組的輪廓圖像；

計(jì)算模塊，用于基于所述預(yù)設(shè)距離、所述第一光學(xué)模組的輪廓圖像和所述第二光學(xué)模組的輪廓圖像，得到與預(yù)設(shè)位置對(duì)應(yīng)的實(shí)際瞳距；所述預(yù)設(shè)位置為距離調(diào)節(jié)端所處的位置；所述距離調(diào)節(jié)端用于調(diào)節(jié)所述第一光學(xué)模組和所述第二光學(xué)模組之間的相對(duì)位置。

9.一種頭戴設(shè)備的瞳距測量設(shè)備，其特征在于，包括：

存儲(chǔ)器，用于存儲(chǔ)計(jì)算機(jī)程序；

處理器，用于執(zhí)行所述計(jì)算機(jī)程序時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述頭戴設(shè)備的瞳距測量方法的步驟。

10.一種計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)，其特征在于，所述計(jì)算機(jī)可讀存儲(chǔ)介質(zhì)上存儲(chǔ)有計(jì)算機(jī)程序，所述計(jì)算機(jī)程序被處理器執(zhí)行時(shí)實(shí)現(xiàn)如權(quán)利要求1至7任一項(xiàng)所述頭戴設(shè)備的瞳距測量方法的步驟。