[發明專利]一種花灑支架和淋浴裝置

在審

• 申請號: 202211055086.9
• 申請日: 2022-08-31
• 公開（公告）號: CN115288247A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 林孝發;林孝山;鄭永智;梁泮生;陳志偉;鄧小清;劉啟喬
• 申請（專利權）人: 福建西河衛浴科技有限公司
• 主分類號: E03C1/06
• 分類號: E03C1/06
• 代理公司: 廈門龍格思匯知識產權代理有限公司 35251
• 代理人: 朱益萍

1.一種花灑支架，用于固定支撐花灑(52)，其特征是，包括：

支架模塊，其包括插接單元(40)，所述插接單元(40)沿第一方向延伸設有第一側翼(41)和第二側翼(42)；所述第一側翼(41)和第二側翼(42)之間形成沿與第一方向相交的第二方向延伸并用于供花灑(52)插接固定的插接槽(43)；和

磁吸單元(30)，其固定裝設于所述插接單元(40)，并貼近或位于所述插接槽(43)；

所述磁吸單元(30)被配置為適于供所述花灑(52)在未插接于所述插接槽(43)時磁吸固定。

2.如權利要求1所述的一種花灑支架，其特征是，所述磁吸單元(30)位于所述插接槽(43)的槽底外側，并沿第一方向延伸設有伸入所述第一側翼(41)和第二側翼(42)的第一凸出部(31)和第二凸出部(32)。

3.如權利要求2所述的一種花灑支架，其特征是，所述第一凸出部(31)和第二凸出部(32)位于所述磁吸單元(30)在第二方向的上側位置。

4.如權利要求1-3任一項所述的一種花灑支架，其特征是，所述插接槽(43)的槽壁沿第二方向由上至下依次形成第一傾斜部(431)和第二傾斜部(432)；所述第一傾斜部(431)相對于第二方向的傾斜角度大于所述第二傾斜部(432)相對于第二方向的傾斜角度。

5.如權利要求4所述的一種花灑支架，其特征是，所述插接槽(43)在所述第一傾斜部(431)和其在第二方向上的上端開口之間設有臺階部(433)，所述臺階部(433)的臺階面沿第二方向朝上。

6.如權利要求5所述的一種花灑支架，其特征是，所述支架模塊還包括支架單元(10)；所述支架單元(10)與所述插接單元(40)繞平行于第一方向的第一軸線轉動連接，且其適于相對基體固定；所述磁吸單元(30)環繞所述第一軸線布置。

7.如權利要求6所述的一種花灑支架，其特征是，所述支架單元(10)包括支架座(11)、內架(14)、摩擦塊(13)和調節手柄(15)；所述支架座(11)設有沿第一方向延伸的內腔，并設有沿第二方向貫通的第一通道(110)；所述內架(14)沿第一方向固定裝設于所述內腔，并設有沿第二方向貫通并適于與所述第一通道(110)對應的第二通道(140)；所述摩擦塊(13)沿第一方向滑動裝設于所述內架(14)并突出于所述第二通道(140)的內側壁面；所述調節手柄(15)與所述支架座(11)螺紋連接，并適于推動所述摩擦塊(13)沿第一方向滑動以改變所述摩擦塊(13)相對所述第二通道(140)的內側壁面的突出程度。

8.一種淋浴裝置，其特征是，包括：花灑(52)；和

如權利要求1-7任一項所述的一種花灑支架，其通過所述支架模塊相對基體固定，且其上的插接槽(43)適于與所述花灑(52)底部插接配合以固定所述花灑(52)；

所述花灑(52)具有第一磁吸部(520)和第二磁吸部(521)；所述第一磁吸部(520)位于所述花灑(52)背部以通過與所述磁吸單元(30)的磁吸配合固定于所述花灑支架；所述第二磁吸部(521)靠近或位于所述花灑(52)底部以在所述花灑(52)朝向所述插接槽(43)運動的過程中通過所述磁吸單元(30)為所述花灑(52)提供磁吸力。

9.如權利要求8所述的一種淋浴裝置，其特征是，所述花灑(52)在第一磁吸部(520)處的形狀與所述花灑支架對應裝設有所述磁吸單元(30)的位置處的外側形狀適配。

10.如權利要求8所述的一種淋浴裝置，其特征是，還包括固定桿(51)；所述花灑支架通過所述支架模塊固定于所述固定桿(51)；所述固定桿(51)固定于所述基體。