[發明專利]一種平面基板的等離子體處理裝置

在審

• 申請號: 202211047066.7
• 申請日: 2022-08-30
• 公開（公告）號: CN115295390A
• 公開（公告）日: 2022-11-04
• 發明（設計）人: 周焱文
• 申請（專利權）人: 武漢麥韋光學科技有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 武漢探智知識產權代理事務所(普通合伙) 42309
• 代理人: 劉靜

1.一種平面基板的等離子體處理裝置，包括箱體(1)，其特征在于，所述箱體(1)上鉸接有密封門(5)，所述箱體(1)下端內壁設置有承載裝置，所述箱體(1)上端連通設置有導波管(7)，所述導波管(7)上連通設置有微波發生器(6)，所述箱體(1)內設置有導波機構，所述箱體(1)上連通設置有進氣管(3)與排氣閥(4)，所述承載裝置上通過夾緊機構夾緊有基板，所述夾緊機構通過轉動機構轉動。

2.根據權利要求1所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述承載裝置包括支撐板(12)、支撐臺(13)，所述支撐臺(13)固定連接在所述箱體(1)上，所述支撐板(12)與所述支撐臺(13)固定連接。

3.根據權利要求2所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述夾緊機構包括雙向螺紋桿(9)、第一伸縮桿(11)、回轉軸承(14)、固定板(15)、滑塊(21)，所述雙向螺紋桿(9)通過軸承與所述支撐臺(13)轉動連接，所述雙向螺紋桿(9)的兩端均螺紋貫穿連接有兩個滑塊(21)，兩個所述滑塊(21)分別與所述箱體(1)相抵接，兩個所述滑塊(21)上端固定連接有第一伸縮桿(11)，兩個所述第一伸縮桿(11)的上端均固定連接有回轉軸承(14)，兩個所述回轉軸承(14)的內軸面與所述固定板(15)固定連接。

4.根據權利要求1-3中任一項所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述轉動機構包括電機(2)、連接套(18)、轉軸(19)，所述箱體(1)的兩側均固定連接有所述電機(2)，兩個所述電機(2)的輸出軸上均固定連接有所述轉軸(19)，兩個所述轉軸(19)通過密封軸承與所述箱體(1)轉動連接，兩個所述轉軸(19)上均套設有所述連接套(18)，所述連接套(18)與所述轉軸(19)之間設置有限位機構，所述連接套(18)通過移動機構機構進行移動。

5.根據權利要求4所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述限位機構包括連接棱(20)，所述連接套(18)上開設有限位槽，所述連接棱(20)固定連接在所述轉軸(19)上，所述連接棱(20)可插接進所述限位槽內。

6.根據權利要求4所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述移動機構包括第二伸縮桿(16)、連接塊(17)，所述第二伸縮桿(16)一端與所述箱體(1)固定連接、另一端與所述連接塊(17)固定連接，所述連接塊(17)通過軸承與所述連接套(18)轉動連接。

7.根據權利要求6所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述軸承為推力球軸承。

8.根據權利要求1所述的一種平面基板的等離子體處理裝置，其特征在于，所述導波機構包括導波箱(10)與通孔(22)，所述導波箱(10)與所述箱體(1)固定連接，所述導波箱(10)上等距離開設有多個所述通孔(22)。