[發明專利]一種旋流噴射結構、導流保護結構及噴射器

在審

• 申請號: 202211046723.6
• 申請日: 2022-08-30
• 公開（公告）號: CN115445803A
• 公開（公告）日: 2022-12-09
• 發明（設計）人: 莫韜;李梁;梁國元
• 申請（專利權）人: 柳州源創電噴技術有限公司
• 主分類號: B05B1/34
• 分類號: B05B1/34;B05B1/30
• 代理公司: 南京禹為知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 32272
• 代理人: 潘政勛

本發明公開了一種旋流噴射結構、導流保護結構及噴射器，包括旋流噴射結構、導流保護結構和噴射器，其中旋流噴射結構包括基座，其上設置有由外側向中心延伸形成的分流槽，分流件，設置有多個在所述基座上方，多個所述分流件之間形成旋流槽，所述分流槽與所述旋流槽相連通。該旋流噴射結構、導流保護結構及噴射器和工作結構，通過將旋流噴射組件設置在輸出內孔中，打破常規設計，在工作過程中該結構使得流體從密封線處直接進入旋流片的側面分流槽，通過減少流道空間，降低流道形狀復雜程度，可以降低流體流經旋流結構的能量損失，使流體能量更高效地轉變為噴射動能，以獲得高更的噴射速度，更細致的噴射霧化顆粒。

技術領域

本發明涉及的噴射器技術領域，尤其涉及一種旋流噴射結構、導流保護結構及噴射器。

背景技術

噴射器是一種能夠將內部液體、氣體等工作流體進行噴出的裝置，而現在市面上常見的為電磁噴射器，通過使用給殼體內的電磁線圈額定信號，電能轉變為磁能，閥芯所受磁力克服內部結構流體作用、彈簧彈力或摩擦力進行軸向運動，打開密封耦合結構，在流體輸入壓力的作用下，流體介質從導流片噴孔噴出、實現流量輸出，當中斷電磁結構內的線圈信號時，磁力降低，在彈簧彈力作用下密封耦合結構閉合，實現停止輸出流量動作，通過脈動式的密封耦合件開閉時間的控制，實現不同的流量輸出。

而現有的噴射器如申請號為“CN201711193762.8”的“一種單孔霧化噴油器的旋流霧化結構”，其通過將流體分成兩部分，一部分流體通過旋流孔，另一部分流體通過旋流槽，但旋流槽底部由于受到計量板的遮擋，該部分流體撞擊到旋流槽底部后將迅速產生劇烈的散射，從而對其余部分流體產生沖擊，將通過閥孔后的流體束撞擊形成紊流，或者沿旋流槽方向分布的旋流，實現霧化，讓霧化效果得到改善，但是其這樣的設計會具有一些問題：

1、工作流體這樣的流向會使得其產生很多的能量損失，導致最后通過噴孔噴出的能量較小，旋流流道過長。

2、該使用的旋流結構流體噴出后，霧化方向比較直，不能往兩邊發散。

3、噴孔板設置因為受到了霧化片的限制，設計較薄，為了防止噴空能量不足，會盡量設置的較薄，容易爆裂。

4、而二層及二層以上的導流板及旋流板因工藝問題，非常不便于設置為一體的，在壓力的作用下造成之間不貼合，當流道碰撞霧化，容易滲入到縫隙里面，造成旋流過程不理想。

發明內容

本部分的目的在于概述本發明的實施例的一些方面以及簡要介紹一些較佳實施例。在本部分以及本申請的說明書摘要和發明名稱中可能會做些簡化或省略以避免使本部分、說明書摘要和發明名稱的目的模糊，而這種簡化或省略不能用于限制本發明的范圍。

鑒于上述現有旋流噴射結構存在的問題，提出了本發明的第一個實施方案。

因此，本發明其中一個目的是提供一種旋流噴射結構，其目的在于：控制流體能力轉換及流向，以獲得更快的整體噴射速度，更細的噴霧顆粒。

為解決上述技術問題，本發明的旋流噴射結構提供如下技術方案：包括基座，其上設置有由外側向內凹陷形成的分流槽；分流件，設置于所述基座上方，復數個所述分流件彼此之間形成旋流槽，所述分流槽與所述旋流槽相連通。

作為本發明所述旋流噴射結構的一種優選方案，其中：所述分流槽包括為第一分流面和第二分流面，所述第一分流面和所述第二分流面之間形成第一夾角。

作為本發明所述旋流噴射結構的一種優選方案，其中：所述分流件包括為第一旋流面、第二旋流面和第三旋流面，所述第一旋流面為平面，自所述第一旋流面一側呈弧形延伸形成所述第二旋流面，自所述第二旋流面一側呈弧形延伸形成所述第三旋流面，所述第二旋流面與所述第三旋流面相交形成第二夾角。