[發(fā)明專利]一種細砂干粒釉、陶瓷磚及其制備方法

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• 申請?zhí)枺?/td>: 202211041551.3
• 申請日: 2022-08-29
• 公開（公告）號: CN115108722A
• 公開（公告）日: 2022-09-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐童;梁平英;謝石長;洪濤;單紅麗;王向橋;朱少強;田沖;蘇啟港;王秀芬;郭向召;李仁敏;袁小娣;戴志梅;黃詩程;李輝;黃春林;簡潤桐;葉德林
• 申請（專利權(quán)）人: 新明珠集團股份有限公司;佛山市三水新明珠建陶工業(yè)有限公司;廣東薩米特陶瓷有限公司;江西新明珠建材有限公司;湖北新明珠綠色建材科技有限公司
• 主分類號: C03C8/00
• 分類號: C03C8/00;C04B41/89
• 代理公司: 深圳市君勝知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 44268
• 代理人: 劉芙蓉

1.一種細砂干粒釉，其特征在于，所述細砂干粒釉包括細砂干粒，所述細砂干粒按質(zhì)量百分數(shù)計包括以下化學(xué)成分：占所述細砂干粒18%～20%的Al₂O₃、占所述細砂干粒5.5%～7.5%的SrO和占所述細砂干粒0.1%～0.2%的TiO₂；所述細砂干粒的粒度為250～320目。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細砂干粒釉，其特征在于，所述細砂干粒按質(zhì)量百分數(shù)計包括以下化學(xué)成分：SiO₂ 49%～52%、Al₂O₃ 18%～20%、CaO 8%～10%、Na₂O 1.0%～2.5%、K₂O 4.5%～6.5%、ZrO₂ 0.01%～0.05%、Fe₂O₃ 0.03%～0.08%、ZnO 4.0%～5.5%、P₂O₅ 0.01%～0.03%、BaO0.05%～0.2%、SrO 5.5%～7.5%、MgO 1.0%～2.5%、TiO₂ 0.1%～0.2%、CuO 0.05%～0.1%、HfO₂ 0.03%～0.08%、灼減0.1%～0.2%。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的細砂干粒釉，其特征在于，所述細砂干粒釉按質(zhì)量百分數(shù)計具體包括以下組分：細砂干粒18%～23%、懸浮劑72%～78%、保護釉漿4%～10%。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的細砂干粒釉，其特征在于，所述保護釉漿按質(zhì)量百分數(shù)計包括以下化學(xué)成分：SiO₂ 53%～58%、Al₂O₃ 9%～12%、CaO 4.0%～6.0%、Na₂O 2.0%～3.5%、K₂O2.5%～4.5%、Fe₂O₃ 0.08%～0.15%、ZnO 3.0%～4.5%、P₂O₅ 0.1%～0.2%、BaO 4.5%～6.0%、SrO1.5%～3.0%、MgO 3.5%～6.0%、TiO₂ 0.01%～0.05%、HfO₂ 0.03%～0.08%、SO₃ 0.2%～0.3%、灼減5.5%～6.5%。

5.一種陶瓷磚，其特征在于，包括依次層疊設(shè)置的陶瓷坯體層、底釉層和面釉層，所述面釉層的制備原料包括權(quán)利要求1～4任一項所述的細砂干粒釉。

6.一種陶瓷磚的制備方法，其特征在于，包括步驟：

制備陶瓷坯體層；

在所述陶瓷坯體層表面施底釉，形成底釉層；

在所述底釉層表面施細砂干粒釉，形成面釉層；其中所述細砂干粒釉為權(quán)利要求1～4任一項所述的細砂干粒釉；

所述面釉層制備完成后，進行燒成處理，得到陶瓷磚初成品；

對所述陶瓷磚初成品進行刷拋處理，得到所述陶瓷磚。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷磚的制備方法，其特征在于，所述底釉的比重為1.80～1.86g/mL，流速為35～45S，施釉量為450~550g/m2。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷磚的制備方法，其特征在于，所述細砂干粒釉的比重為1.35～1.5g/mL，流速為30～40S，施釉量為300～400g/m2。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的陶瓷磚的制備方法，其特征在于，所述燒成處理的條件包括：燒成溫度為1180～1210℃，燒成時間為45~65分鐘；

采用1500～3000目的樹脂磨片對所述陶瓷磚初成品進行刷拋處理。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的陶瓷磚的制備方法，其特征在于，所述刷拋處理時，所述樹脂磨片對陶瓷磚初成品的壓力為0.3～0.7MPa。