[發明專利]一種雙經四緯提花織物的單緯漸變顯色織造方法

在審

• 申請號: 202211038913.3
• 申請日: 2022-08-29
• 公開（公告）號: CN115305621A
• 公開（公告）日: 2022-11-08
• 發明（設計）人: 周赳;陸爽懌
• 申請（專利權）人: 浙江理工大學
• 主分類號: D03D21/00
• 分類號: D03D21/00;D03D11/00;D03D13/00;D03D15/54
• 代理公司: 紹興市知衡專利代理事務所(普通合伙) 33277
• 代理人: 仵君粉

本申請提供一種雙經四緯提花織物的單緯漸變顯色織造方法，屬于提花織物織造方法技術領域。經向紗線配置為兩組，緯向紗線配置四組，通過雙經四緯提花結構下單緯漸變顯色結構模型建立、表層顯色組織設計、里層背襯組織設計、接結組織設計、組合組織流程設計、數碼圖案設計、組合結構圖設計，形成組合結構圖，設定合適經緯參數，依據組合結構圖織造，即可獲得雙經四緯提花結構下單緯漸變顯色的提花織物。本申請能夠在雙經四緯結構模型下，使任意一緯在織物表面漸變顯色，滿足提花織物結構交織平衡的技術要求，可用于大批量生產。

技術領域

本申請涉及一種雙經四緯提花織物的單緯漸變顯色織造方法，屬于提花織物織造方法技術領域。

背景技術

分層組合設計模式的提出，為數碼圖像直接應用于提花織物織造時組織結構的設計問題提供了有效解決方案，且突破了傳統提花織物一一對應設計模式的諸多局限。目前，在分層組合設計模式下，單經單緯、單經雙緯、單經三緯、單經四緯結構的提花織物織造方法已被提出，此類單向多組紗線配置結構具有顯色模型明度表達受限以及色域空間較小的缺陷，故在此基礎上建立了雙向多組紗線配置結構，目前已有雙經雙緯、雙經三緯結構的提花織物織造方法，但色彩信息的表達仍不夠充分，無法有效建立基于提花織物結構的顯色模型，同時，暫未見基于分層組合設計模式的雙經四緯提花結構的單緯漸變顯色方法的文獻記載。

基于此，做出本申請。

發明內容

本申請提供一種基于分層組合設計模式的雙經四緯提花織物，該織物可以實現四緯在織物表面單獨漸變顯色，賦予織物更為充足的色彩信息。

具體地，本申請是通過以下方案實現的：

一種雙經四緯提花織物的單緯漸變顯色織造方法，包括以下步驟：

（1）建立結構模型：

織物經向配置兩組絲線，其中，經向組合為甲經J1與乙經J2雙組，甲經J1與乙經J2按照1:1排列比由左至右排列，緯向組合為甲緯W1、乙緯W2、丙緯W3與丁緯W4四組，甲緯W1、乙緯W2、丙緯W3與丁緯W4按照1:1:1:1排列比由上至下排列。僅一組緯線與一組經線交織在織物表面顯色，另三組緯線與另一組經線交織在織物背面背襯，由此形成多個雙經四緯提花結構的單緯漸變顯色結構模型。

（2）表層顯色組織設計：

選擇三原組織中的斜紋或緞紋作為基本組織設計表層顯色組織，基本組織的經、緯組織循環數R相等，5≤R≤48，基于基本組織，設計一組影光組織形成表層顯色組織庫，組織點增加/減少方向為緯向，任意組織點緯向增加/減少量為M。

當M=R時，表層顯色組織數量最少，為R-1個，

當M=1時，表層顯色組織數量最多，為（R-1）²個。

（3）里層背襯組織設計：

依據雙層結構設計中表層顯色組織與里層背襯組織選擇的要求，里層背襯組織循環數與表層顯色組織循環數相等或互為整倍數關系。

同時，為滿足織物結構交織平衡的技術要求，在相同的組織循環內，里層背襯組織的經、緯交織次數要求與表層顯色組織相同或相近，或里層背襯組織與表層顯色組織使用相同組織。

單緯漸變時，除表緯外，剩余三組里緯與里經交織，依據緯三重組織設計方法，分別形成里層背襯組織I、里層背襯組織II和里層背襯組織III，且里層背襯組織I 既遮蓋里層背襯組織II，也遮蓋里層背襯組織III，同時，里層背襯組織II遮蓋里層背襯組織III。

（4）接結組織設計：

接結組織循環數與表層顯色組織循環數相等或互為整倍數關系，表層顯色組織在基本組織基礎上經過緯向加強得到影光組織庫后，選擇里經表緯接結法進行織物表層與里層的固結。